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催化研究

所有制造产品中超过 80% 都涉及到催化剂,催化剂是现代工业的一个关键方面。异构纳米粒子催化剂对生产氢燃料等现代环保工艺尤其重要,并普遍用于汽车催化转化器中。催化剂可加速生产率并降低相关反应的温度要求,可显著降低实施特定工艺和/或生产目标产品所需的能耗,因此催化研究对于工业生产而言是很重要的一个环节。

纳米颗粒催化

纳米粒子的形态、分布、大小和化学成分是催化效率的核心。扫描透射电子显微镜(S/TEM)结合能量色散 X 射线光谱(EDS)已被证明是一个能够直接观察和定量此类信息的有价值研究工具。此外,高性能扫描电子显微镜(SEM)工具在低束能量和低束电流条件下可为对射束敏感的催化剂材料获得出色的图像,而不会损伤样品。

赛默飞世尔科技为催化剂纳米粒子的表征提供了一系列理想的纳米粒研究仪器。我们也提供了一套软件工具,可使您实现工作流程自动化,生成高分辨率、大面积纳米粒子数据,从而对催化剂进行整体表征以完成研究工作。

催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-1
催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-5
催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-2
催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-6
催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-3
催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-7
催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-4
催化剂研究——使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率,用高分辨率EDS进行成像-8

对光催化工艺中使用的离子束敏感型材料 (C3N4(Co)-Pt) 进行高分辨率EDS绘图。催化剂使用铂和钴纳米粒子的协同行为来提高催化效率。数据由中国西安交通大学杨胜春教授提供。


催化剂研究相关资源

在线点播网络讲座:Spectra 200 S/TEM:催化剂表征的主力设备

观看此网络讲座,了解使用 TEM 的先进催化剂表征方法,Spectra 200 S/TEM 这样的工具如何用于催化剂行业的催化研究,以及 Haldor Topsøe 为什么选择 Spectra 200 S/TEM。

观看网络讲座


在线点播网络讲座:使用 STEM HAADF-iDPC 进行定量结构分析

本网络讲座将介绍研究中发现的材料在催化中的相关性、其合成中的挑战及其原子级表征。

观看网络讲座

对 Pt-Rh 催化剂进行高分辨率 TEM 成像时,由  Thermo Scientific Ceta 16M  相机拍摄的纳米粒子图像,其中揭示了 纳米粒子的晶格结构。 样品由以下方面提供:科罗拉多矿业学院 B. Gorman 教授和 R. Richards 教授。

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催化剂研究相关的电镜应用

采用电子显微镜进行过程控制

采用电镜进行过程控制

现代工业需求高通量、质量卓越、通过稳健的工艺控制维持平衡。SEM扫描电镜TEM透射电镜工具结合专用的自动化软件,为过程监控和改进提供了快速、多尺度的信息。

使用电子显微镜进行质量控制和故障分析

质量控制和故障分析

质量控制和保证对于现代工业至关重要。我们提供一系列用于缺陷多尺度和多模式分析的 EM电子显微镜和光谱工具,使您可以为过程控制和改进做出可靠、明智的决策。

使用电镜进行基础材料研究

基础材料研究

越来越小的规模研究新型材料,以最大限度地控制其物理和化学特性。电子显微镜为研究人员提供了对微米到纳米级各种材料特性的重要见解。

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用于催化剂研究的相关技术

(S)TEM 样品制备

DualBeam显微镜可制备用于(S)TEM分析的高质量、超薄样品。借助先进的自动化技术,任何经验水平的用户都可以获得各种材料的专家级结果。

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3D 材料表征

材料开发通常需要多尺度3D表征。DualBeam仪器可实现大体积连续切片和随后纳米级的SEM成像,可用于样品的高质量3D重建。

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EDS元素分析

EDS为电子显微镜观察提供重要的组分信息。尤其是我们独特的Super-X和Dual-X检测器系统添加了提高通量和/或灵敏度的选项,使您可以优化数据采集以满足您的研究优先级。

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3D EDS断层扫描

现代材料研究越来越依赖于三维的纳米级分析。3D电镜和能量色散X射线光谱可以3D表征包括整个化学和结构背景下的组分数据。

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能量色散谱EDS

能量色散谱(EDS)可采集详细的元素信息以及电子显微镜图像,为电镜观察提供关键的组成背景。利用EDS可通过快速、整体的表面扫描至各个原子以确定化学成分。

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使用EDS进行原子级元素映射

原子分辨率EDS通过区分单个原子的元素特性,为材料分析提供无与伦比的化学环境。当与高分辨率透射电镜TEM结合时,可以观察样品中原子的精确组织。

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ColorSEM

通过实时采集SEM和EDS信息以及实时定量功能,ColorSEM技术将SEM图像转化为彩色图像。现在任何用户都可以实时获取元素信息,得到比以往任何时候更多的完整信息。

