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重金屬微汙染物檢測：ICP-MS 技術分享與應用說明
微量元素分析的三大利器
- 原子吸收光譜法 (AAS)：一次測定一個元素
- 感應耦合電漿發射光譜法 (ICP-OES)：一次測定多個元素
- 感應耦合電漿質譜法 (ICP-MS)：一次測定多個元素，MS大幅提升分析選擇性及靈敏度
Thermo Fisher ICP-MS 產品組合
我們擁有多樣產品組合，與您一同面對不同挑戰！
如何選擇您的ICP-MS呢？
您可考量應用是否多元，以及儀器靈敏度需求，選出最適合的ICP-MS。
透過5個問題及3個步驟一次搞定！(可以掃QR-Code看看喔！)
Q1：是否充分了解樣品基質？與其可能含有的不純物
Yes：iCAP RQ ICP-MS
No：下一題
Q2: 是否需要極致的偵測極限？
Yes：下一題
No：iCAP TQ ICP-MS
Q3: 是否有同位素比值的數據需求？
Yes：Neoma MC-ICP-MS (最高精度)
Yes：Element 2/XR HR-ICP-MS (SEM)
| iCAP RQ及iCAP TQ | Element 2 | |
| ICP-MS 消除干擾機制的比較 | 透過反應的方式將目標分析元素與干擾分離。 於化學品中，需要比較專一的使用，才能有效的達到最高靈敏度。 | 以物理的方式，來切換解析度 (狹縫控制) 。 可以多樣化使用，切換不同基質亦可有效達到最高靈敏度。 |
分析參數優化的輔助軟體 不同機型有對應之軟體可以協助挑選出合適之解除干擾的方式 | Q-ICP-MS/Reaction Finder 易學易用！可以直接協助選擇適合的解除干擾反應方式，針對不同的元素，有其不同的同位素可以選擇之外，也會提供同位素強度及其可能的干擾物質。 | HR-ICP-MS/Interference Workshop 可以根據基質組成之特性進行設定，提供常見干擾物供選擇，在選擇解析度後，可以透過圖示看出該設定能否有效移除干擾。 |
應用範例
硫酸
半導體常使用之化學品，用於移除晶圓表面的有機汙染物。
應用筆記
氨水
半導體常使用之化學品，用以產生蝕刻試劑 (NH4F)或光罩材料(Si3N4) 。
應用筆記
光阻劑 (PGMEA, NMP)
半導體常使用之化學品，用以保護微電路 (sub-um)之製造，容易產生多原子離子(Polyatomic ions)之干擾。
應用筆記
TMAH
半導體常使用之化學品，用以移除晶圓表面的汙染物與光刻製程。
應用筆記
奈米粒子的應用
在文獻中常見以Nanoparticle或Single particle為主，對於Q-ICP-MS及HR-ICP-MS都有專門的平台進行數據處理，其主要之功能是可將依時間分析所得訊號之圖譜，轉換為粒徑及數量之圖譜。
應用筆記