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对半导体器件故障进行故障排除对于提高生产良率、降低成本和极大限度地减少整个产线测试故障至关重要。然而,由于半导体设计日益复杂,在故障分析工作流程中找出故障和缺陷(例如开路、金属短路和泄漏)变得更具挑战性。

光学故障隔离 (OFI) 是一种电气故障分析技术,它利用多种光学技术(光子发射、静态激光刺激等)来检测器件故障的原因。

这可包括静态和动态 OFI:

产品表格规范样式表
静态 OFI 技术动态 OFI 技术
光束感生电阻变化 (OBIRCH)激光电压成像 (LVI)
光束感生电流 (OBIC)激光电压探测 (LVP)
光感应电压变化 (LIVA)激光电压跟踪 (LVT)
热感应电压变化 (TIVA)激光辅助器件改造 (LADA)
静态光子发射 (PEM)软缺陷定位 (SDL)
 动态光子发射 (PEM)

从广义上讲,利用这些技术,用户可分析电活性器件的性能并定位导致器件故障的关键缺陷。 了解这些缺陷,然后从生产工艺中消除这些缺陷,对于现代晶圆厂以高良率和高利润率运营至关重要。

Thermo Fisher Scientific 提供多种光学故障隔离系统,作为 Meridian 产品系列的一部分。这包括上述所有 OFI 技术,包括用于光子发射和激光刺激应用的系统。Meridian 产品系列包含用于定位半导体器件中电气故障的高性价比、高灵敏度的解决方案,与 Thermo Fisher Scientific 产品组合中的其他分析工作流程和解决方案结合使用时尤其强大。单击至以下相应产品页面,了解更多信息。

半导体光学故障隔离工作流程示例

 

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