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高级材料

无数的技术创新直接或间接地与新型材料相关联。为不断创新,研究人员希望加深从宏观到微米以及纳米尺度对材料(形态学、结构、磁性、热学和机械)的物理和化学性质的理解。

了解和改进材料性质的理由有很多,因此提高了技术的实用性和价值。强度、延展性、密度、耐腐蚀性和电导性只是一小部分可能对促进材料应用或全新应用材料的至关重要的属性。

聚合材料和催化剂

聚合物催化研究领域,化学家和化学工程师希望在微米以及纳米尺度上更好地理解材料结构和功能之间的关系。他们的发现成果会带来具有特定功能、更长的活性寿命、更低的更换成本、更高的强度和更好的可制造性的全新材料系统。

激动人心的纳米器件领域专注于开发具有电子、磁性、机械和光学系统独特功能的小型化技术。市场上对传感器、执行器和微流体器件的需求都很高,这些器件有助于解决全球能源、通信和关键监控挑战。

材料科学研究 

随着科学家对材料结构的了解不断加深,他们还希望了解材料在对光、温度、压力和其他刺激作出反应时的行为。此外、二维观察并不总能得出在三维世界中的答案。因此,成像、分析和材料表征必须通过在多种环境条件下生成 3D 信息来提供真实世界的可见性。

显然,创新材料在安全、清洁能源、运输、人类健康和工业生产效率方面发挥着不可或缺的作用。不管是探索替代能源还是开发具有更高强度、更轻质量的材料和先进纳米器件,赛默飞世尔科技都能提供多种用于新材料基础研发的光学和电子显微镜工具


相关资源

样品


电池研究

通过使用 microCT、SEM扫描电镜和TEM透射电镜、拉曼光谱、XPS和数字3D可视化与分析进行多尺度分析、实现电池开发。了解该方法如何提供构建更好电池所需的结构和化学信息。

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聚合物研究

聚合物微观结构决定了材料的整体特性和性能。显微CT能够对聚合物形态和成分进行全面的微量分析,适用于R&D和质量控制应用。

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金属研究

金属的有效生产需要精确控制夹杂物和沉淀物。我们的自动化工具能够执行金属分析需要的各种任务,包括纳米粒计数、EDS元素分析TEM样品制备

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催化研究

催化剂对于大多数现代工业工艺至关重要。其效率取决于催化颗粒的微观组成和形态;EDS电镜是研究这些性质的理想选择。

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2D 材料

新型材料研究对低维材料的结构越来越感兴趣。具有探头校正和单色化的STEM扫描透射电镜可用于高分辨率二维材料成像。

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纳米粒

在纳米技术领域,材料的性质与宏观技术领域中有本质的不同。为了研究它们,S/TEM仪器可以与能量色散X射线光谱仪结合使用,以获得纳米、甚至亚纳米级的分辨率数据。

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汽车材料测试

现代车辆中的每一个部件都是为了安全、效率和性能而设计的。使用电镜和光谱学详细表征汽车材料,可提供关键的工艺决策、产品改进和新材料。

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Style Sheet for Komodo Tabs

技术

材料显微镜技术

(S)TEM 样品制备

DualBeam显微镜可制备用于(S)TEM分析的高质量、超薄样品。借助先进的自动化技术,任何经验水平的用户都可以获得各种材料的专家级结果。

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3D 材料表征

材料开发通常需要多尺度3D表征。DualBeam仪器可实现大体积连续切片和随后纳米级的SEM成像,可用于样品的高质量3D重建。

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纳米原型设计

由于技术不断地小型化,对纳米级设备和结构的需求不断增加。使用DualBeam仪器进行3D纳米原型设计可帮助您快速设计、创建和检查微尺度和纳米级功能原型。

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EDS元素分析

EDS为电子显微镜观察提供重要的组分信息。尤其是我们独特的Super-X和Dual-X检测器系统添加了提高通量和/或灵敏度的选项,使您可以优化数据采集以满足您的研究优先级。

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3D EDS断层扫描

现代材料研究越来越依赖于三维的纳米级分析。3D电镜和能量色散X射线光谱可以3D表征包括整个化学和结构背景下的组分数据。

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使用EDS进行原子级元素映射

原子分辨率EDS通过区分单个原子的元素特性,为材料分析提供无与伦比的化学环境。当与高分辨率透射电镜TEM结合时,可以观察样品中原子的精确组织。

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ColorSEM

通过实时采集SEM和EDS信息以及实时定量功能,ColorSEM技术将SEM图像转化为彩色图像。现在任何用户都可以实时获取元素信息,得到比以往任何时候更多的完整信息。

