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Thermo Scientific Hyperion IIシステムは、電気的な特性評価と不良箇所の特定に適した高速かつ正確なトランジスタプロービングを提供することで、半導体テクノロジーの開発を支援し、エンジニアリングとデバイスの信頼性を向上させます。Hyperion IIシステムの卓越した安定性は、5 nmないしはそれ以下のテクノロジーノードに対するナノプロービングを可能にします。
Hyperion IIシステムのSPMテクノロジーが実現するPicoCurrentイメージングは、ショート、オープン、リークパス、抵抗コンタクトを迅速に特定する技術で、その感度は受動的な電圧コントラストの1,000倍超に達しています。走査型静電容量顕微鏡(SCM)モジュールは、シリコンオンインシュレーター(SOI)ウェハーでの画像ベースによる不良箇所特定と高分解能なドーパントプロファイリングを提供します。
機能
| 測定モード Hyperion IIシステムでは次のような高度な測定モードを利用できます。
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ターゲット領域内にある複数トランジスタのプロービングによる不良の特定は、時間のかかる作業です。Hyperion IIシステムでは、PicoCurrentイメージングとI-Vプロービングを組み合わせることで、測定関連の切り換えを行うことなく、潜在的な不良箇所の迅速な特定と電流-電圧曲線の測定を行えます。
C-Vは、酸化被膜、界面トラップ、電荷キャリア密度の調査に使用されます。Hyperion IIシステムが提供する高分解能C-Vは、優れたインピーダンス制御、低いリーク、非常に低いノイズという特性を有しています。
統合されたPicoCurrentイメージングおよび走査型静電容量顕微鏡(SCM)では、ナノプロービングのための不良箇所の候補をすばやく特定できます。
半自動化された段階的なのガイドによるオペレーションは、生産性の向上、操作性の改善、トレーニング負担の軽減をもたらします。
原子間力プローブの画像作成機能とプロービング機能は、SEMイメージングや真空システムを必要としません。
高性能半導体デバイス製造を可能にするソリューションや設計へ導く高度な電子顕微鏡、集束イオンビーム、および関連する分析手法。
半導体デバイスは益々構造が複雑化しているため、欠陥の原因と成り得る箇所が増えています。私たちの次世代ワークフローは、歩留り、性能、信頼性に影響を与える僅かな電気的不良の特定と解析に役立ちます。
継続的な性能要求により、小型で高速、かつ安価な電子デバイス開発が促進されています。これらの製造には、多岐に渡る半導体およびディスプレイデバイスのイメージング、分析、解析を行う、生産性の高い装置とワークフローが重要な役割を果たします。
静電放電(ESD)管理計画においては、ESD感度の高い機器を特定することが必要です。当社は、使用機器の適格要件適合を補助するための完全な検査システムセットを提供しています。
電力用装置には、障害位置特定にかかわる特有の課題があります。これは主に、動力用装置のアーキテクチャとレイアウトを原因としています。当社のパワー半導体デバイス解析ツールとワークフローを使用すると、動作条件下の不良個所をすばやく特定し、材料、インターフェース、装置構造の高精度かつハイスループットの特性分析を行えます。
ナノプロービング
デバイスの複雑さが増すにつれ、欠陥が潜む箇所も増えてきます。ナノプロービングは電気的な欠陥を正確に特定し、効果的に透過電子顕微鏡の故障解析を行う上でとても重要となります。