功率半导体器件和应用

能源效率、移动性和绿色技术推动了功率器件开发的持续创新。多种“绿色”应用将切换功率放大器推向更极端的操作条件,影响从简单二极管到横向和纵向 MOSFET、硅和碳化硅 IGBT 以及氮化镓 JFET 的一切。更高的电压、频率和温度需要提高产品质量和可靠性。良率受到越来越复杂的工艺、新型材料和基板以及应用特定封装(旨在更有效地散热)的挑战。

随着性能需求的增加和功率技术的进步,功率器件生产商及其客户需要在运行条件下快速确定故障位置的工具。材料、接口和器件结构的后续表征需要精确的高通量分析。

功率半导体器件故障定位

功率器件对故障定位提出了独特的挑战,主要是功率器件架构和布局的原因。与使用微小晶体管的超大规模集成的逻辑和内存技术不同,功率技术基于覆盖数百平方毫米的单个晶体管。切换功率拓扑通过连接二极管和分立器件创建了“大海捞针”情景,用于检测缺陷。虽然集成电路对开路和短路同样敏感,但功率器件可靠性通常与短路相关。在高电压、高电流条件下,功率器件中的小泄漏通道会迅速形成灾难性故障。

在泄漏通道变成完全短路之前检测和定位该通道对于满足可靠性标准和防止责任问题至关重要。早期检测可能指向基板或外延层中的晶体缺陷、金属桥或粒子,甚至栅氧化层中的弱点。在微米厚的金属化板下定位小泄漏电流并不是一个微不足道的挑战。准确定位缺陷以确保其成功的物理表征更具挑战性。适用于逻辑和内存器件的方法和技术不一定适用于功率器件。

宽带隙功率器件

宽带隙半导体器件由能量带隙大于典型半导体材料(如硅和砷化镓)的材料组成。其固有特性使它们能够以更高的电压、电流和频率工作,因此非常适合于功率应用。目前,由碳化硅和氮化镓等材料组成的宽带隙功率器件正被用于各种功率应用,包括电动/混合动力汽车以及能量存储和分配行业。这些材料的进一步研究和优化需要高分辨率分析和表征,以满足这些市场的器件性能、安全性和质量要求。

Thermo Fisher Scientific 提供针对功率器件独特挑战而优化的多种故障分析工作流程。有关表征电流-电压特性、检测泄漏电流以及分析现代功率器件材料和工艺的更多信息,请点击以下链接。


资源

应用

半导体寻路

半导体探索和开发

先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。

半导体良率提升和计量

良率提升和计量

我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能,旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。

半导体故障分析

半导体故障分析

越来越复杂的半导体器件结构导致更多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。

物理和化学表征

物理和化学表征

持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程,可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。

ESD半导体鉴定

ESD 半导体鉴定

每个静电放电 (ESD) 控制计划都必须识别对 ESD 敏感的器件。我们提供一整套ESD测试系统,帮助满足您的器件鉴定要求。


技术

热故障隔离

本地功率耗散分布不均匀可能导致较大的局部温度上升,从而导致设备故障。我们提供采用高灵敏度锁定红外热成像 (LIT) 技术进行热故障隔离的独特解决方案。

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光学故障隔离

半导体制造中越来越复杂的设计使故障和缺陷隔离变得越来越复杂。光学故障隔离技术使您可以分析电活性设备的性能,以定位导致设备故障的关键缺陷。

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半导体扫描电子显微镜分析和成像

赛默飞世尔科技提供适合半导体实验室每个功能的扫描电子显微镜,从一般成像任务到高级故障分析技术,都需要精确的电压对比测量。

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半导体器件的TEM样品制备

Thermo Scientific DualBeam 系统为半导体器件的原子尺度分析提供了准确的 TEM 样品制备。自动化和先进的机器学习技术可以在正确的位置生成高质量的样品,并且单位样品成本低。

