As the dimensions of semiconductor device structures shrink and become more complex, defect localization and failure analysis become more critical, and more challenging. High-density interconnects, wafer-level stacking, flexible electronics, and integral substrates mean that failure-inducing defects have more places to hide. Even worse, these failures can occur at the device packaging stage, resulting in an intolerable loss of yield and an increase in time-to-market.

Advanced analytical tools are essential for the detection of any electrical defects that can negatively influence yield, reliability, or performance. With the right equipment, the time and cost associated with electrical fault isolation can be reduced by quickly extracting comprehensive defect data from the sample.

Thermo Fisher Scientific offers advanced analytical tools for fast physical and electrical failure analysis. Our workflows allow you to localize and characterize subtle electrical issues that affect yield, performance, and reliability. Click through to our technique or product pages for additional information.
 


Semiconductor defect localization and analysis workflow examples

 

 

Style Sheet for Komodo Tabs

Techniques

Isolamento de falha óptica

Projetos cada vez mais complexos dificultam o isolamento de falhas e defeitos na fabricação de semicondutores. As técnicas de isolamento óptico de falhas permitem analisar o desempenho de dispositivos eletricamente ativos para localizar defeitos críticos que causam falhas no dispositivo.

Saiba mais ›

Isolamento de falha térmica

A distribuição desigual da dissipação de energia local pode causar grandes aumentos localizados de temperatura, causando a falha do dispositivo. Oferecemos soluções exclusivas para isolamento térmico de falhas com termografia por infravermelho (LIT) de alta sensibilidade.

Saiba mais ›

Aquisição de imagens e análise TEM de semicondutores

Os microscópios eletrônicos de transmissão da Thermo Fisher Scientific oferecem imagens de alta resolução e análise de dispositivos semicondutores, permitindo que os fabricantes calibrem conjuntos de ferramentas, diagnostiquem mecanismos de falha e otimizem o rendimento geral do processo.

Saiba mais ›

Análise e geração de imagens de semicondutores

A Thermo Fisher Scientific oferece microscópios eletrônicos de varredura para todas as funções de um laboratório de semicondutores, desde tarefas gerais de aquisição de imagens até técnicas avançadas de análise de falhas que exigem medições precisas de contraste de tensão.

Saiba mais ›

Nanoamostragem

Conforme a complexidade do dispositivo aumenta, também aumenta o número de locais onde os defeitos podem ficar ocultos. A nanoamostragem fornece a localização precisa de falhas elétricas, o que é crítico para um fluxo de trabalho eficaz na análise de falhas na microscopia eletrônica de transmissão.

Saiba mais ›

Ablação a laser de semicondutores

A ablação a laser fornece desbaste de alto rendimento de dispositivos semicondutores para aquisição de imagens e análise com microscopia eletrônica e, ao mesmo tempo, preserva a integridade da amostra. Acesse dados 3D de grande volume e otimize as condições de desbaste com melhor adequação ao tipo da amostra.

Saiba mais ›

Preparação de amostra APT

A tomografia por sonda atômica (APT) fornece análise de composição de resolução atômica 3D de materiais. A microscopia de feixe de íons focalizados (FIB) é uma técnica essencial para a preparação de amostra de alta qualidade, orientada e específica de local para a caracterização APT.

Saiba mais ›

Remoção de camadas de dispositivo

Reduzir o tamanho do recurso, juntamente com um desenho e arquitetura avançados, resulta em uma análise de falha cada vez mais desafiadora para semicondutores. A remoção de camadas sem danos aos dispositivos é uma técnica crítica para a detecção de defeitos e falhas elétricas ocultos.

Saiba mais ›

Teste de conformidade ESD

A descarga eletrostática (ESD) pode danificar pequenas características e estruturas em semicondutores e circuitos integrados. Oferecemos um conjunto abrangente de equipamentos de teste que verifica se os dispositivos atendem aos padrões de conformidade de ESD desejados.

Saiba mais ›

Isolamento de falha óptica

Projetos cada vez mais complexos dificultam o isolamento de falhas e defeitos na fabricação de semicondutores. As técnicas de isolamento óptico de falhas permitem analisar o desempenho de dispositivos eletricamente ativos para localizar defeitos críticos que causam falhas no dispositivo.

Saiba mais ›

Isolamento de falha térmica

A distribuição desigual da dissipação de energia local pode causar grandes aumentos localizados de temperatura, causando a falha do dispositivo. Oferecemos soluções exclusivas para isolamento térmico de falhas com termografia por infravermelho (LIT) de alta sensibilidade.

Saiba mais ›

Aquisição de imagens e análise TEM de semicondutores

Os microscópios eletrônicos de transmissão da Thermo Fisher Scientific oferecem imagens de alta resolução e análise de dispositivos semicondutores, permitindo que os fabricantes calibrem conjuntos de ferramentas, diagnostiquem mecanismos de falha e otimizem o rendimento geral do processo.

