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유도 결합 플라즈마 질량분석법(ICP-MS)은 다양한 시료 유형에 적용할 수 있기 때문에 다양한 산업 분야에서 사용됩니다.

플라즈마 내에서 효율적인 처리를 위해 시료는 기체 또는 증기(에어로졸) 형태여야 합니다. 따라서 기체는 플라즈마에서 직접 분석할 수 있지만(예: 기체 크로마토그래피로 분리하는 경우) 고체와 액체는 분무(액체의 경우) 또는 애블레이션 장치(고체의 경우)를 사용하여 에어로졸 형태로 변환해야 합니다.


ICP-MS 시료 처리

대부분의 일상적인 ICP-MS 분석에서 시료는 분무기 및 스프레이 챔버를 사용하여 액체 형태로 주입됩니다. 분무기는 초음속 가스 팽창을 사용하여 액체를 미세 연무 상태로 만들고 스프레이 챔버는 플라즈마에서 처리하기에 너무 큰 방울을 제거합니다. 이러한 과정은 기기의 시료 인터페이스에서 진행됩니다.


액체 ICP-MS 시료

Auto-dilution of ICP-MS samples
Figure 2. Many ICP-MS systems offer auto-dilution of samples to counteract drift, an issue often caused by high TDS levels.

액체 시료는 일반적으로 분해 후 수성 매트릭스에서 재구성되는 과정을 통해 원소가 이온 용액으로 안정화됩니다. 매트릭스는 일반적으로 2%의 질산을 포함하며 특정 원소를 안정화하기 위해 0.5%의 염산을 첨가할 수 있습니다. 모든 매트릭스의 최종 조성은 측정되는 분석물의 특성에 따라 크게 달라집니다.

TDS(총 용존 고형물) 수준이 0.5% 미만인 경우 표준 ICP-MS 도입 키트를 사용하여 용해하지 않고 직접 액체를 분석할 수 있습니다. TDS가 이 수준 이상이면 분무기에 침전되거나 플라즈마에 과부하가 걸릴 수 있으며, 이러한 상황 중 어느 하나가 발생하면 플라즈마 내에서 시료가 처리되는 방식을 변화시킵니다. 이 결과로 드리프트라고 불리우는 데이터 수집 문제가 발생할 수 있습니다. 드리프트를 상쇄하기 위해서는 특수 분무기와 스프레이 챔버가 필요할 수 있으며, 대부분의 경우 시료 희석이 수행됩니다.

ICP-MS 시스템을 약간 수정하면 시료에서 유기 액체 시료를 분석할 수 있습니다. 주로 더 작은 주입기와 백금 팁 콘이 사용되며, 탄소 증착 및 신호 드리프트가 발생하지 않도록 산소가 플라즈마에 추가됩니다.


고체 ICP-MS 시료

산을 사용한 시료 분해 과정그림 3. 산을 사용한 시료 분해 과정

고체 시료의 경우 강산과 고온의 산으로 분해하는 것이 일반적인 프로토콜입니다. 산 자체는 단순한 질산(비교적 간단한 매트릭스의 경우)에서 불화수소산(이산화규소 함량이 높은 시료의 경우)까지 다양합니다. 또한 H2O2가 유기 물질을 효율적으로 분해하기 때문에 유기물을 포함하는 시료는 분해 단계 중에 과산화수소가 첨가될 수 있습니다.

고체 시료는 여러 가지 다양한 방법으로 직접 에어로졸로 전환될 수 있으며 가장 일반적인 방법은 레이저 애블레이션(LA, laser ablation), 스파크 애블레이션(spark ablation) 또는 전열 증기화(ETV, electrothermal vaporization)입니다. 이러한 모든 방법에서, 시료는 에어로졸로 변환되어 불활성 가스와 함께 플라즈마로 전송됩니다.

ETV는 전체 시료와 상호작용하는 대량 분석 방법으로서 가연성 시료에 유용합니다. 스파크 애블레이션은 세미-대량(semi-bulk) 분석 도구이며 전도성 시료의 큰 부위(직경 1-3 mm)를 샘플링하는 데 유용합니다. LA는 높은 조도(UV) 레이저를 사용하여 거의 모든 고체 시료에서 매우 작은 부위(2–750 µm 직경)를 분석하는 미세시료분석 기술입니다. LA는 분석 지점의 크기가 작기 때문에 시료의 원소 분포를 추적하는 데에도 유용합니다.


ICP-MS 사용 시 기타 고려 사항

시료 점도, 분석물 침전, 기기 드리프트 등 실험 중 다양한 매개변수를 모니터링하고 보정하기 위해 내부 표준물질을 시료에 추가할 수 있습니다.

시료 내 용해된 고체의 양도 분석에 영향을 미칩니다. 일반적으로 견고한 데이터를 생성할 수 있는 총 용존 고형물(TDS)의 최대 비율은 0.2%이지만 이는 기기 설정(사용되는 분무기, 콘 및 인터페이스 설정)과 매트릭스 구성 성분에 따라 달라집니다. 무거운 원소는 가벼운 원소보다 이온 빔에 훨씬 더 큰 영향을 미치므로 나트륨 또는 칼슘 기반 매트릭스의 경우 0.5% TDS가 허용되는 반면 텅스텐 또는 납 기반 매트릭스는 0.1%만 가능합니다.

스파크 또는 레이저 애블레이션 시스템, 수소화물 생성기 및 크로마토그래피 시스템(GC, IC, HPLC 및 UPLC 시스템)을 비롯한 특수 시료 주입 시스템을 ICP-MS에 연결할 수 있습니다. 이러한 경우 시료 전처리 프로토콜은 사용되는 시료 주입 시스템에 따라 달라집니다.