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半导体TEM成像和分析

Thermo Fisher Scientific 透射电镜可对半导体器件进行高分辨率成像和分析,使制造商能够校准工具集、诊断故障机制并优化整体流程产量。

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器件扁平化

逐渐缩小的尺寸配以先进的设计和结构,导致半导体的故障分析变得越来越具有挑战性。器件无损扁平化是检测埋藏的电气故障和故障的关键技术。

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纳米探针

随着设备复杂性的增加,隐藏缺陷的位置数量也随之增加。纳米探针可提供电气故障的精确定位、这对于有效的透射电镜故障分析工作流程至关重要。

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半导体激光烧蚀

激光烧蚀可为半导体器件提供高通量减薄,以便在保持样品完整性的同时使用电子显微镜进行成像和分析。访问大容量3D数据并优化减薄条件,从而完美匹配您的样品类型。

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ESD 合规性测试

静电放电(ESD)会损坏半导体和集成电路中的小功能和结构。我们提供一套全面的测试设备,用以验证您的设备是否符合目标 ESD 合规标准。

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电路编辑

先进的专用电路编辑和纳米原型设计解决方案将新型气体输送系统与广泛的化学品组合和聚焦离子束技术相结合,为半导体器件开发提供无与伦比的控制和精确度。

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SEM 计量

扫描电子显微镜可以纳米尺度提供准确可靠的计量数据。自动化的超高分辨率 SEM 计加快了内存、逻辑和数据存储应用的利润产出时间和上市时间。

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APT 样品制备

原子探针断层扫描 (APT) 提供材料的原子分辨率 3D 组成分析。聚焦离子束 (FIB) 显微镜是一项为 APT 表征进行高质量、定向和特定样品制备的基本技术。

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热故障隔离

本地功率耗散分布不均匀可能导致较大的局部温度上升,从而导致设备故障。我们提供采用高灵敏度锁定红外热成像 (LIT) 技术进行热故障隔离的独特解决方案。

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光学故障隔离

半导体制造中越来越复杂的设计使故障和缺陷隔离变得越来越复杂。光学故障隔离技术使您可以分析电活性设备的性能,以定位导致设备故障的关键缺陷。

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半导体扫描电子显微镜分析和成像

赛默飞世尔科技提供适合半导体实验室每个功能的扫描电子显微镜,从一般成像任务到高级故障分析技术,都需要精确的电压对比测量。

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半导体器件的TEM样品制备

Thermo Scientific DualBeam 系统为半导体器件的原子尺度分析提供了准确的 TEM 样品制备。自动化和先进的机器学习技术可以在正确的位置生成高质量的样品,并且单位样品成本低。

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半导体TEM成像和分析

Thermo Fisher Scientific 透射电镜可对半导体器件进行高分辨率成像和分析,使制造商能够校准工具集、诊断故障机制并优化整体流程产量。

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器件扁平化

逐渐缩小的尺寸配以先进的设计和结构,导致半导体的故障分析变得越来越具有挑战性。器件无损扁平化是检测埋藏的电气故障和故障的关键技术。

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纳米探针

随着设备复杂性的增加,隐藏缺陷的位置数量也随之增加。纳米探针可提供电气故障的精确定位、这对于有效的透射电镜故障分析工作流程至关重要。

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半导体激光烧蚀

激光烧蚀可为半导体器件提供高通量减薄,以便在保持样品完整性的同时使用电子显微镜进行成像和分析。访问大容量3D数据并优化减薄条件,从而完美匹配您的样品类型。

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ESD 合规性测试

静电放电(ESD)会损坏半导体和集成电路中的小功能和结构。我们提供一套全面的测试设备,用以验证您的设备是否符合目标 ESD 合规标准。

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电路编辑

先进的专用电路编辑和纳米原型设计解决方案将新型气体输送系统与广泛的化学品组合和聚焦离子束技术相结合,为半导体器件开发提供无与伦比的控制和精确度。

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SEM 计量

扫描电子显微镜可以纳米尺度提供准确可靠的计量数据。自动化的超高分辨率 SEM 计加快了内存、逻辑和数据存储应用的利润产出时间和上市时间。

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APT 样品制备

原子探针断层扫描 (APT) 提供材料的原子分辨率 3D 组成分析。聚焦离子束 (FIB) 显微镜是一项为 APT 表征进行高质量、定向和特定样品制备的基本技术。

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样品


半导体材料和器件表征

随着半导体器件的缩小和变得越来越复杂,半导体产品需要新的设计和结构。高效的 3D 分析工作流程可以缩短器件开发时间,最大程度提高产量,并确保器件符合行业未来需求。

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产品

仪器卡片原件样式表

Spectra 200

  • 用于 30-200 kV 加速电压的高分辨率和对比度成像
  • 宽间隙极片设计为 5.4 mm 的对称 S-TWIN/X-TWIN 物镜
  • 60 kV-200 kV 范围的亚埃 STEM 成像分辨率

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Talos F200E TEM

  • 半导体和微电子装置的高质量 (S)TEM 成像
  • 使用 EDS 进行精确、高速的化学表征
  • 专用半导体相关应用

ELITE 系统

  • 完全无损
  • 快速识别装配板上有缺陷的组件以进行准确的处置
  • 以千分尺准确度定位 x-y 缺陷,深度位置准确度高达 20 µm

Hyperion II 系统

  • 原子力探测
  • 定位晶体管故障
  • 集成式 PicoCurrent (CAFM)

nProber IV

  • 定位晶体管和 BEOL 故障
  • 热纳米探测(-40°C 至 150°C)
  • 半自动操作

Nexsa G2 XPS

  • 微焦点 X 射线源
  • 独特的多技术选项
  • 用于单原子和簇离子深度剖析的双模式离子源

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