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詳細な不良解析による歩留まりの改善と信頼性の向上が可能です。マージン不良の設計デバッグは、デバイス内の電圧やタイミングの問題によって、より困難となる場合があります。パラメトリック不良の根本原因を解明するには、デバイス内部の実際の不良個所を特定し、デバイスを損傷したり不良を消失させたりすることなく関連回路にアクセスできることが必要です。

Thermo Scientific Meridian 7システムでは、サブ10 nmデバイスに対して可視光によるLVI・LVP、動的レーザー印加(DLS/LADA)を行うことが可能です。超薄型の基板を必要としないため、被測定デバイスの完全性と機能性を維持し、信頼性と実用性の高い生産ソリューションを利用できます。

Meridian 7システムには次の2つの構成が用意されています。

  • Meridian 7Dシステム:1,064 nmと785 nmの統合型デュアルSILレーザー走査型顕微鏡システム
  • Meridian 7Sシステム:785 nm単体のLSMシステムと高速検査に適した最先端サンプル冷却オプション(熱暴走によるチップパフォーマンス変化を防止するためのサンプル発熱を制御するオプション)

主な特長

動的な光学的不良解析によるパラメトリック不良の特定

  • 10 nmノード以下の最先端デバイスの検査条件下での特性評価
  • TR-LADA(オプション)

正確なタイミング解析を実現する高帯域

  • アットスピードテストを可能にする7 GHzの帯域幅
  • 50ピコ秒の立ち上がり時間測定

光学的分解能の向上による、不良箇所特定力の改善

  • 可視光および赤外光による高分解能
  • 785 nm解析時のサンプル作製制限は5 µm
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リソース

Device frequency mapping with 785nm Laser Voltage Imaging (LVI)
785 nmLVIによるデバイス周波数マッピング。
TR-LADAによる動的OFI

TR-LADAによる動的OFI


Meridian光学的不良解析システムの新しいTR-LADAオプションは、脆弱な回路領域を保護すると同時に、より高度な不良個所特定を可能にします。

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Device frequency mapping with 785nm Laser Voltage Imaging (LVI)
785 nmLVIによるデバイス周波数マッピング。
TR-LADAによる動的OFI

TR-LADAによる動的OFI


Meridian光学的不良解析システムの新しいTR-LADAオプションは、脆弱な回路領域を保護すると同時に、より高度な不良個所特定を可能にします。

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応用例

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半導体のパスファインディングと開発

高性能半導体デバイス製造を可能にするソリューションや設計へ導く高度な電子顕微鏡、集束イオンビーム、および関連する分析手法。

半導体故障解析

半導体故障解析

半導体デバイスは益々構造が複雑化しているため、欠陥の原因と成り得る箇所が増えています。私たちの次世代ワークフローは、歩留り、性能、信頼性に影響を与える僅かな電気的不良の特定と解析に役立ちます。


手法

光学的不良解析

設計が複雑になるにつれ、半導体製造における不良個所や欠陥個所の特定が、ますます複雑になっています。光学的不良解析技術によりデバイスの電気的動作性能を解析し、デバイスの故障につながる重大な欠陥を特定することができます。

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光学的不良解析

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