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보다 광범위하게 연결되며 자율적이고 스마트한 세상에서 필요로 하는 반도체 및 마이크로일렉트로닉스 장치의 혁신을 위해서는 성능, 에너지 효율성, 보안, 비용, 안정성을 지속적으로 개선해야 합니다. 시장 출시 시간 및 생산 시간 단축에도 초점을 맞춰야 합니다. 그러나 지오메트리 축소, 신소재, 새로운 3D 아키텍처 등의 문제로 인해 이러한 지속적 개선이 점점 더 어려워지고 있습니다. 따라서 현재의 2D 계측 및 검사 워크플로우는 장치 제조에 더 이상 적합하지 않습니다. 대신, 이제는 높은 생산성을 제공하는 3D 분석 워크플로우가 제조 공정에 필수적입니다.
결과적으로 제조업체는 이러한 3D 분석 도구와 워크플로우를 사용하여 광범위한 장치 유형에서 생산성을 높이는 데 필요한 특성을 얻을 수 있습니다. 여기에는 ESD 규정 준수 검사, 효율적인 경로 찾기, 고급 이미징 및 분석, 레이어 간 장치 디프로세싱(de-processing), 레이저 애블레이션(laser ablation) 등을 위한 장비와 가능한 한 짧은 시간에 수율을 극대화하는 데 필요한 장비가 포함됩니다.
Thermo Fisher Scientific은 개발을 가속화하고, 수율을 최대화하며, 현재와 미래의 산업 요구를 충족하는 고품질 소자의 생산을 보장하는 가장 광범위한 고생산성 3D 분석 워크플로우 포트폴리오를 제공합니다. 아래 페이지를 통해 저희의 애플리케이션과 워크플로우가 고객의 특정 요구 사항을 어떻게 해결하는지 알아보십시오.
인포그래픽: 40년에 걸친 반도체 분석 혁신
Thermo Fisher: 40년에 걸친 반도체 분석 혁신
전자 산업 분야 40년 이상의 혁신적인 물리적 및 전기적 분석 솔루션을 보유한 Thermo Fisher Scientific은 나노스케일 이미징 및 분석을 위한 초고분해능 도구를 제공하는 세계 최고의 공급업체 중 하나입니다.
The Thermo Scientific Helios DualBeam Family
인포그래픽: 40년에 걸친 반도체 분석 혁신
Thermo Fisher: 40년에 걸친 반도체 분석 혁신
전자 산업 분야 40년 이상의 혁신적인 물리적 및 전기적 분석 솔루션을 보유한 Thermo Fisher Scientific은 나노스케일 이미징 및 분석을 위한 초고분해능 도구를 제공하는 세계 최고의 공급업체 중 하나입니다.
The Thermo Scientific Helios DualBeam Family
반도체 경로탐색(Pathfinding) 및 개발
고성능 반도체 장치의 제조에 필요한 실행 가능한 솔루션과 설계 방법을 확인하기 위한 고급 전자 현미경 검사, 집속 이온빔 및 관련 분석 기법.
수율 경사 및 계측
당사에서는 다양한 반도체 응용 분야와 장치의 생산성을 높이고 수율을 높일 수 있도록 설계된 결함 분석, 계측 및 공정 관리를 위한 고급 분석 기능을 제공합니다.
반도체 불량 분석
반도체 장치 구조가 점점 복잡해짐에 따라 숨겨진 장애 유발 결함이 더 많아지고 있습니다. 당사의 차세대 워크플로우는 사용자가 수율, 성능, 신뢰성에 영향을 미치는 미세한 전기 문제를 로컬화하고 특성을 분석하는 데 도움을 줍니다.
물리적 및 화학적 특성 분석
지속적인 소비자 수요는 더 작고 빠르며 저렴한 전자 장치를 만들도록 촉진합니다. 그 생산은 광범위한 반도체 및 디스플레이 장치를 이미지화, 분석 및 특성 분석하는 고생산성 기기 및 워크플로우에 의존합니다.
ESD 반도체 적격성 검사
정전기 방출(ESD)에 민감한 소자를 식별하려면 모든 ESD 관리 계획이 필요합니다. 당사는 기기 적격성 요건을 충족할 수 있도록 완벽한 테스트 시스템 제품군을 제공합니다.
첨단 메모리 기술
현대의 데이터 수요는 3D NAND, DRAM 및 기타 메모리 구조의 혁신을 주도하고 있습니다. 당사의 메모리 분석 도구 및 워크플로우는 높은 생산성 특성 분석 기능을 제공함으로써 제조업체가 성능, 지연 시간 및 용량 요구를 충족할 수 있도록 합니다.
