TEM | Metrios AX TEM | Thermo Fisher Scientific

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첨단 로직 및 메모리 제조 프로세스가 도구 세트를 빠르게 보정하고, 수율 편의를 진단하며, 프로세스 수율을 최적화하기 위해서는 정밀한 구조 및 분석 데이터의 신속 처리가 더욱더 중요해지고 있습니다. 28nm 미만의 기술 노드에서, 특히 3D 및 첨단 장치 설계가 구현되는 경우 기존 SEM 또는 광학 기반 분석 및 검사 도구가 강력하고 신뢰할 수 있는 데이터를 제공하는 역량을 제한하는 문제에 직면하게 됩니다. Thermo Scientific Metrios AX 투과전자현미경(TEM)은 반도체 제조업체가 수익성 있는 수율을 가속화하기 위해 웨이퍼 제조 프로세스를 개발하고 조절할 때 사용하는 빠르고 정확한 특성 분석 및 참조 계측을 제공하는 최초의 TEM입니다.

정확하고 반복 가능한 대량 TEM 데이터

Metrios AX TEM은 기본적인 TEM 작동 및 측정 절차를 자동화하여 전문 작업자 교육에 대한 요구 사항을 최소화합니다. 자동화된 첨단 계측의 일반적인 절차는 수동 방법에 비해 훨씬 높은 정밀도를 제공합니다. Metrios AX TEM은 다른 TEM에 비해 처리량을 개선하고 시료당 비용을 절감하도록 설계되었습니다.

주요 특징

일관성, 반복가능성, 정밀성

애초부터 반복 가능한 TEM 및 STEM 기반 이미징, 분석, 게이지 가능 계측 기능을 제공하도록 설계되었습니다.

계측 정확성

TEM 뿐 아니라 STEM에 대해 왜곡 및 확대 보정 시 합산 오차 0.75% 미만.

자동화된 EDS 및 하이브리드 계측

자동화를 통해 EDS 데이터를 획득하고 정량하십시오. 주요 치수에 원소 대비를 사용하여 STEM을 확장하십시오.

워크플로우 연결성

시료 준비, 플러킹(plucking), 이미징을 통해 중요한 프로세스 데이터를 추적하십시오. 계측을 오프라인으로 적용하여 도구 획득 시간을 최대화할 수 있습니다. 모든 이미징 및 계측 데이터가 웹 기반의 이미지 보기에 통합됩니다.

사양

재품 표 사항에 대한 스타일시트

높은 전압 범위(kV)	60~200kV
정보 한계 200kV(nm)	0.11
	보정되지 않음	프로브 보정됨*
STEM HAADF 분해능(nm) 200 kV	≤0.164	≤0.083
STEM HAADF 분해능(nm) 80 kV	≤0.31	≤0.11
수평 및 수직 방향 MetroCal 웨이퍼에 대한 계측 정밀도	≤0.3nm 3σ
전자 소스	X-CFEG 또는 XFEG
매우 안정적인 전자 장치 및 높은 전압	포함
음향 인클로저	포함
정전력 렌즈	포함
피에조 스테이지	포함
프로브 교정기와 호환	예