Saiba mais ›

Análise e geração de imagens de semicondutores

A Thermo Fisher Scientific oferece microscópios eletrônicos de varredura para todas as funções de um laboratório de semicondutores, desde tarefas gerais de aquisição de imagens até técnicas avançadas de análise de falhas que exigem medições precisas de contraste de tensão.

Saiba mais ›

Nanoamostragem

Conforme a complexidade do dispositivo aumenta, também aumenta o número de locais onde os defeitos podem ficar ocultos. A nanoamostragem fornece a localização precisa de falhas elétricas, o que é crítico para um fluxo de trabalho eficaz na análise de falhas na microscopia eletrônica de transmissão.

Saiba mais ›

Ablação a laser de semicondutores

A ablação a laser fornece desbaste de alto rendimento de dispositivos semicondutores para aquisição de imagens e análise com microscopia eletrônica e, ao mesmo tempo, preserva a integridade da amostra. Acesse dados 3D de grande volume e otimize as condições de desbaste com melhor adequação ao tipo da amostra.

Saiba mais ›

Preparação de amostra APT

A tomografia por sonda atômica (APT) fornece análise de composição de resolução atômica 3D de materiais. A microscopia de feixe de íons focalizados (FIB) é uma técnica essencial para a preparação de amostra de alta qualidade, orientada e específica de local para a caracterização APT.

Saiba mais ›

Remoção de camadas de dispositivo

Reduzir o tamanho do recurso, juntamente com um desenho e arquitetura avançados, resulta em uma análise de falha cada vez mais desafiadora para semicondutores. A remoção de camadas sem danos aos dispositivos é uma técnica crítica para a detecção de defeitos e falhas elétricas ocultos.

Saiba mais ›

Teste de conformidade ESD

A descarga eletrostática (ESD) pode danificar pequenas características e estruturas em semicondutores e circuitos integrados. Oferecemos um conjunto abrangente de equipamentos de teste que verifica se os dispositivos atendem aos padrões de conformidade de ESD desejados.

Saiba mais ›

Samples


Materiais semicondutores e caracterização de dispositivos

À medida que os dispositivos semicondutores encolhem e se tornam mais complexos, há a necessidade de novos desenhos e estruturas. Os fluxos de trabalho de análise 3D de alta produtividade podem reduzir o tempo de desenvolvimento de dispositivos, maximizar o rendimento e garantir que os dispositivos atendam às necessidades futuras do setor.

Saiba mais ›


Products

Folha de estilo para cartões de instrumentos original

Helios G4 EXL DualBeam

  • Controle preciso e conhecimento da temperatura da amostra
  • Melhor estabilidade da amostra, navegação e correção assistida de desvio da amostra nos eixos x, y e z
  • Avanço das funções de aquisição de imagens e filmes de alta qualidade

Helios 5 DualBeam

  • Preparação de amostra TEM ultrafina, totalmente automatizada e de alta qualidade
  • Alta produtividade, subsuperfície de alta resolução e caracterização 3D
  • Recursos rápidos de nanoprototipagem

Metrios AX TEM

  • Opções de automação para suportar qualidade, consistência, metrologia e OPEX reduzido
  • Aproveita o aprendizado de máquina para obter funções automáticas superiores e reconhecimento de recursos
  • Fluxos de trabalho para a preparação de lamela in situ e ex situ

Scios 2 DualBeam

  • Compatibilidade total com amostras magnéticas e não condutoras
  • Subsuperfície de alto rendimento e caracterização 3D
  • Recursos avançados de facilidade de uso e automação

ExSolve WTP DualBeam

  • Capacidade de preparação de lamelas de 20 nm de espessura específicas do local em wafers inteiros de até 300 mm de diâmetro
  • Atende às necessidades que exigem amostragem automatizada de alta taxa de transferência em nós de tecnologia avançada

Verios 5 XHR SEM

  • SEM monocromática para resolução subnanométrica em toda a faixa de energia de 1 keV a 30 keV
  • Fácil acesso a energias de aterrissagem de feixe de até 20 eV
  • Excelente estabilidade com o estágio piezo como padrão

Quattro ESEM

  • FEG SEM de alta resolução ultraversátil com capacidade ambiental única (ESEM)
  • Observe todas as informações de todas as amostras com imagens simultâneas SE e BSE em cada modo de funcionamento

Prisma E SEM

  • SEM de nível básico com excelente qualidade de imagem
  • Carregamento e navegação de amostras fáceis e rápidos para várias amostras
  • Compatível com uma ampla gama de materiais graças aos modos de vácuo dedicados

