Kevin Fairfax:Materials Analysis History,Products and Markets |
程斌: X射线光电子能谱测试规范化探讨 |
唐定国: XPS在热电材料研究中心的应用 |
盛世善: 与250xi联用的特殊样品制备系统 |
王海: 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 |
Richard White: XPS depth Profiling with the new MAGCIS cluster ion source, from polymers to inorganic samples |
吴正龙: 反射式电子能量损失谱和弹性电子散射谱 |
谢斌平: 铁硒超导膜的原位制备和电子结构测量 |
陈建: 表面分析化学深度剖析溅射深度测量 |
蒋栋: Ar+刻蚀对聚合物结构的破坏 |
康强: 氩离子溅射对CrN薄膜表面化学成分的影响 |
王梅玲: Cu(In,Ga)Se2薄膜组成的XPS准确测量 |
张治忠: 电子显微成分分析中的若干问题与解决方案 |
Riley Chris: Theta Probe A tool for characterizing ultra thin films and self assembled monolayers using parallel angle resolved XPS (ARXPS) |
刘芬: XPS在高分子材料研究中的应用 |
程斌: GB/T25184-2010《X射线光电子能谱仪检定方法》用于ESCALAB250系列仪器内部校准的探讨 |
刘雍: XPS Study on heavy fermion system |
崔云: XPS在强激光材料中的应用及问题 |
吴正龙: 表明化学分析 X射线光电子能谱强度标的重复性和一致性 |
Andrew Wright: Avantage Datasystem |
寿林: 十年回顾与展望 |
张志强: 赛默飞表面分析仪器的日常维护 |
王娜: 新型DXRxi显微拉曼成像光谱仪 / 新型picoSpin80 核磁共振波谱仪 |
尚欣: XRF新技术在材料分析中的应用&颠覆性的XRD技术解析 |
孙文彬: 哈克流变仪介绍及其在材料加工表征中的应用 |