bf5a - 응용분야/기술/제품/리소스/문의하기

디스플레이는 우리 일상에서 필수적인 부분입니다. 지난 10년간 퀀텀닷(quantum dot)과 마이크로 LED와 같은 새로운 기술이 등장하면서 주류 디스플레이 기술은 LCD에서 OLED로 전환되었습니다. 해상도, 휘도, 폼 팩터, 안정성 및 품질은 디스플레이 개발의 지속적인 혁신을 이끌고 있습니다.

디스플레이 기술이 발전함에 따라 연구 개발, 공정 계측 및 고장 분석 문제가 증가하면서 빠른 데이터 처리 시간과 신뢰할 수 있는 솔루션이 요구됩니다.

차세대 고급 디스플레이 엔지니어링 기술

디스플레이 품질 및 광 변환 효율을 개선하는 동시에 수율을 지속적으로 늘리고 생산 비용을 줄이는 것이 중요합니다.

주류(OLED) 기술은 더 긴 디스플레이 수명과 새로운 폼 팩터(form factor)를 제공하기 위해 노력하고 있으며, 이는 박막 캡슐화(TFE) 기술의 지속적인 개발을 이끌고 있습니다. 퀀텀닷 성능 향상 필름(QDEF)에서 전자발광성 QD LED로 발전하기 위해서는 정밀한 특성 분석과 미세구조의 크기와 형태를 제어할 수 있어야 합니다. 마이크로 LED의 경우 외부 양자 효율성을 개선하고 누설 전류를 줄이고자 하는 지속적인 요구가 있습니다.  

이러한 발전으로 인해 S/TEM 기반 분석 워크플로우의 나노 스케일 분석, 반복 가능한 성능 및 고품질 데이터를 필요로 하는 새로운 엔지니어링 과제가 대두되었습니다.

Anatomy of a cell phone.

고품질 디스플레이 장치 제조를 위한 반도체 공정 계측

설계자가 디스플레이 기술의 치수를 축소함에 따라 고정밀 계측 필요성이 증가합니다. 픽셀 크기를 줄이면 해상도가 향상되고 디스플레이 두께가 줄어들면서 에너지 변환이 증가합니다. 새로운 아키텍처에는 후면 판의 임계 치수(CD)가 필요하며 측면뿐 아니라 수직 방향에서 발광 장치를 정확하게 제어해야 합니다. 설계 사양이 더욱 엄격해지면서 높은 수준의 자동화 및 반복성을 갖춘 빠른 FIB/SEM 기반 계측 기능이 필요합니다.

디스플레이 기술의 고장 분석

디스플레이 장치 제조는 점점 더 복잡해지고 있습니다. 입자, 오염물 또는 공정 편차에 의한 결함은 패널 수율과 생산성에 영향을 줄 수 있습니다. 픽셀 크기가 가로 방향으로 축소되고 구조적 복잡성이 증가함에 따라 기존의 광학 검사 방법으로는 더 이상 모든 '킬러(killer)' 결함을 탐지하지 못합니다. 패널 또는 완전 조립된 디스플레이 모듈에 결함이 발생하면 결함을 특정 깊이나 수직 층으로 분리하는 것이 더욱 어려워집니다. 이로 인해 고해상도의 이미지를 제공하여 결함을 빠르고 확실하게 식별할 뿐 아니라 외과수술급 정밀도와 최소의 손상으로 대량 시료를 통해 얇은 절편을 전달하는 솔루션과 워크플로우의 중요성이 더 높아집니다.

Thermo Fisher Scientific은 첨단 디스플레이 산업의 R&D, 계측, 및 결함 특성화 요구 사항을 충족하기 위해 독자적이고 종합적인 워크플로우 세트를 제공합니다.

워크플로우 예시
1. 디스플레이 패널 고장 분석 워크플로우:

 

2. 디스플레이 모듈 어셈블리 고장 분석 워크플로우:


리소스

응용분야

pathfinding_thumb_274x180_144dpi

반도체 경로탐색(Pathfinding) 및 개발

고성능 반도체 장치의 제조에 필요한 실행 가능한 솔루션과 설계 방법을 확인하기 위한 고급 전자 현미경 검사, 집속 이온빔 및 관련 분석 기법.

yield_ramp_metrology_2_thumb_274x180

수율 경사 및 계측

당사에서는 다양한 반도체 응용 분야와 장치의 생산성을 높이고 수율을 높일 수 있도록 설계된 결함 분석, 계측 및 공정 관리를 위한 고급 분석 기능을 제공합니다.