전력 반도체 장치 분석
전력 장치는 주로 전력 장치 아키텍쳐 및 레이아웃의 결과로서 오류를 국지화를 위한 고유한 과제를 제기합니다. 저희의 전력 장치 분석 도구와 워크플로우는 작동 조건에서 오류 위치를 빠르게 찾고 물질 특성 분석, 인터페이스, 장치 구조에 대한 정밀하고 고처리량의 분석을 제공합니다.
디스플레이 모듈 고장 분석
디스플레이 기술의 진화를 통해 디스플레이 품질 및 광변환 효율성을 개선하여 다양한 산업 부문의 응용분야를 지원하는 동시에 생산 비용을 지속적으로 절감할 수 있습니다. 당사의 공정 계측, 고장 분석, 연구 및 개발 솔루션은 디스플레이 기업의 이러한 문제를 해결하는 데 도움을 줍니다.
Style Sheet for Komodo Tabs
TEM 계측
고급 자동 TEM 계측의 일반적인 절차는 수동 방법에 비해 훨씬 높은 정밀도를 제공합니다. 이를 통해 사용자는 운영자 편견이 없는 옹스트롬 미만 수준의 특이성을 사용하여 통계학적으로 관련된 대량의 데이터를 생성할 수 있습니다.
반도체 TEM 이미지 생성 및 분석
Thermo Fisher Scientific 투과 전자 현미경은 반도체 장치의 고분해능 이미지 생성 및 분석 기능을 제공함으로써, 제조업체에서 도구 세트를 보정하고 고장 메커니즘을 진단하며 전체 공정 수율을 최적화할 수 있도록 해줍니다.
회로 편집
새로운 가스 공급 시스템과 광범위한 화학 및 집속 이온 빔 기술이 결합된 고급 전용 회로 편집 및 나노 프로토타이핑 솔루션은, 반도체 장치 개발을 위한 탁월한 제어 및 정밀도를 제공합니다.
SEM 계측
주사전자현미경은 나노미터 규모의 정확하고 신뢰할 수 있는 계측 데이터를 제공합니다. 자동 초고분해능 SEM 계측법을 통해 메모리, 로직 및 데이터 스토리지 응용 분야에서 더 빠른 수율 및 출시 시간을 제공합니다.
반도체 분석 및 이미징
Thermo Fisher Scientific은 일반적인 이미지 생성 작업에서 정밀도 높은 전압 대비 측정이 필요한 고급 고장 분석 기술에 이르까지 반도체 실험실의 모든 기능을 위한 주사전자현미경을 제공합니다.
광학적 고장 분리
점점 더 복잡해지는 설계는 반도체 제조 과정에서 장애와 결함 분리를 복잡하게 만듭니다. 광학적 고장 분리 기술을 사용하면 전기적 활성 장치의 성능을 분석하여 장치의 고장을 일으키는 주요 결함의 위치를 찾을 수 있습니다.
열 고장 분리
로컬 전력 소실의 불균등한 분포는 로컬 온도를 크게 상승시켜 장치 고장을 유발할 수 있습니다. 고감도 LIT(lock-in infrared thermography)에 의해 열 고장 분리를 위한 고유한 솔루션을 제공합니다.
반도체 장치의 시료 준비
Thermo Scientific DualBeam 시스템은 반도체 장치의 원자 단위 분석을 위한 정확한 TEM 시료 준비 기능을 제공합니다. 자동화 및 고급 기계 학습 기술은 정확한 위치에서 고품질 시료를 생성하며 시료당 비용이 낮습니다.
나노탐침
장치의 복잡성이 증가함에 따라 결함을 숨겨야 하는 부분의 수도 증가합니다. 나노탐침은 효과적인 투과 전자 현미경 불량 분석 워크플로우에서 중요한 전기 고장의 정확한 위치 측정 기능을 제공합니다.
APT 시료 준비
원자 프로브 단층촬영(APT)은 물질의 원자 분해능 3D 조성 분석 기능을 제공합니다. 집속 이온 빔(FIB) 현미경법은 APT 특성 분석을 위한 고품질, 방향 설정, 위치-특이적인 시료 준비를 위한 필수 기법입니다.
반도체 레이저 절제
레이저 절제 기능은 전자 현미경의 이미지 생성 및 분석에서 반도체 장치의 고처리량 밀링을 제공하는 동시에, 시료의 무결성을 유지해 줍니다. 대용량 3D 데이터에 접근하고 시료 유형에 가장 적합한 밀링 조건으로 최적합니다.
장치 층 제거
기능 크기 축소는 첨단 설계 및 아키텍처와 함께 반도체에 대한 불량 분석을 점차 까다로워지게 하는 결과를 가져옵니다. 장치의 손상 없는 층 제거는 전기적 결함 및 고장을 감지하기 위한 중요한 기법입니다.
