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随着生产部件日益复杂和可靠性标准的不断提高,对部件的质量控制和保证在现代工业中变得越来越重要。质量监管的一个关键方面是失效分析,可提供对组分/材料失效根原因的深入分析,从而可制定制造过程中的质量控制指标并强制执行第三方质量要求。由于组分失效通常是很多小微观缺陷的直接结果,因此对它们进行多尺度观察和定量是获得确定根本原因所需的准确表征的唯一方法。

赛默飞世尔科技提供一系列工具,可通过全面鉴定以及缺陷、故障和失效研究来监测一致性。对于大体积分析来说,X 射线显微层析 (microCT) 是一种无损技术,可在微米分辨率下对样品进行 3D 重建。与熟悉的医院 CAT 扫描技术基本相同,microCT 提供对材料的实用概述,以用于缺陷定位和隔离。之后可使用更高分辨率的技术(例如电子显微镜 (EM))进行提取和进一步分析。

借助 EM 可获得低至纳米尺度的结构细节。这可以对微观缺陷或与过程性能数据的纳米级偏差进行精确的表征,而这些异常无法使用其他工具进行观察。有了这些信息,工程师和研究人员可以在缺陷形成的最初阶段制定质量改进措施。

电子显微镜不仅能够提供无与伦比的结构细节,该方法还具有元素分析的额外优势。名为 能量色散 X 射线光谱(EDS、EDX 或 XEDS)的方法是通过在电子轰击期间从样品表面发射的 X 射线实现的。X 射线光谱是其来源材料的特征,峰的强度对应的是浓度。此信号可以链接到 EM 图像上的位置,以便对观察到的缺陷进行元素观察。事实上,Thermo Scientific ColorSEM 技术甚至具有实时 EDX 分析功能,可自动着色灰度电子微图,在观察到故障和缺陷时提供即时化学背景。

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相关资源

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样品


电池研究

通过使用 microCT、SEM扫描电镜和TEM透射电镜、拉曼光谱、XPS和数字3D可视化与分析进行多尺度分析、实现电池开发。了解该方法如何提供构建更好电池所需的结构和化学信息。

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纳米粒

在纳米技术领域,材料的性质与宏观技术领域中有本质的不同。为了研究它们,S/TEM仪器可以与能量色散X射线光谱仪结合使用,以获得纳米、甚至亚纳米级的分辨率数据。

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金属研究

金属的有效生产需要精确控制夹杂物和沉淀物。我们的自动化工具能够执行金属分析需要的各种任务,包括纳米粒计数、EDS元素分析TEM样品制备

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催化研究

催化剂对于大多数现代工业工艺至关重要。其效率取决于催化颗粒的微观组成和形态;EDS电镜是研究这些性质的理想选择。

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聚合物研究

聚合物微观结构决定了材料的整体特性和性能。显微CT能够对聚合物形态和成分进行全面的微量分析,适用于R&D和质量控制应用。

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2D 材料

新型材料研究对低维材料的结构越来越感兴趣。具有探头校正和单色化的STEM扫描透射电镜可用于高分辨率二维材料成像。

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汽车材料测试

现代车辆中的每一个部件都是为了安全、效率和性能而设计的。使用电镜和光谱学详细表征汽车材料,可提供关键的工艺决策、产品改进和新材料。

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技术

(S)TEM 样品制备

DualBeam显微镜可制备用于(S)TEM分析的高质量、超薄样品。借助先进的自动化技术,任何经验水平的用户都可以获得各种材料的专家级结果。

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3D 材料表征

材料开发通常需要多尺度3D表征。DualBeam仪器可实现大体积连续切片和随后纳米级的SEM成像,可用于样品的高质量3D重建。

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EDS元素分析

EDS为电子显微镜观察提供重要的组分信息。尤其是我们独特的Super-X和Dual-X检测器系统添加了提高通量和/或灵敏度的选项,使您可以优化数据采集以满足您的研究优先级。