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使用HRSTEM和HRTEM进行成像

透射电镜对于表征纳米粒和纳米材料的结构具有宝贵价值。使用高分辨率STEM和TEM可获得化学成分的原子分辨率数据及信息。

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差分相位对比成像

现代电子研究依赖于纳米级的电性和磁性性质分析。差分相位对比STEM (DPC-STEM)可以对样品中磁场的强度和分布进行成像,并显示磁畴结构。

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对热样品进行成像

在现实条件中,研究材料通常需要在高温下工作。在热量存在时,可以通过扫描电子显微镜或DualBeam工具对材料再结晶、熔化、变形或反应的行为进行原位研究。

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环境SEM (ESEM)

环境SEM 能对自然状态的材料进行成像。它是需要测试和分析湿、脏、活性、脱气或其他不兼容真空的样品的学术和工业研究人员的理想选择。

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电子能量损失谱

材料科学研究借助高分辨率EELS得以进行广泛的分析应用。这包括高通量、高信噪比元素映射,以及氧化状态和表面声子的探测。

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交叉切片

交叉切片通过揭示亚表面信息提供额外的剖析。DualBeam仪器配备卓越的聚焦离子束色谱柱,可实现高质量的交叉切片。借助自动化技术,可实现无人参与的高通量样品处理功能。

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原位实验

需要通过电子显微镜直接实时观察微观结构变化,以便了解在加热、冷却和润湿过程中的动态过程(如再结晶、晶粒生长和相变)的基本原理。

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颗粒分析

颗粒分析在纳米材料研究和质量控制中发挥着重要作用。纳米级分辨率和卓越的电子显微镜成像可以与专用软件相结合,以快速表征粉末和微粒。

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SIMS

用于聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 工具的TOF-SIMS(飞行时间二级离子质谱)检测器能够对周期表中的所有元素进行高分辨率分析表征—即使是在低浓度下。

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多尺度分析

必须在更高分辨率下分析新材料,同时保留较大的样品背景。多尺度分析允许多种成像工具和模态(如X射线microCT、DualBeam、激光PFIB、SEM和TEM)关联。

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X射线光电子能谱

X射线光电子能谱 (XPS) 能够进行表面分析,提供材料最上面10 nm的元素组成以及化学和电子状态。借助深度剖析,XPS分析可以扩展到各层的组成部分。

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自动化颗粒工作流程

自动化纳米颗粒工作流程(APW)是一种用于纳米颗粒分析的透射电子显微镜工作流程,提供纳米级大面积、高分辨率的纳米级成像和数据采集,并进行即时处理。

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(S)TEM 样品制备

DualBeam显微镜可制备用于(S)TEM分析的高质量、超薄样品。借助先进的自动化技术,任何经验水平的用户都可以获得各种材料的专家级结果。

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3D 材料表征

材料开发通常需要多尺度3D表征。DualBeam仪器可实现大体积连续切片和随后纳米级的SEM成像,可用于样品的高质量3D重建。

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EDS元素分析

EDS为电子显微镜观察提供重要的组分信息。尤其是我们独特的Super-X和Dual-X检测器系统添加了提高通量和/或灵敏度的选项,使您可以优化数据采集以满足您的研究优先级。

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3D EDS断层扫描

现代材料研究越来越依赖于三维的纳米级分析。3D电镜和能量色散X射线光谱可以3D表征包括整个化学和结构背景下的组分数据。

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能量色散谱EDS

能量色散谱(EDS)可采集详细的元素信息以及电子显微镜图像,为电镜观察提供关键的组成背景。利用EDS可通过快速、整体的表面扫描至各个原子以确定化学成分。

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使用EDS进行原子级元素映射

原子分辨率EDS通过区分单个原子的元素特性,为材料分析提供无与伦比的化学环境。当与高分辨率透射电镜TEM结合时,可以观察样品中原子的精确组织。

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ColorSEM

通过实时采集SEM和EDS信息以及实时定量功能,ColorSEM技术将SEM图像转化为彩色图像。现在任何用户都可以实时获取元素信息,得到比以往任何时候更多的完整信息。

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使用HRSTEM和HRTEM进行成像

透射电镜对于表征纳米粒和纳米材料的结构具有宝贵价值。使用高分辨率STEM和TEM可获得化学成分的原子分辨率数据及信息。

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差分相位对比成像

现代电子研究依赖于纳米级的电性和磁性性质分析。差分相位对比STEM (DPC-STEM)可以对样品中磁场的强度和分布进行成像,并显示磁畴结构。

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对热样品进行成像

在现实条件中,研究材料通常需要在高温下工作。在热量存在时,可以通过扫描电子显微镜或DualBeam工具对材料再结晶、熔化、变形或反应的行为进行原位研究。

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环境SEM (ESEM)

