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由于技术不断地小型化，对纳米级设备和结构的需求不断增加。将最新想法和设计转化为宝贵资产的挑战只会持续增长，成功设计纳米级设备需要克服重大的技术和财务障碍。
标准的纳米批处理工艺涉及为每个图层组合使用不同的仪器。这些纳米级产品的设计仪器可能包括用于抗蚀剂涂敷的旋涂机、光刻工具，用于抗蚀剂显影的湿化学试剂，等离子体清洁剂，以及用于图案转印的沉积或蚀刻设备。使用如此多的独特工具才能实现高成本、耗时的原型设计过程。随着研究人员将纳米技术推进到较小尺寸，这些成熟的纳米成型程序和配方常常不再符合快速开发的需求。
可靠的纳米原型技术将具有用于执行图案设计的专用策略。这将包括实时观察纳米材料的图案成形过程，并立即以高分辨率对最终结构成像的能力，从而实现对图案成形过程的独特控制。这也将为观察者提供连续的即时反馈，加快他们的研发进程。这就是为什么 DualBeam（聚焦离子束 - 扫描电子显微镜或 FIB-SEM）技术特别适合纳米原型设计应用的原因。因为 FIB 通过铣削或化学沉积在纳米尺度上准确添加或去除材料，扫描电镜SEM 可提供高分辨率成像。
赛默飞世尔科技提供了将纳米级设计变为现实的智能且高效方法。我们的 DualBeam 仪器具有独特的精密样品台，并配有最先进的软件和图案引擎。这些用于研究纳米成型的产品共同缔造了一个强大的原型设计工作流程，使您能够快速设计、创建和检测微型以及纳米级功能原型设备。
左：使用 NanoBuilder 软件创建的电迁移结构。右：单个通道特写。关键尺寸可低至 10 nm。
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使用聚焦离子束直接铣削的开口环振荡器图案。将 FIB 作为一种载体扫描方法以优化图案每个部分的铣削方向。
由 NanoBuilder 软件的多层图案形成模式创建的纳米流体系统。每层可由一个沉积或铣削顺序组成，以选择性地添加或移除材料。
使用聚焦离子束在硅基质中铣削出的蜂窝结构的二级电子图像。
使用聚焦离子束直接铣削的开口环振荡器图案。将 FIB 作为一种载体扫描方法以优化图案每个部分的铣削方向。
由 NanoBuilder 软件的多层图案形成模式创建的纳米流体系统。每层可由一个沉积或铣削顺序组成，以选择性地添加或移除材料。
使用聚焦离子束在硅基质中铣削出的蜂窝结构的二级电子图像。
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