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3D EDS断层扫描

现代材料研究越来越依赖于三维的纳米级分析。3D电镜和能量色散X射线光谱可以3D表征包括整个化学和结构背景下的组分数据。

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ColorSEM

通过实时采集SEM和EDS信息以及实时定量功能,ColorSEM技术将SEM图像转化为彩色图像。现在任何用户都可以实时获取元素信息,得到比以往任何时候更多的完整信息。

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交叉切片

交叉切片通过揭示亚表面信息提供额外的剖析。DualBeam仪器配备卓越的聚焦离子束色谱柱,可实现高质量的交叉切片。借助自动化技术,可实现无人参与的高通量样品处理功能。

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原位实验

需要通过电子显微镜直接实时观察微观结构变化,以便了解在加热、冷却和润湿过程中的动态过程(如再结晶、晶粒生长和相变)的基本原理。

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颗粒分析

颗粒分析在纳米材料研究和质量控制中发挥着重要作用。纳米级分辨率和卓越的电子显微镜成像可以与专用软件相结合,以快速表征粉末和微粒。

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阴极发光

阴极发光 (CL) 描述材料在电子束的激发下产生的发光现象。该信号由专业的 CL 检测器捕获,包含样品成分、晶体缺陷或光子特性的信息。

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多尺度分析

必须在更高分辨率下分析新材料,同时保留较大的样品背景。多尺度分析允许多种成像工具和模态(如X射线microCT、DualBeam、激光PFIB、SEM和TEM)关联。

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自动化颗粒工作流程

自动化纳米颗粒工作流程(APW)是一种用于纳米颗粒分析的透射电子显微镜工作流程,提供纳米级大面积、高分辨率的纳米级成像和数据采集,并进行即时处理。

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(S)TEM 样品制备

DualBeam显微镜可制备用于(S)TEM分析的高质量、超薄样品。借助先进的自动化技术,任何经验水平的用户都可以获得各种材料的专家级结果。

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3D 材料表征

材料开发通常需要多尺度3D表征。DualBeam仪器可实现大体积连续切片和随后纳米级的SEM成像,可用于样品的高质量3D重建。

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EDS元素分析

EDS为电子显微镜观察提供重要的组分信息。尤其是我们独特的Super-X和Dual-X检测器系统添加了提高通量和/或灵敏度的选项,使您可以优化数据采集以满足您的研究优先级。

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3D EDS断层扫描

现代材料研究越来越依赖于三维的纳米级分析。3D电镜和能量色散X射线光谱可以3D表征包括整个化学和结构背景下的组分数据。

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ColorSEM

通过实时采集SEM和EDS信息以及实时定量功能,ColorSEM技术将SEM图像转化为彩色图像。现在任何用户都可以实时获取元素信息,得到比以往任何时候更多的完整信息。

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交叉切片

交叉切片通过揭示亚表面信息提供额外的剖析。DualBeam仪器配备卓越的聚焦离子束色谱柱,可实现高质量的交叉切片。借助自动化技术,可实现无人参与的高通量样品处理功能。

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原位实验

需要通过电子显微镜直接实时观察微观结构变化,以便了解在加热、冷却和润湿过程中的动态过程(如再结晶、晶粒生长和相变)的基本原理。

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颗粒分析

颗粒分析在纳米材料研究和质量控制中发挥着重要作用。纳米级分辨率和卓越的电子显微镜成像可以与专用软件相结合,以快速表征粉末和微粒。

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阴极发光

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多尺度分析

必须在更高分辨率下分析新材料,同时保留较大的样品背景。多尺度分析允许多种成像工具和模态(如X射线microCT、DualBeam、激光PFIB、SEM和TEM)关联。

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自动化颗粒工作流程

自动化纳米颗粒工作流程(APW)是一种用于纳米颗粒分析的透射电子显微镜工作流程,提供纳米级大面积、高分辨率的纳米级成像和数据采集,并进行即时处理。

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产品

仪器卡片原件样式表

Helios 5 激光 PFIB 系统

  • 快速、毫米级交叉截面
  • 统计学相关的深度亚表面和 3D 数据分析
  • 共享 Helios 5 PFIB 平台的所有功能

Helios Hydra DualBeam

  • 4 个快速切换离子种类(Xe、Ar、O、N),用于对种类最丰富的材料进行优化 PFIB 处理
  • Ga-free TEM 样品制备
  • 极高分辨率 SEM 成像