Apreo 2 SEM

  • SEM de alto desempenho para resolução geral nanométrica ou subnanométrica
  • Detector retroespelhado T1 na coluna para contraste de materiais sensíveis e com taxa de TV
  • Excelente desempenho em longas distâncias de trabalho (10 mm)

Phenom ProX Desktop SEM

  • SEM de mesa de alto desempenho com detector EDS integrado
  • Resolução <8 nm (SE) e <10 nm (BSE); ampliação de até 150.000 vezes
  • Detector SE opcional
 
 

Centrios CE

  • Imagem superior, resolução de desbaste
  • Maior precisão e controle do desbaste
  • Construído na plataforma Helios DualBeam da Thermo Scientific

MK.4TE ESD e sistema de teste Latch-Up

  • Operações baseadas em relé rápido – até 2304 canais
  • Precondicionamento avançado do dispositivo com seis níveis separados de acionamento de vetor
  • Estímulo com trava totalmente compatível e influência do dispositivo

Sistema ELITE

  • Completamente indestrutível
  • Rápida identificação do componente defeituoso na placa de montagem para um posicionamento preciso
  • Localização do defeito em x-y com a precisão micrométrica, com uma localização de profundidade precisa em até 20 µm

nProber IV

  • Localize as falhas de transistor e BEOL
  • Nanossondagem térmica (-40 °C a 150 °C)
  • Operação semiautomatizada

Sistema Meridian S

  • Diagnóstico de falhas com a tecnologia de sonda ativa
  • Opções de estimulação a laser estática (SLS/OBIRCH) e emissão de fótons
  • Compatível com estimulação de microssondagem e de dispositivos de cartão de sonda

Sistema Meridian WS-DP

  • Detecção de emissão de fótons de baixa tensão, baixo ruído e alta sensibilidade com sistemas de câmera de banda larga DBX ou InGaAs
  • Microscópio de varredura a laser com vários comprimentos de onda para análise da cadeia de varredura, mapeamento de frequência, sondagem de transistor e isolamento de falhas

Sistema Meridian 7

  • Isolamento dinâmico de falhas ópticas para nós de 10 nm e inferiores
  • Luz visível e infravermelha de alta resolução
  • Preparação de amostra de alto rendimento para 5 μm amplamente disponível

Sistema Meridian IV

  • Detecção de emissão de fóton DBX de comprimento de onda estendido de alta sensibilidade
  • Detecção de emissão de fótons InGaAs padrão
  • Microscópio de varredura a laser com várias opções de comprimento de onda

Sistema de teste Celestron

  • Teste de TLP no nível de wafer e pacote
  • Gerador de pulso TLP de alta corrente
  • Pode fazer interface com sondas semiautomáticas
  • Software intuitivo para controle e geração de relatórios

Sistema de teste Orion3

  • Teste do modelo do dispositivo carregado
  • Câmeras coloridas duplas de alta resolução
  • Teste densidades até menos de 0,4 mm de distância

Pegasus

  • Testes de acordo com os mais recentes padrões do setor
  • Rede ESD 150 pF/330 Ω de nível de sistema real
  • Conexão de 2 pinos por meio de sondas de wafer para qualquer dispositivo

AutoTEM 5

  • Preparação de amostras S/TEM totalmente automatizada in situ
  • Compatibilidade com geometria de cima para baixo, plana e invertida
  • Fluxo de trabalho altamente configurável
  • Interface de usuário intuitiva e fácil de usar

Software Auto Slice and View 4.0

  • Seccionamento serial automatizado para DualBeam
  • Aquisição de dados multimodais (SEM, EDS, EBSD)
  • Recursos de edição imediatos
  • Posicionamento de corte com base na aresta

Software Ifast

  • Gravador de macro para criação mais rápida de receitas
  • Corredor para operação noturna sem supervisão
  • Ferramentas de alinhamento: reconhecimento de imagem e localização de borda

Software Inspect 3D

  • Ferramentas e filtros de processamento de imagens para correlação cruzada
  • Rastreamento de recurso para alinhamento de imagem
  • Técnica de reconstrução algébrica para comparação de projeção iterativa

Software NEXS

  • Sincronização automática da posição/ampliação entre NEXS e o sistema de edição de circuito para uma experiência do usuário mais uniforme
  • Conecta-se à maioria das ferramentas da Thermo Scientific usadas para o EFA, PFA e espaço de edição de circuito


Style Sheet to change H2 style to p with em-h2-header class

Contact us

Style Sheet to change H2 style to p with em-h2-header class
Folha de estilo para Rodapé de suporte e serviço
Folha de estilo para Fontes
Folha de estilo para Cartões

Serviços de microscopia eletrônica para
semicondutores

Para garantir o desempenho ideal do sistema, fornecemos acesso a uma rede de especialistas em serviços de campo, suporte técnico e peças de reposição certificadas.

Saiba mais ›