반도체 불량 분석

반도체 불량 분석

반도체 장치 구조가 점점 복잡해짐에 따라 숨겨진 장애 유발 결함이 더 많아지고 있습니다. 당사의 차세대 워크플로우는 사용자가 수율, 성능, 신뢰성에 영향을 미치는 미세한 전기 문제를 로컬화하고 특성을 분석하는 데 도움을 줍니다.

physical_characterization_thumb_274x180_144dpi

물리적 및 화학적 특성 분석

지속적인 소비자 수요는 더 작고 빠르며 저렴한 전자 장치를 만들도록 촉진합니다. 그 생산은 광범위한 반도체 및 디스플레이 장치를 이미지화, 분석 및 특성 분석하는 고생산성 기기 및 워크플로우에 의존합니다.

esd_thumb_274x180_144dpi

ESD 반도체 적격성 검사

정전기 방출(ESD)에 민감한 소자를 식별하려면 모든 ESD 관리 계획이 필요합니다. 당사는 기기 적격성 요건을 충족할 수 있도록 완벽한 테스트 시스템 제품군을 제공합니다.


기술

열 고장 분리

로컬 전력 소실의 불균등한 분포는 로컬 온도를 크게 상승시켜 장치 고장을 유발할 수 있습니다. 고감도 LIT(lock-in infrared thermography)에 의해 열 고장 분리를 위한 고유한 솔루션을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 분석 및 이미징

Thermo Fisher Scientific은 일반적인 이미지 생성 작업에서 정밀도 높은 전압 대비 측정이 필요한 고급 고장 분석 기술에 이르까지 반도체 실험실의 모든 기능을 위한 주사전자현미경을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

SEM 계측

주사전자현미경은 나노미터 규모의 정확하고 신뢰할 수 있는 계측 데이터를 제공합니다. 자동 초고분해능 SEM 계측법을 통해 메모리, 로직 및 데이터 스토리지 응용 분야에서 더 빠른 수율 및 출시 시간을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 장치의 시료 준비

Thermo Scientific DualBeam 시스템은 반도체 장치의 원자 단위 분석을 위한 정확한 TEM 시료 준비 기능을 제공합니다. 자동화 및 고급 기계 학습 기술은 정확한 위치에서 고품질 시료를 생성하며 시료당 비용이 낮습니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 TEM 이미지 생성 및 분석

Thermo Fisher Scientific 투과 전자 현미경은 반도체 장치의 고분해능 이미지 생성 및 분석 기능을 제공함으로써, 제조업체에서 도구 세트를 보정하고 고장 메커니즘을 진단하며 전체 공정 수율을 최적화할 수 있도록 해줍니다.

자세히 알아보기 ›

장치 층 제거

기능 크기 축소는 첨단 설계 및 아키텍처와 함께 반도체에 대한 불량 분석을 점차 까다로워지게 하는 결과를 가져옵니다. 장치의 손상 없는 층 제거는 전기적 결함 및 고장을 감지하기 위한 중요한 기법입니다.

자세히 알아보기 ›

ESD 규정 준수성 검사

정전기 방출(ESD)은 반도체와 집적 회로의 작은 특성 및 구조를 손상시킬 수 있습니다. 당사에서는 기기가 표적 ESD 규정 준수 표준을 준수하는지 검증하는 종합적인 검사 장비 세트를 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

열 고장 분리

로컬 전력 소실의 불균등한 분포는 로컬 온도를 크게 상승시켜 장치 고장을 유발할 수 있습니다. 고감도 LIT(lock-in infrared thermography)에 의해 열 고장 분리를 위한 고유한 솔루션을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 분석 및 이미징

Thermo Fisher Scientific은 일반적인 이미지 생성 작업에서 정밀도 높은 전압 대비 측정이 필요한 고급 고장 분석 기술에 이르까지 반도체 실험실의 모든 기능을 위한 주사전자현미경을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