ESD 규정 준수성 검사
정전기 방출(ESD)은 반도체와 집적 회로의 작은 특성 및 구조를 손상시킬 수 있습니다. 당사에서는 기기가 표적 ESD 규정 준수 표준을 준수하는지 검증하는 종합적인 검사 장비 세트를 제공합니다.
TEM 계측
고급 자동 TEM 계측의 일반적인 절차는 수동 방법에 비해 훨씬 높은 정밀도를 제공합니다. 이를 통해 사용자는 운영자 편견이 없는 옹스트롬 미만 수준의 특이성을 사용하여 통계학적으로 관련된 대량의 데이터를 생성할 수 있습니다.
반도체 TEM 이미지 생성 및 분석
Thermo Fisher Scientific 투과 전자 현미경은 반도체 장치의 고분해능 이미지 생성 및 분석 기능을 제공함으로써, 제조업체에서 도구 세트를 보정하고 고장 메커니즘을 진단하며 전체 공정 수율을 최적화할 수 있도록 해줍니다.
회로 편집
새로운 가스 공급 시스템과 광범위한 화학 및 집속 이온 빔 기술이 결합된 고급 전용 회로 편집 및 나노 프로토타이핑 솔루션은, 반도체 장치 개발을 위한 탁월한 제어 및 정밀도를 제공합니다.
SEM 계측
주사전자현미경은 나노미터 규모의 정확하고 신뢰할 수 있는 계측 데이터를 제공합니다. 자동 초고분해능 SEM 계측법을 통해 메모리, 로직 및 데이터 스토리지 응용 분야에서 더 빠른 수율 및 출시 시간을 제공합니다.
반도체 분석 및 이미징
Thermo Fisher Scientific은 일반적인 이미지 생성 작업에서 정밀도 높은 전압 대비 측정이 필요한 고급 고장 분석 기술에 이르까지 반도체 실험실의 모든 기능을 위한 주사전자현미경을 제공합니다.
광학적 고장 분리
점점 더 복잡해지는 설계는 반도체 제조 과정에서 장애와 결함 분리를 복잡하게 만듭니다. 광학적 고장 분리 기술을 사용하면 전기적 활성 장치의 성능을 분석하여 장치의 고장을 일으키는 주요 결함의 위치를 찾을 수 있습니다.
열 고장 분리
로컬 전력 소실의 불균등한 분포는 로컬 온도를 크게 상승시켜 장치 고장을 유발할 수 있습니다. 고감도 LIT(lock-in infrared thermography)에 의해 열 고장 분리를 위한 고유한 솔루션을 제공합니다.
반도체 장치의 시료 준비
Thermo Scientific DualBeam 시스템은 반도체 장치의 원자 단위 분석을 위한 정확한 TEM 시료 준비 기능을 제공합니다. 자동화 및 고급 기계 학습 기술은 정확한 위치에서 고품질 시료를 생성하며 시료당 비용이 낮습니다.
나노탐침
장치의 복잡성이 증가함에 따라 결함을 숨겨야 하는 부분의 수도 증가합니다. 나노탐침은 효과적인 투과 전자 현미경 불량 분석 워크플로우에서 중요한 전기 고장의 정확한 위치 측정 기능을 제공합니다.
APT 시료 준비
원자 프로브 단층촬영(APT)은 물질의 원자 분해능 3D 조성 분석 기능을 제공합니다. 집속 이온 빔(FIB) 현미경법은 APT 특성 분석을 위한 고품질, 방향 설정, 위치-특이적인 시료 준비를 위한 필수 기법입니다.
반도체 레이저 절제
레이저 절제 기능은 전자 현미경의 이미지 생성 및 분석에서 반도체 장치의 고처리량 밀링을 제공하는 동시에, 시료의 무결성을 유지해 줍니다. 대용량 3D 데이터에 접근하고 시료 유형에 가장 적합한 밀링 조건으로 최적합니다.
장치 층 제거
기능 크기 축소는 첨단 설계 및 아키텍처와 함께 반도체에 대한 불량 분석을 점차 까다로워지게 하는 결과를 가져옵니다. 장치의 손상 없는 층 제거는 전기적 결함 및 고장을 감지하기 위한 중요한 기법입니다.
ESD 규정 준수성 검사
정전기 방출(ESD)은 반도체와 집적 회로의 작은 특성 및 구조를 손상시킬 수 있습니다. 당사에서는 기기가 표적 ESD 규정 준수 표준을 준수하는지 검증하는 종합적인 검사 장비 세트를 제공합니다.
반도체 물질 및 장치 특성 분석
반도체 장치가 축소되고 복잡해짐에 따라 새로운 설계와 구조를 필요로 하게 되었습니다. 고생산성의 3D 분석 워크플로우는 장치 개발 시간을 단축하고 수율을 극대화할 수 있으며, 장치가 산업의 향후 요구 사항에 부합되도록 보장합니다.
기기 카드 원본 스타일시트
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