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使用HRSTEM和HRTEM进行成像

透射电镜对于表征纳米粒和纳米材料的结构具有宝贵价值。使用高分辨率STEM和TEM可获得化学成分的原子分辨率数据及信息。

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差分相位对比成像

现代电子研究依赖于纳米级的电性和磁性性质分析。差分相位对比STEM (DPC-STEM)可以对样品中磁场的强度和分布进行成像,并显示磁畴结构。

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对热样品进行成像

在现实条件中,研究材料通常需要在高温下工作。在热量存在时,可以通过扫描电子显微镜或DualBeam工具对材料再结晶、熔化、变形或反应的行为进行原位研究。

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环境SEM (ESEM)

环境SEM 能对自然状态的材料进行成像。它是需要测试和分析湿、脏、活性、脱气或其他不兼容真空的样品的学术和工业研究人员的理想选择。

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电子能量损失谱

材料科学研究借助高分辨率EELS得以进行广泛的分析应用。这包括高通量、高信噪比元素映射,以及氧化状态和表面声子的探测。

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交叉切片

交叉切片通过揭示亚表面信息提供额外的剖析。DualBeam仪器配备卓越的聚焦离子束色谱柱,可实现高质量的交叉切片。借助自动化技术,可实现无人参与的高通量样品处理功能。

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原位实验

需要通过电子显微镜直接实时观察微观结构变化,以便了解在加热、冷却和润湿过程中的动态过程(如再结晶、晶粒生长和相变)的基本原理。

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颗粒分析

颗粒分析在纳米材料研究和质量控制中发挥着重要作用。纳米级分辨率和卓越的电子显微镜成像可以与专用软件相结合,以快速表征粉末和微粒。

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阴极发光

阴极发光 (CL) 描述材料在电子束的激发下产生的发光现象。该信号由专业的 CL 检测器捕获,包含样品成分、晶体缺陷或光子特性的信息。

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SIMS

用于聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 工具的TOF-SIMS(飞行时间二级离子质谱)检测器能够对周期表中的所有元素进行高分辨率分析表征—即使是在低浓度下。

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多尺度分析

必须在更高分辨率下分析新材料,同时保留较大的样品背景。多尺度分析允许多种成像工具和模态(如X射线microCT、DualBeam、激光PFIB、SEM和TEM)关联。

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APT 样品制备

原子探针断层扫描 (APT) 提供材料的原子分辨率 3D 组成分析。聚焦离子束 (FIB) 显微镜是一项为 APT 表征进行高质量、定向和特定样品制备的基本技术。

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自动化颗粒工作流程

自动化纳米颗粒工作流程(APW)是一种用于纳米颗粒分析的透射电子显微镜工作流程,提供纳米级大面积、高分辨率的纳米级成像和数据采集,并进行即时处理。

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(S)TEM 样品制备

DualBeam显微镜可制备用于(S)TEM分析的高质量、超薄样品。借助先进的自动化技术,任何经验水平的用户都可以获得各种材料的专家级结果。

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3D 材料表征

材料开发通常需要多尺度3D表征。DualBeam仪器可实现大体积连续切片和随后纳米级的SEM成像,可用于样品的高质量3D重建。

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纳米原型设计

由于技术不断地小型化,对纳米级设备和结构的需求不断增加。使用DualBeam仪器进行3D纳米原型设计可帮助您快速设计、创建和检查微尺度和纳米级功能原型。

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EDS元素分析

EDS为电子显微镜观察提供重要的组分信息。尤其是我们独特的Super-X和Dual-X检测器系统添加了提高通量和/或灵敏度的选项,使您可以优化数据采集以满足您的研究优先级。

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3D EDS断层扫描

现代材料研究越来越依赖于三维的纳米级分析。3D电镜和能量色散X射线光谱可以3D表征包括整个化学和结构背景下的组分数据。

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使用EDS进行原子级元素映射

原子分辨率EDS通过区分单个原子的元素特性,为材料分析提供无与伦比的化学环境。当与高分辨率透射电镜TEM结合时,可以观察样品中原子的精确组织。

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ColorSEM

通过实时采集SEM和EDS信息以及实时定量功能,ColorSEM技术将SEM图像转化为彩色图像。现在任何用户都可以实时获取元素信息,得到比以往任何时候更多的完整信息。