SEM 계측

주사전자현미경은 나노미터 규모의 정확하고 신뢰할 수 있는 계측 데이터를 제공합니다. 자동 초고분해능 SEM 계측법을 통해 메모리, 로직 및 데이터 스토리지 응용 분야에서 더 빠른 수율 및 출시 시간을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 장치의 시료 준비

Thermo Scientific DualBeam 시스템은 반도체 장치의 원자 단위 분석을 위한 정확한 TEM 시료 준비 기능을 제공합니다. 자동화 및 고급 기계 학습 기술은 정확한 위치에서 고품질 시료를 생성하며 시료당 비용이 낮습니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 TEM 이미지 생성 및 분석

Thermo Fisher Scientific 투과 전자 현미경은 반도체 장치의 고분해능 이미지 생성 및 분석 기능을 제공함으로써, 제조업체에서 도구 세트를 보정하고 고장 메커니즘을 진단하며 전체 공정 수율을 최적화할 수 있도록 해줍니다.

자세히 알아보기 ›

장치 층 제거

기능 크기 축소는 첨단 설계 및 아키텍처와 함께 반도체에 대한 불량 분석을 점차 까다로워지게 하는 결과를 가져옵니다. 장치의 손상 없는 층 제거는 전기적 결함 및 고장을 감지하기 위한 중요한 기법입니다.

자세히 알아보기 ›

ESD 규정 준수성 검사

정전기 방출(ESD)은 반도체와 집적 회로의 작은 특성 및 구조를 손상시킬 수 있습니다. 당사에서는 기기가 표적 ESD 규정 준수 표준을 준수하는지 검증하는 종합적인 검사 장비 세트를 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

제품

기기 카드 원본 스타일시트

ELITE 시스템

  • 완전 비파괴
  • 정확한 조치를 위해 조립 보드의 결함 부품을 신속하게 식별
  • 20µm 깊이의 정확한 깊이 위치와 마이크로미터 정확도로 x-y에서 결함 위치 파악

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 갈륨 없이 STEM 및 TEM 시료 준비
  • 다중 모드 표면 하부 및 3D 정보
  • 차세대 2.5 μA 제논 플라즈마 FIB 컬럼

Helios 5 DualBeam

  • 완전 자동 고품질 초박형 TEM 시료 준비
  • 높은 처리량의 고분해능 표면 및 3D 특성 분석
  • 고속 나노 프로토타입 제작 기능

Talos F200E TEM

  • 반도체 및 마이크로전자 장치의 고품질 (S)TEM 이미징
  • EDS를 통한 정밀하고 고속의 화학적 특성 분석
  • 전용 반도체 관련 응용 분야

Apreo 2 SEM

  • 전방위적인 나노미터 미만 분해능을 위한 고성능 SEM
  • 민감하고 TV 속도 물질 대비를 위한 In-column T1 후방산란 검출기
  • 긴 작동 거리에서(10mm)에서 뛰어난 성능

Spectra 200

  • 30 ~ 200kV 가속 전압에서 고분해능 및 콘트라스트 이미지 생성
  • 5.4mm의 wide-gap pole piece 설계에 의한 대칭적 S-TWIN/X-TWIN 대물 렌즈
  • 60kV ~ 200kV에서 Angstrom 미만의 STEM 이미징 분해능

Spectra 300

  • 원자 수준의 최고 분해능으로 구조적, 화학적 정보 제공
  • 30 ~ 300kV의 유연하고 높은 전압 범위
  • 3 렌즈 콘덴서 시스템

문의하기

Style Sheet for Komodo Tabs
Style Sheet to change H2 style to p with em-h2-header class
Style Sheet to change H3 to p with em-h3-header class
Style Sheet to change Applications H3 to p with em-h3-header class
Style Sheet to change H2 style to p with em-h2-header class
Style Sheet for Support and Service footer
Style Sheet for Fonts
Style Sheet for Cards

전자 현미경 서비스
반도체

최적의 시스템 성능을 보장하기 위해 세계 수준의 현장 서비스 전문가 네트워크, 기술 지원 및 인증된 예비 부품을 제공해드립니다.

자세히 알아보기 ›