环境SEM 能对自然状态的材料进行成像。它是需要测试和分析湿、脏、活性、脱气或其他不兼容真空的样品的学术和工业研究人员的理想选择。

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材料科学研究借助高分辨率EELS得以进行广泛的分析应用。这包括高通量、高信噪比元素映射,以及氧化状态和表面声子的探测。

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交叉切片

交叉切片通过揭示亚表面信息提供额外的剖析。DualBeam仪器配备卓越的聚焦离子束色谱柱,可实现高质量的交叉切片。借助自动化技术,可实现无人参与的高通量样品处理功能。

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原位实验

需要通过电子显微镜直接实时观察微观结构变化,以便了解在加热、冷却和润湿过程中的动态过程(如再结晶、晶粒生长和相变)的基本原理。

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颗粒分析

颗粒分析在纳米材料研究和质量控制中发挥着重要作用。纳米级分辨率和卓越的电子显微镜成像可以与专用软件相结合,以快速表征粉末和微粒。

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SIMS

用于聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 工具的TOF-SIMS(飞行时间二级离子质谱)检测器能够对周期表中的所有元素进行高分辨率分析表征—即使是在低浓度下。

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多尺度分析

必须在更高分辨率下分析新材料,同时保留较大的样品背景。多尺度分析允许多种成像工具和模态(如X射线microCT、DualBeam、激光PFIB、SEM和TEM)关联。

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X射线光电子能谱

X射线光电子能谱 (XPS) 能够进行表面分析,提供材料最上面10 nm的元素组成以及化学和电子状态。借助深度剖析,XPS分析可以扩展到各层的组成部分。

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自动化颗粒工作流程

自动化纳米颗粒工作流程(APW)是一种用于纳米颗粒分析的透射电子显微镜工作流程,提供纳米级大面积、高分辨率的纳米级成像和数据采集,并进行即时处理。

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用于催化剂研究的产品

仪器卡片原件样式表

Spectra 300

  • 获得原子水平的最高分辨率结构和化学信息
  • 30-300 kV 的灵活高张力范围
  • 三个透镜冷凝器系统

Spectra 200

  • 用于 30-200 kV 加速电压的高分辨率和对比度成像
  • 宽间隙极片设计为 5.4 mm 的对称 S-TWIN/X-TWIN 物镜
  • 60 kV-200 kV 范围的亚埃 STEM 成像分辨率

Themis ETEM

  • 精确控制并了解样品温度
  • 通过 x 、 y 和 z 轴改进了样品稳定性、导航和辅助样品漂移校正
  • 推进高质量成像和电影采集功能

Talos L120C TEM

  • 更高稳定性
  • 4k × 4K Ceta CMOS 相机
  • 25 – 650 k 倍 TEM 放大范围
  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息

Talos F200C TEM

  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息
  • 高对比度、高质量 TEM 和 STEM 成像
  • Ceta 16 Mixel CMOS 相机提供了宽视野和高读取速度

Talos F200i TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和灵活的EDS
  • 可使用高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供双EDS,以获得最高的分析产量

Talos F200S TEM

  • 精确的化学成分数据
  • 用于动态显微镜的高性能成像和精确成分分析
  • 配有 Velox 软件、可实现快速、轻松的获取和分析多模态数据

Talos F200X TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和精确的EDS
  • 可提供高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供具有终极清洁度的柱内Super-X G2 EDS

Helios Hydra DualBeam

  • 4 个快速切换离子种类(Xe、Ar、O、N),用于对种类最丰富的材料进行优化 PFIB 处理
  • Ga-free TEM 样品制备
  • 极高分辨率 SEM 成像

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Scios 2 DualBeam

  • 完全支持磁性及不导电样品
  • 高通量亚表面和 3D 表征
  • 先进的易用性和自动化功能

Verios 5 XHR SEM

  • 在 1 keV - 30 keV 全能量范围内可实现亚纳米分辨率的单色化 SEM
  • 可轻松访问低至 20 eV 的射束降落能量
  • 优良的稳定性、压电陶瓷样品台作为标准配置

Quattro ESEM

  • 超高通用性高分辨率 FEG SEM 、具有独特的环境能力( ESEM )
  • 在各种操作模式下均可通过同时进行 SE 和 BSE 成像观察所有样品的所有信息

