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隨著對行動裝置、雲計算、物聯網 (IoT)、汽車,人工智能和其他用途的需求增加,對半導體晶圓的需求亦將持續強勢成長。半導體製造 (FAB) 成本昂貴,而製程複雜性亦高,讓許多業內人士一直期待能提高生產效率。
提高生產效率的關鍵是確保最高的晶圓良率。如圖 1 所示,從設計到最終組裝和包裝的過程,每個階段都會影響良率產能。提高產能的主要關注點是在元件製造過程中確保全程 500-1500 個生產步驟的品質,並管理晶圓在製造環境中的暴露情況,包括潔淨室內空氣、超純水 (UPW)、化學品以及惰性和反應性氣體。
控制製程步驟和晶圓環境以滿足常規晶圓合規性的日常挑戰需要使用許多不同的定性技術,包括電子顯微鏡和能夠使用分析儀器的人員。 學習關於半導體製造以及 Thermo Fisher Scientific 的電子顯微鏡和分析儀器的知識,能協助您控制製程步驟並分析半導體製造全程的晶圓環境,以確保盡可能達到最高的生產量。
檢視半導體製造不同階段的品質控制(QC)挑戰。
了解當產業面臨物件幾何形狀縮減、新材料和新架構時,對於晶圓製造控制的電子和離子顯微鏡工作流程的需求情況,以及如何應用於解決製程導致的產能損失。
了解用於監測製造環境引起的晶圓污染的分析方法,化學品和試劑的超微量金屬分析、超純水的陰離子分析和電鍍液分析。