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Spectra Ultra

  • 适用于大多数电子束敏感材料的新成像和光谱分析功能
  • 利用 Ultra-X 进行 EDX 检测的飞跃
  • 色谱柱旨在保持样品完整性。

Talos F200S TEM

  • 精确的化学成分数据
  • 用于动态显微镜的高性能成像和精确成分分析
  • 配有 Velox 软件、可实现快速、轻松的获取和分析多模态数据

Talos F200X TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和精确的EDS
  • 可提供高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供具有终极清洁度的柱内Super-X G2 EDS

Talos F200C TEM

  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息
  • 高对比度、高质量 TEM 和 STEM 成像
  • Ceta 16 Mixel CMOS 相机提供了宽视野和高读取速度

Talos F200i TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和灵活的EDS
  • 可使用高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供双EDS,以获得最高的分析产量

Axia ChemiSEM

  • 现场定量元素绘图
  • 高保真扫描电子显微成像
  • 灵活易用,对新用户亦然
  • 易于维护

VolumeScope 2 SEM

  • 大容量各向同性 3D 数据
  • 在高真空和低真空模式下均具有高衬度和高分辨率
  • 轻松在常规 SEM 使用和连续切面成像之间切换

Apreo 2 SEM

  • 高性能 SEM、适用于纳米或纳米以下的所有圆分辨率
  • 用于敏感电视率材料对比度的列内 T1 反向散射检测器
  • 长工作距离 (10 mm) 下性能出色

Phenom ParticleX Steel Desktop SEM

  • 集成 SEM 和 EDS
  • 易于使用
  • 亚微米级夹杂物

Phenom XL G2 Desktop SEM

  • 适用于大样品 (100x100 mm) 并是自动化的理想选择
  • <10 nm 分辨率和高达 200,000 倍的放大率;4.8 kV 至 20 kV 加速电压
  • 可选的完全集成的 EDS 和 BSE 检测器

Phenom Pharos G2 Desktop FEG-SEM

  • 1 至 20 kV 加速电压范围的 FEG 源
  • <2.0 nm (SE) 和 3.0 nm (BSE) 分辨率(20 kV 时)
  • 可选的完全集成 EDS 和 SE 检测器

Phenom 微粒 X TC 台式扫描电镜

  • 功能多样的桌面 SEM ,带有自动化软件,可用于技术清洁
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom 微粒 X AM 台式扫描电镜

  • 多用途桌面 SEM 、同时使用自动化软件进行添加剂制造
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

HeliScan microCT

  • 先进的螺旋扫描及迭代重建技术
  • 高分辨率 X 射线源(低于 400 nm)
  • 处理、分析和可视化样品

Maps 软件

  • 获得大面积的高分辨率图像
  • 轻松发现感兴趣区
  • 自动化图像采集过程
  • 关联不同来源的数据

Avizo 软件
材料科学

  • 支持多数据/多视图、多通道、时间序列、超大数据
  • 先进的多模式 2D/3D 自动配准
  • 伪影消除算法

分区公制

  • ProSuite 中的集成软件可用于在线和离线分析
  • 将颗粒特征相关联、比如直径、圆度、长径比和会议度
  • 使用自动图像映射创建图像数据集

EDS 绘图

  • 快速可靠的样品或所选线中元素分布信息
  • 容易导出和报告结果

纤维公制

  • 通过自动测量节省时间
  • 快速、自动收集所有统计数据
  • 以无与伦比的准确度查看和测量微纤维和纳米纤维

AsbestoMetric

  • 用于图像采集、纤维检测和报告的自动化工具
  • 纤维再访问有助于 EDS 分析
  • 石棉分析的 ISO 标准报告

Velox

  • 处理窗口左侧的实验面板。
  • 活细胞定量分析
  • 交互式探测器布局界面用于可重复的实验控制和设置

公制端口

  • 根据孔隙特征相关联、如面积、长径比、主要和次要轴
  • 直接从桌面 SEM 采集图像
  • 使用高质量图像的统计数据

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