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The Thermo Scientific ExSolve wafer TEM prep (WTP) DualBeam (FIB-SEM) dramatically reduces the cost and increases the speed of sample preparation, providing semiconductor and data storage manufacturers with quick and easy access to the data they need to verify and monitor process performance. The ExSolve DualBeam can prepare site-specific TEM lamella, sampling many sites per wafer in a fully-automated process inside the fab, giving semiconductor manufacturers much more information than conventional approaches, while at the same time reducing the capital cost of sample preparation by up to 70 percent.
The ExSolve WTP DualBeam system is an automated, high-throughput sample preparation system that can prepare site-specific, 20 nm thick lamellae on whole wafers up to 300 mm in diameter. It is part of a fast, complete workflow that includes Thermo Scientific TEMLink, and the Thermo Scientific Metrios TEM. The ExSolve DualBeam includes FOUP handling and is designed to be located in the fab near the manufacturing line.
The ExSolve WTP DualBeam workflow addresses the needs of customers that require automated, high-throughput sampling at advanced technology nodes. It complements the capabilities of the Thermo Scientific Helios NanoLab DualBeam 1200AT, which provides more flexible, operator-directed, sample preparation methods, along with additional capabilities such as high-resolution scanning electron microscopy (SEM) imaging and analysis.
Microscopia eletrônica avançada, feixe de íon focalizado e técnicas analíticas associadas para identificar soluções viáveis e métodos de desenho para a fabricação de dispositivos semicondutores de alto desempenho.
Oferecemos recursos analíticos avançados para análise de defeitos, metrologia e controle de processos projetados para ajudar a aumentar a produtividade e melhorar o rendimento em uma variedade de aplicações e dispositivos semicondutores.
Estruturas de dispositivos semicondutores cada vez mais complexas resultam em mais locais onde defeitos que induzem falhas podem se ocultar. Nossos fluxos de trabalho de última geração o ajudam a localizar e caracterizar problemas elétricos sutis que afetam o rendimento, o desempenho e a confiabilidade.
A demanda contínua dos consumidores impulsiona a criação de dispositivos eletrônicos menores, mais rápidos e mais baratos. Sua produção depende de instrumentos e fluxos de trabalho de alta produtividade que fazem imagens, analisam e caracterizam uma ampla gama de semicondutores e dispositivos de exibição.
Os sistemas DualBeam da Thermo Scientific fornecem preparação precisa de amostra TEM para análise em escala atômica de dispositivos semicondutores. A automação e as tecnologias avançadas de aprendizado de máquina produzem amostras de alta qualidade, no local correto e com um baixo custo por amostra.
As rotinas de metrologia TEM avançadas e automatizadas oferecem uma precisão significativamente maior do que os métodos manuais. Isso permite que os usuários gerem grandes quantidades de dados estatisticamente relevantes, com especificidade de nível subangstrom sem o viés do operador.
Os sistemas DualBeam da Thermo Scientific fornecem preparação precisa de amostra TEM para análise em escala atômica de dispositivos semicondutores. A automação e as tecnologias avançadas de aprendizado de máquina produzem amostras de alta qualidade, no local correto e com um baixo custo por amostra.
As rotinas de metrologia TEM avançadas e automatizadas oferecem uma precisão significativamente maior do que os métodos manuais. Isso permite que os usuários gerem grandes quantidades de dados estatisticamente relevantes, com especificidade de nível subangstrom sem o viés do operador.
Para garantir o desempenho ideal do sistema, fornecemos acesso a uma rede de especialistas em serviços de campo, suporte técnico e peças de reposição certificadas.