Apreo 2 SEM

  • 高性能 SEM、适用于纳米或纳米以下的所有圆分辨率
  • 用于敏感电视率材料对比度的列内 T1 反向散射检测器
  • 长工作距离 (10 mm) 下性能出色

PRISMA E SEM

  • 入门级 SEM 具有出色的图像质量
  • 轻松、快速地加载和导航多个样品
  • 由于专用真空模式、兼容多种材料

VolumeScope 2 SEM

  • 大容量各向同性 3D 数据
  • 在高真空和低真空模式下均具有高衬度和高分辨率
  • 轻松在常规 SEM 使用和连续切面成像之间切换

Phenom ProX G6 Desktop SEM

  • 集成 EDS 检测器的高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom XL G2 Desktop SEM

  • 适用于大样品 (100x100 mm) 并是自动化的理想选择
  • <10 nm 分辨率和高达 200,000 倍的放大率;4.8 kV 至 20 kV 加速电压
  • 可选的完全集成的 EDS 和 BSE 检测器

Phenom Pharos G2 Desktop FEG-SEM

  • 1 至 20 kV 加速电压范围的 FEG 源
  • <2.0 nm (SE) 和 3.0 nm (BSE) 分辨率(20 kV 时)
  • 可选的完全集成 EDS 和 SE 检测器

Phenom Pro G6 Desktop SEM

  • 高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom Pure G6 Desktop SEM

  • 入门级桌面 SEM
  • 分辨率 <15 nm;放大率高达 175,000 倍
  • 耐用的 CeB6 放射源

Nexsa G2 XPS

  • 微焦点 X 射线源
  • 独特的多技术选项
  • 用于单原子和簇离子深度剖析的双模式离子源

K-Alpha XPS

  • 高分辨率 XPS
  • 快速、高效、自动化的工作流程
  • 用于深度剖析的离子源

ESCALAB QXi XPS

  • 高光谱分辨率
  • 多技术表面分析
  • 丰富的样品制备和扩展选项

HeliScan microCT

  • 先进的螺旋扫描及迭代重建技术
  • 高分辨率 X 射线源(低于 400 nm)
  • 处理、分析和可视化样品

Auto Slice 和 View 4.0 软件

  • DualBeam 自动连续切片
  • 多模式数据采集(SEM、EDS、EBSD)
  • 实时编辑功能
  • 基于边缘的剪切放置

Avizo 软件
材料科学

  • 支持多数据/多视图、多通道、时间序列、超大数据
  • 先进的多模式 2D/3D 自动配准
  • 伪影消除算法

Inspect 3D 软件

  • 用于交叉关联的图像处理工具和过滤器
  • 用于图像对齐的特征跟踪
  • 用于迭代投影比较的代数重建技术

Maps 软件

  • 获得大面积的高分辨率图像
  • 轻松发现感兴趣区
  • 自动化图像采集过程
  • 关联不同来源的数据

公制端口

  • 根据孔隙特征相关联、如面积、长径比、主要和次要轴
  • 直接从桌面 SEM 采集图像
  • 使用高质量图像的统计数据

分区公制

  • ProSuite 中的集成软件可用于在线和离线分析
  • 将颗粒特征相关联、比如直径、圆度、长径比和会议度
  • 使用自动图像映射创建图像数据集

EDS 绘图

  • 快速可靠的样品或所选线中元素分布信息
  • 容易导出和报告结果

3D 重构

  • 直观的用户界面、可最大限度提高用户使用能力
  • 直观的全自动用户界面
  • 基于 " 阴影形状 " 技术、无需阶段倾斜

纤维公制

  • 通过自动测量节省时间
  • 快速、自动收集所有统计数据
  • 以无与伦比的准确度查看和测量微纤维和纳米纤维

μHeater

  • 用于原位高分辨率成像的超快速加热解决方案
  • 全集成:
  • 温度最高可达 1200 °C

Standard 样品支架

  • 可分析样品量多达 100 mm x 100 mm 的紧凑型样品台
  • 可以使用 3 种树脂或冶金安装插件进行扩展
  • 配合 Phenom 台式扫描电镜使用

Eucentric样品支架

  • 在桌面 SEM 上进行共焦倾斜和同轴旋转
  • 快速成像,上样 < 1 分钟即可完成
  • 实时 3D 样品可视化模块

Tensile 样品支架

  • 确定批次质量
  • 确定生产一致性
  • 帮助设计流程

树脂安装插件

  • 独特的样品持有人概念
  • 提供适用于支持 25 mm(约 1 英寸)、32 mm (约 1 ¼ 英寸)和 40 mm(约 1 ½ 英寸)直径的标准尺寸样品的 3 种型号

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