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对半导体器件故障进行故障排除对于提高生产良率、降低成本和极大限度地减少整个产线测试故障至关重要。然而,由于半导体设计日益复杂,在故障分析工作流程中找出故障和缺陷(例如开路、金属短路和泄漏)变得更具挑战性。
光学故障隔离 (OFI) 是一种电气故障分析技术,它利用多种光学技术(光子发射、静态激光刺激等)来检测器件故障的原因。
这可包括静态和动态 OFI:
静态 OFI 技术 | 动态 OFI 技术 |
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光束感生电阻变化 (OBIRCH) | 激光电压成像 (LVI) |
光束感生电流 (OBIC) | 激光电压探测 (LVP) |
光感应电压变化 (LIVA) | 激光电压跟踪 (LVT) |
热感应电压变化 (TIVA) | 激光辅助器件改造 (LADA) |
静态光子发射 (PEM) | 软缺陷定位 (SDL) |
动态光子发射 (PEM) |
从广义上讲,利用这些技术,用户可分析电活性器件的性能并定位导致器件故障的关键缺陷。 了解这些缺陷,然后从生产工艺中消除这些缺陷,对于现代晶圆厂以高良率和高利润率运营至关重要。
Thermo Fisher Scientific 提供多种光学故障隔离系统,作为 Meridian 产品系列的一部分。这包括上述所有 OFI 技术,包括用于光子发射和激光刺激应用的系统。Meridian 产品系列包含用于定位半导体器件中电气故障的高性价比、高灵敏度的解决方案,与 Thermo Fisher Scientific 产品组合中的其他分析工作流程和解决方案结合使用时尤其强大。单击至以下相应产品页面,了解更多信息。