赛默飞科技MAGGCIS 双模离子源在同一台XPS仪器上可对软材料和硬材料进行深度剖析和表面清洁。完全通过Avantage数据系统在气体团簇溅射模式和单原子溅射模式切换，而且约在几秒钟之内就可完成切换。

双模离子源的优点

研究触摸屏上防油涂层、测量生物医疗器械上等离子沉积膜、探索有机LED或太阳能电池都需要用深度剖析功能刻蚀和测量材料各层。

单原子离子源用于深度剖析和表面清洁已有多年，但是用于软物质例如聚合物受到限制。离子会损伤表面，改变分析物的化学性质。新颖的气体团簇离子源将克服这些限制，可分析多种以前不宜进行XPS深度剖析的材料。

新材料的XPS分析

双模离子源既可剥离硬物质，也可剥离软物质而不改变表面的化学性质。XPS系统安装单原子氩离子枪特别适合无机物材料。气体团簇离子源的离子束减少了进入样品表面中的能量，从而降低样品损伤。

MAGCIS离子源产生重原子团簇。用弱结合气体原子团簇仍可剥离物质，但能量和单电荷分散到整个团簇上。在样品表面上大大减少了损伤区，因为团簇撞击样品显著减少了进入材料中的能量，得到的XPS谱可精确表示真实的表面化学性质。

MAGCIS的多模式深度剖析

器件常常并不是基于大约一种材料，而是一种有机物和无机物化合物。这里列举一个例子，用单原子和气体团簇离子刻蚀一种有机FET（场效应管）。

MAGCIS源的双工作模式便于深度剖析有机材料和无机材料。赛默飞科技Avantage XPS数据系统在实验测量时可控制单一工作模式间的切换。

MAGCIS源在深度剖析的第一阶段以团簇模式工作，保持了易损伤金属有机化合物的化学性质，然后剖析到无机层再切换到单原子工作模式，于得到了整个器件的全过程深度剖析。