강력한 ICP-OES 시스템

당사의 강력한 ICP-OES 시스템은 사용이 간편한 소프트웨어를 제공하며 단일 원소 AAS와 다중 원소 마이크로파 플라즈마 기술에 비해 매우 뛰어난 다중 원소 검출 기술을 제공합니다. 이 시스템은 시료 처리량이 적은 실험실과 해당 기술을 처음 사용하는 사용자나 다중 원소 분석을 위한 간단한 솔루션이 필요한 실험실에 이상적입니다.

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고급 고처리량 ICP-OES 시스템

민감한 다중 원소 검출로 데이터 요구 사항을 충족시키는 고매트릭스 미량 원소 시료를 분석하십시오. 이 기기는 한 번의 측정에서 전체 파장 범위를 측정하는 iFR 분석 모드 또는 더 높은 감도로 스펙트럼의 UV 영역을 측정하는 EUV 분석 모드를 모두 포함합니다.

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iCAP PRO Series ICP-OES Product Tour
iCAP PRO 시리즈 ICP-OES 시스템 3D 투어

iCAP PRO 시리즈 ICP-OES 시스템의 내부를 3D 투어로 자세히 살펴보세요. 주요 기능의 동영상, 관련 문서, 악세서리 정보까지 모두 확인하실 수 있습니다.

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 iCAP PRO ICP-OESiCAP PRO X ICP-OESiCAP PRO XP ICP-OESiCAP PRO XPS ICP-OES
플라즈마 뷰(plasma view)수직 방사형 또는 수직 듀오
시작 시간1시간(꺼진 상태에서)15분(대기 상태에서)5분(대기 상태에서)
파장 범위iFR 모드 167.021 nm - 852.145 nmiFR 모드 167.021 nm - 852.145 nm
eUV 모드 167.021 nm - 240.063 nm
분해능 @ 200nm7 pm
측정 모드iFRiFR 및 eUV
카메라 기술CID821
전체 스펙트럼 포착
RF 소스 방사형1150 W750 W, 1150 W 또는 1350 W750 ~ 1600 W
RF 소스 듀오1150 W750 W, 1150 W 또는 1350 W750 ~ 1600 W
가스 유량 조절최적화된 MFC변형된 MFC
플라즈마 가스12.5 L/분으로 고정고정 및 최적화:
8.5, 12.5 또는 14.5 L/분
0 ~ 20 L/min
보조 가스0.5 L/분으로 고정선택 가능
0.5, 1 또는 1.5 L/분
0 ~ 2 L/min
네뷸라이저 가스0.3 ~ 0.8L/분0 ~ 1.5 L/min0.0 ~ 1.5 L/분
추가 가스0 ~ 0.25 L/min

ICP-OES (ICP-AES) 학습 센터

 

유도 결합 플라즈마 분광 분석법(ICP-OES) 또는 유도 결합 플라즈마 원자 방출 분광법(ICP- AES)은 환경, 금속 가공, 지질학, 석유화학, 제약, 식품 분야 등 다양한 응용에 활용되는 분석 기술입니다. 수성 및 유기 액체, 고체와 같은 다양한 시료 유형 내 무기 원소를 분석할 수 있습니다. 

ICP-OES 기기의 원리, 시료 전처리 방법 등 더 많은 정보를 보시려면 ‘학습 센터’를 방문하세요.

* 필수 항목

Style Sheet for Global Design System