Thermo Scientific NEXS Software goes far beyond a CAD viewer and stage driver by facilitating fault isolation, failure analysis, sample preparation and circuit edit. NEXS Software enables diverse workflows by providing CAD connectivity with Thermo Scientific analytical equipment.

NEXS Software directly reads/displays the mask data and drives the system stage accurately to fault or edit locations.

 


Key Features

  • Reads/displays GDS2 and OASIS mask data
  • Creates cache database for faster re-load, rendering and tracing (GDS only)
  • Connects to most Thermo Scientific tools used for EFA, PFA and Circuit Edit space
  • Supports overlaying CAD on microscope image
  • Auto-syncs position/magnification between NEXS and Circuit Edit system for a more seamless user experience
  • Annotates layout, navigates by text location point, and receives marked hotspot locations
  • Reads popular box, text and net trace formats (.vl, .dl, .hl)
  • Traces/highlights nets and cells
  • Reads software diagnostic callouts and scan chains from various formats (.vl, .sigps.txt, query.txt)

Specifications

Technical specifications

  • Windows® 10 – Runs on Thermo Scientific support PC (SPC)
  • 64-bit Linux OS – Can run on Linux server farm, network or local server
  • RAM and hard drive requirements vary with CAD database sizes

Database file formats supported

  • GDS2
  • Gnuzip compressed GDS2 (.gz) for Linux only
  • OASIS

Thermo Scientific equipment supported

  • PFA: Helios, Scios, Apreo, Prisma, Verios, Quattro
  • EFA: Meridian, WaferScan, ELITE, nProber
  • Circuit Edit: Centrios, Taipan, OptiFIB IV, V400 ACE

 


Applications

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Desenvolvimento e localização de semicondutores

Microscopia eletrônica avançada, feixe de íon focalizado e técnicas analíticas associadas para identificar soluções viáveis e métodos de desenho para a fabricação de dispositivos semicondutores de alto desempenho.

Análise de falha de semicondutores

Análise de falha de semicondutores

Estruturas de dispositivos semicondutores cada vez mais complexas resultam em mais locais onde defeitos que induzem falhas podem se ocultar. Nossos fluxos de trabalho de última geração o ajudam a localizar e caracterizar problemas elétricos sutis que afetam o rendimento, o desempenho e a confiabilidade.


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Techniques

Isolamento de falha óptica

Projetos cada vez mais complexos dificultam o isolamento de falhas e defeitos na fabricação de semicondutores. As técnicas de isolamento óptico de falhas permitem analisar o desempenho de dispositivos eletricamente ativos para localizar defeitos críticos que causam falhas no dispositivo.

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Edição de circuito

Soluções avançadas e dedicadas de edição de circuitos e nanoprototipagem, que combinam novos sistemas de distribuição de gás com um amplo portfólio de substâncias químicas e tecnologia de feixe de íons focalizados, oferecem controle e precisão incomparáveis para o desenvolvimento de dispositivos semicondutores.

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Isolamento de falha óptica

Projetos cada vez mais complexos dificultam o isolamento de falhas e defeitos na fabricação de semicondutores. As técnicas de isolamento óptico de falhas permitem analisar o desempenho de dispositivos eletricamente ativos para localizar defeitos críticos que causam falhas no dispositivo.

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Edição de circuito

Soluções avançadas e dedicadas de edição de circuitos e nanoprototipagem, que combinam novos sistemas de distribuição de gás com um amplo portfólio de substâncias químicas e tecnologia de feixe de íons focalizados, oferecem controle e precisão incomparáveis para o desenvolvimento de dispositivos semicondutores.

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Serviços de microscopia eletrônica

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