더 빠르고, 더 작고, 더 상호 연결된 장치에 대한 수요로 원자 규모의 기술 개발이 계속해서 촉진되고 있습니다. 연구자와 엔지니어는 이러한 규모에서 신뢰할 수 있는 빠른 분석 및 특성 분석이 필요하며, 이는 투과전자현미경 검사(TEM)를 통해서만 가능합니다.

Thermo Scientific Talos F200E (주사) 투과전자현미경은 광범위한 반도체 결함 분석 및 연구 응용분야에 맞춤화된 고처리량 에너지 분산 X선 분광학(EDS) 기능을 결합하여 왜곡을 최소화한 고분해능 STEM 및 TEM 영상을 제공합니다.

반도체 및 마이크로전자 장치 분석을 위한 고생산성 솔루션

다양한 물질과 장치에 대해 반복 가능한 고분해능 특성 분석을 제공해야 하기 때문에 빠른 프로세스 개발과 수율 램프(yield ramp) 지원은 반도체 분석 연구소에 상당한 부담을 줍니다. Talos F200E (S)TEM은 이러한 실험실을 염두에 두고 이전 Talos 모델보다 >1.5배 더 빠른 EDS 분석 및 1% 이하의 TEM 이미지 왜곡 비율로 설계되었습니다. 속도 및 반복성이 향상된 Talos F200E (S)TEM은 소자 분석, 결함 특성 분석, 수율 지원을 위한 업계 최고의 제품입니다. 


주요 특징

고품질 (S)TEM 이미징

왜곡을 최소화하고 동시 다중 신호 검출 및 대비에 최적화된 STEM 영상을 제공하는 고처리량 TEM 이미징

신속하고 정밀한 화학물질 특성 분석

신속하고 정밀한 정량/정성 EDS 획득 및 분석

반도체 관련 응용분야 전용

구성품: 검체-스테이지 동기화된 라이브 TEM 이미지 회전, 다중 STEM 검출기의 동시 작동, integrated differential phase contrast (iDPC) 이미징, STEM 시야 매칭, 즉각적인 EDS 맵 정량화, 이미지 왜곡 최소화 등.


사양

재품 표 사항에 대한 스타일시트
X-FEG의 밝기1.8 × 109A/cm2 srad(@200kV)
총 빔 전류> 50nA
EDS 시스템Super-XDual-X
전체 입체각0.9 srad2.56 srad
효과적인 입체각*0.9 srad1.65 srad
검출기4 SDD대형 2 SDD
카메라Thermo Scientific Ceta-M Camera로 왜곡이 적은 4K × 4K
STEMPanther STEM 세그먼트 검출기
SEMI S2인증
STEM 분해능≤0.16nm
TEM 정보 한계≤0.12nm
TEM 라인 분해능≤0.10nm
최대 회절각24˚
Z-이동±0.375 mm
TEM 이미지 선형 왜곡≤1% 
TEM 이미지 변이 (선택 사항)≤1%
Gatan Continuum 필터선택 사항

응용분야

반도체 불량 분석

반도체 불량 분석

반도체 장치 구조가 점점 복잡해짐에 따라 숨겨진 장애 유발 결함이 더 많아지고 있습니다. 당사의 차세대 워크플로우는 사용자가 수율, 성능, 신뢰성에 영향을 미치는 미세한 전기 문제를 로컬화하고 특성을 분석하는 데 도움을 줍니다.

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물리적 및 화학적 특성 분석

지속적인 소비자 수요는 더 작고 빠르며 저렴한 전자 장치를 만들도록 촉진합니다. 그 생산은 광범위한 반도체 및 디스플레이 장치를 이미지화, 분석 및 특성 분석하는 고생산성 기기 및 워크플로우에 의존합니다.

전력 반도체 장치 분석

전력 반도체 장치 분석

전력 장치는 주로 전력 장치 아키텍쳐 및 레이아웃의 결과로서 오류를 국지화를 위한 고유한 과제를 제기합니다. 저희의 전력 장치 분석 도구와 워크플로우는 작동 조건에서 오류 위치를 빠르게 찾고 물질 특성 분석, 인터페이스, 장치 구조에 대한 정밀하고 고처리량의 분석을 제공합니다.

디스플레이 모듈 고장 분석

디스플레이 모듈 고장 분석

디스플레이 기술의 진화를 통해 디스플레이 품질 및 광변환 효율성을 개선하여 다양한 산업 부문의 응용분야를 지원하는 동시에 생산 비용을 지속적으로 절감할 수 있습니다. 당사의 공정 계측, 고장 분석, 연구 및 개발 솔루션은 디스플레이 기업의 이러한 문제를 해결하는 데 도움을 줍니다.


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