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使用HRSTEM和HRTEM进行成像

透射电镜对于表征纳米粒和纳米材料的结构具有宝贵价值。使用高分辨率STEM和TEM可获得化学成分的原子分辨率数据及信息。

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差分相位对比成像

现代电子研究依赖于纳米级的电性和磁性性质分析。差分相位对比STEM (DPC-STEM)可以对样品中磁场的强度和分布进行成像,并显示磁畴结构。

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对热样品进行成像

在现实条件中,研究材料通常需要在高温下工作。在热量存在时,可以通过扫描电子显微镜或DualBeam工具对材料再结晶、熔化、变形或反应的行为进行原位研究。

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环境SEM (ESEM)

环境SEM 能对自然状态的材料进行成像。它是需要测试和分析湿、脏、活性、脱气或其他不兼容真空的样品的学术和工业研究人员的理想选择。

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电子能量损失谱

材料科学研究借助高分辨率EELS得以进行广泛的分析应用。这包括高通量、高信噪比元素映射,以及氧化状态和表面声子的探测。

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交叉切片

交叉切片通过揭示亚表面信息提供额外的剖析。DualBeam仪器配备卓越的聚焦离子束色谱柱,可实现高质量的交叉切片。借助自动化技术,可实现无人参与的高通量样品处理功能。

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原位实验

需要通过电子显微镜直接实时观察微观结构变化,以便了解在加热、冷却和润湿过程中的动态过程(如再结晶、晶粒生长和相变)的基本原理。

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颗粒分析

颗粒分析在纳米材料研究和质量控制中发挥着重要作用。纳米级分辨率和卓越的电子显微镜成像可以与专用软件相结合,以快速表征粉末和微粒。

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阴极发光

阴极发光 (CL) 描述材料在电子束的激发下产生的发光现象。该信号由专业的 CL 检测器捕获,包含样品成分、晶体缺陷或光子特性的信息。

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SIMS

用于聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 工具的TOF-SIMS(飞行时间二级离子质谱)检测器能够对周期表中的所有元素进行高分辨率分析表征—即使是在低浓度下。

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多尺度分析

必须在更高分辨率下分析新材料,同时保留较大的样品背景。多尺度分析允许多种成像工具和模态(如X射线microCT、DualBeam、激光PFIB、SEM和TEM)关联。

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APT 样品制备

原子探针断层扫描 (APT) 提供材料的原子分辨率 3D 组成分析。聚焦离子束 (FIB) 显微镜是一项为 APT 表征进行高质量、定向和特定样品制备的基本技术。

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自动化颗粒工作流程

自动化纳米颗粒工作流程(APW)是一种用于纳米颗粒分析的透射电子显微镜工作流程,提供纳米级大面积、高分辨率的纳米级成像和数据采集,并进行即时处理。

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产品

仪器卡片原件样式表

Helios 5 激光 PFIB 系统

  • 快速、毫米级交叉截面
  • 统计学相关的深度亚表面和 3D 数据分析
  • 共享 Helios 5 PFIB 平台的所有功能

Helios Hydra DualBeam

  • 4 个快速切换离子种类(Xe、Ar、O、N),用于对种类最丰富的材料进行优化 PFIB 处理
  • Ga-free TEM 样品制备
  • 极高分辨率 SEM 成像

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Scios 2 DualBeam

  • 完全支持磁性及不导电样品
  • 高通量亚表面和 3D 表征
  • 先进的易用性和自动化功能

Spectra Ultra

  • 适用于大多数电子束敏感材料的新成像和光谱分析功能
  • 利用 Ultra-X 进行 EDX 检测的飞跃
  • 色谱柱旨在保持样品完整性。

Spectra 300

  • 获得原子水平的最高分辨率结构和化学信息
  • 30-300 kV 的灵活高张力范围
  • 三个透镜冷凝器系统

Spectra 200

  • 用于 30-200 kV 加速电压的高分辨率和对比度成像
  • 宽间隙极片设计为 5.4 mm 的对称 S-TWIN/X-TWIN 物镜
  • 60 kV-200 kV 范围的亚埃 STEM 成像分辨率

