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K-Alpha 高性能紧凑型 XPS 表面分析系统
自 2006 年推出以来，Thermo Scientific™ K-Alpha™ XPS 能谱仪为表面分析提供了全新的方法。 K-Alpha 能谱仪采用简化的工作流程，致力于提供高质量结果，使 XPS 的操作变得简单而直观，并且不会损失性能和 XPS 功能。 K-Alpha 让越来越多的研究人员能开展表面分析。
现在，Thermo Scientific™ K-Alpha™ X 射线光电子能谱 (XPS) 系统升级了核心 XPS 性能，具有更快的数据采集速度、更好的检测能力和更简单化学态分辨分析。 激动人心的新硬件功能（如 XPS SnapMap）与全新的软件功能（如 eSP 和 KnowledgeView 功能）整合，有助于进行能谱识别。 此外还有新的选件可供选择，包括全自动紫外光电子能谱 (UPS)、真空传送模块和 Thermo Scientific™ MAGCIS™ 离子源，开启了实验新契机。
K-Alpha X 射线 XPS 系统拥有最先进的性能，更低的拥有成本，更简单的操作和更高的样品通量，十分适合在多用户环境中使用。
应用领域
- 玻璃涂层
- 聚合物
- 电池
- 石墨烯
- 太阳能电池
- OLED
- 金属和氧化物
- 生物表面
- 薄膜
- 半导体
- 陶瓷
- 催化剂
K-Alpha 重要特征和优势
- Al Kα X 射线单色器可用于化学态高分辨分析
- 微聚焦 X 射线探针可用于化学态成像分析
- 先进的光学观察系统可用于对中样品上微小结构和污染点分析位置
- 聚焦深度剖析离子源可用于单层和多层膜分析
- 一键式中和系统可用于精确的小面积分析
- 128 通道探测器用于快速并行快照式采集数据
高性能 XPS 能谱
单色器和电子分析系统的发展使得 K-Alpha 在原来的基础上能大幅提高 XPS 性能。 用户使用全新的 X 射线单色器可选择 50 µm 至 400 µm 大小的分析区域，步长为 5 µm。 分析区域能调到感兴趣的特征区域，以获得最强的信号。 高效电子光学透镜、半球形能量分析器和探测器使得仪器具有高灵敏探测能力，能快速获得数据。
绝缘样品分析
K-Alpha 能谱仪的荷电补偿使得仪器分析绝缘样品就像分析非绝缘样品一样容易。 赛默飞世尔科技的专利双束中和枪采用离子和极低能量的电子（低于 1 eV），可使得样品没有荷电积累。 在大多数情况下，无需荷电校正，让分析绝缘样品数据同数据采集一样简单。
XPS SnapMap
XPS SnapMap 与拥有专利的 K-Alpha 反射光学系统相结合，能提供快速 XPS 成像，实现特征位置的对中和鉴定。 XPS SnapMap 能生成几 mm2 面积的图像，所需时间远远小于生成全图的时间，非常适合快速鉴定光学观察无法轻易观察到的分析区域。 XPS SnapMap 还能用在实验中，进行快速定量能谱成像。
化学态成像
K-Alpha 能得到表面化学态像。 用于分析样品上的微小特征，能得到整个样品台大小的大样品图像。 独特的光学观察系统可将 XPS 像与储存的光学图像重叠在一起，这一强大功能可用于识别和定量分析表面化学组分的分布。
深度剖析
K-Alpha 采用标准离子源或 MAGCIS（可选双模单原子和气体团簇离子源），能深入表面层以下进行分析。 自动优化源和自动供气确保优良的性能和实验重复性。
精准的结果 — 快速而高效
K-Alpha 具有卓越的性能和先进的功能，可满足科研和常规测量对 XPS 需求。 直观的操作（由 Avantage 数据系统导航）使得 K-Alpha 适合于多用户、设备共享用户和着重高效操作和大量分析的 XPS 专家。
三个摄像头方便样品导航和精确对中。 独特设计的光学成像系统操作预存有用户的使用经验，减少了学习的弯路，大大提高了测试效率。
K-Alpha 的分析室内安装标准样品，用于必要的校正。只需按下一键，K-Alpha 便可在数分钟内完成自校正。 确保用户数据非常可信。