Talos L120C TEM

  • 更高稳定性
  • 4k × 4K Ceta CMOS 相机
  • 25 – 650 k 倍 TEM 放大范围
  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息

Talos F200X TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和精确的EDS
  • 可提供高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供具有终极清洁度的柱内Super-X G2 EDS

Talos F200C TEM

  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息
  • 高对比度、高质量 TEM 和 STEM 成像
  • Ceta 16 Mixel CMOS 相机提供了宽视野和高读取速度

Talos F200i TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和灵活的EDS
  • 可使用高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供双EDS,以获得最高的分析产量

Talos F200S TEM

  • 精确的化学成分数据
  • 用于动态显微镜的高性能成像和精确成分分析
  • 配有 Velox 软件、可实现快速、轻松的获取和分析多模态数据

Themis ETEM

  • 精确控制并了解样品温度
  • 通过 x 、 y 和 z 轴改进了样品稳定性、导航和辅助样品漂移校正
  • 推进高质量成像和电影采集功能

Axia ChemiSEM

  • 现场定量元素绘图
  • 高保真扫描电子显微成像
  • 灵活易用,对新用户亦然
  • 易于维护

VolumeScope 2 SEM

  • 大容量各向同性 3D 数据
  • 在高真空和低真空模式下均具有高衬度和高分辨率
  • 轻松在常规 SEM 使用和连续切面成像之间切换

PRISMA E SEM

  • 入门级 SEM 具有出色的图像质量
  • 轻松、快速地加载和导航多个样品
  • 由于专用真空模式、兼容多种材料

Quattro ESEM

  • 超高通用性高分辨率 FEG SEM 、具有独特的环境能力( ESEM )
  • 在各种操作模式下均可通过同时进行 SE 和 BSE 成像观察所有样品的所有信息

Apreo 2 SEM

  • 高性能 SEM、适用于纳米或纳米以下的所有圆分辨率
  • 用于敏感电视率材料对比度的列内 T1 反向散射检测器
  • 长工作距离 (10 mm) 下性能出色

Phenom 微粒 X TC 台式扫描电镜

  • 功能多样的桌面 SEM ,带有自动化软件,可用于技术清洁
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom Pharos G2 Desktop FEG-SEM

  • 1 至 20 kV 加速电压范围的 FEG 源
  • <2.0 nm (SE) 和 3.0 nm (BSE) 分辨率(20 kV 时)
  • 可选的完全集成 EDS 和 SE 检测器

Phenom 微粒 X AM 台式扫描电镜

  • 多用途桌面 SEM 、同时使用自动化软件进行添加剂制造
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Velox

  • 处理窗口左侧的实验面板。
  • 活细胞定量分析
  • 交互式探测器布局界面用于可重复的实验控制和设置

Avizo 软件
材料科学

  • 支持多数据/多视图、多通道、时间序列、超大数据
  • 先进的多模式 2D/3D 自动配准
  • 伪影消除算法

Maps 软件

  • 获得大面积的高分辨率图像
  • 轻松发现感兴趣区
  • 自动化图像采集过程
  • 关联不同来源的数据

纤维公制

  • 通过自动测量节省时间
  • 快速、自动收集所有统计数据
  • 以无与伦比的准确度查看和测量微纤维和纳米纤维

分区公制

  • ProSuite 中的集成软件可用于在线和离线分析
  • 将颗粒特征相关联、比如直径、圆度、长径比和会议度
  • 使用自动图像映射创建图像数据集

EDS 绘图

  • 快速可靠的样品或所选线中元素分布信息
  • 容易导出和报告结果

3D 重构

  • 直观的用户界面、可最大限度提高用户使用能力
  • 直观的全自动用户界面
  • 基于 " 阴影形状 " 技术、无需阶段倾斜

NanoBuilder

  • 基于 CAD 的原型设计
  • 全自动作业执行、阶段导航、减薄和沉积
  • 自动对准和漂移控制

Inspect 3D 软件

  • 用于交叉关联的图像处理工具和过滤器
  • 用于图像对齐的特征跟踪
  • 用于迭代投影比较的代数重建技术

用于将 H2 样式更改为具有 em-h2-header 类 p 的样式表

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