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制造具有统一尺寸的纳米结构和架构对于开发功能性半导体器件是非常理想的。随着这些器件缩小,需要使用新型材料制造新设计和更复杂的结构,以应对相应的挑战。为此,必须使用高灵敏度和先进的分析工具来检测在这些更先进结构中可能影响良率或性能的极轻微电气问题。

例如,分析可能包括找出导致半导体器件产线测试不合格的电气故障。缺陷(如金属短路、开路和晶体管级泄漏)集中在故障分析工作流程中,以识别并排除故障,从而提高器件的总体生产良率。这有助于提高成本效益,并提供用于检测电气故障的高灵敏度解决方案。

Thermo Fisher Scientific 3D 分析解决方案和工作流程提供了多种器件和样品类型的高生产率表征–从封装晶片、裸晶片到 150 mm、200 mm 和 300 mm 晶片。


应用

半导体寻路

半导体探索和开发

先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。

半导体良率提升和计量

良率提升和计量

我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能,旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。

半导体故障分析

半导体故障分析

越来越复杂的半导体器件结构导致更多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。

物理和化学表征

物理和化学表征

持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程,可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。

ESD半导体鉴定

ESD 半导体鉴定

每个静电放电 (ESD) 控制计划都必须识别对 ESD 敏感的器件。我们提供一整套ESD测试系统,帮助满足您的器件鉴定要求。

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高级内存技术

现代数据需求正在推动 3D NAND、DRAM 以及其他内存结构的创新。我们的内存分析工具和工作流程提供了高效率的表征,以便制造商能够满足性能、延迟和容量需求。

电源半导体设备分析

电源半导体设备分析

电源设备让定位故障面临独特的挑战,主要是由于电源设备结构和布局。我们的电源设备分析工具和工作流程可在工作条件下快速实现故障定位并提供精确、高通量的分析,以便表征材料、接口和设备结构。


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技术

TEM计量

先进的自动化 TEM 计量程序的精确度比手动方法高得多。这样用户可以生成大量具有亚埃级特异性的统计相关数据、而不存在操作员偏差。

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半导体TEM成像和分析

Thermo Fisher Scientific 透射电镜可对半导体器件进行高分辨率成像和分析,使制造商能够校准工具集、诊断故障机制并优化整体流程产量。

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电路编辑

先进的专用电路编辑和纳米原型设计解决方案将新型气体输送系统与广泛的化学品组合和聚焦离子束技术相结合,为半导体器件开发提供无与伦比的控制和精确度。

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SEM 计量

扫描电子显微镜可以纳米尺度提供准确可靠的计量数据。自动化的超高分辨率 SEM 计加快了内存、逻辑和数据存储应用的利润产出时间和上市时间。

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半导体扫描电子显微镜分析和成像

赛默飞世尔科技提供适合半导体实验室每个功能的扫描电子显微镜,从一般成像任务到高级故障分析技术,都需要精确的电压对比测量。

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光学故障隔离

半导体制造中越来越复杂的设计使故障和缺陷隔离变得越来越复杂。光学故障隔离技术使您可以分析电活性设备的性能,以定位导致设备故障的关键缺陷。

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热故障隔离

本地功率耗散分布不均匀可能导致较大的局部温度上升,从而导致设备故障。我们提供采用高灵敏度锁定红外热成像 (LIT) 技术进行热故障隔离的独特解决方案。

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半导体器件的TEM样品制备

Thermo Scientific DualBeam 系统为半导体器件的原子尺度分析提供了准确的 TEM 样品制备。自动化和先进的机器学习技术可以在正确的位置生成高质量的样品,并且单位样品成本低。

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纳米探针

随着设备复杂性的增加,隐藏缺陷的位置数量也随之增加。纳米探针可提供电气故障的精确定位、这对于有效的透射电镜故障分析工作流程至关重要。

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半导体激光烧蚀

激光烧蚀可为半导体器件提供高通量减薄,以便在保持样品完整性的同时使用电子显微镜进行成像和分析。访问大容量3D数据并优化减薄条件,从而完美匹配您的样品类型。

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器件扁平化

逐渐缩小的尺寸配以先进的设计和结构,导致半导体的故障分析变得越来越具有挑战性。器件无损扁平化是检测埋藏的电气故障和故障的关键技术。

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ESD 合规性测试

静电放电(ESD)会损坏半导体和集成电路中的小功能和结构。我们提供一套全面的测试设备,用以验证您的设备是否符合目标 ESD 合规标准。

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TEM计量

先进的自动化 TEM 计量程序的精确度比手动方法高得多。这样用户可以生成大量具有亚埃级特异性的统计相关数据、而不存在操作员偏差。

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半导体TEM成像和分析

Thermo Fisher Scientific 透射电镜可对半导体器件进行高分辨率成像和分析,使制造商能够校准工具集、诊断故障机制并优化整体流程产量。

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电路编辑

先进的专用电路编辑和纳米原型设计解决方案将新型气体输送系统与广泛的化学品组合和聚焦离子束技术相结合,为半导体器件开发提供无与伦比的控制和精确度。

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SEM 计量

扫描电子显微镜可以纳米尺度提供准确可靠的计量数据。自动化的超高分辨率 SEM 计加快了内存、逻辑和数据存储应用的利润产出时间和上市时间。

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半导体扫描电子显微镜分析和成像

赛默飞世尔科技提供适合半导体实验室每个功能的扫描电子显微镜,从一般成像任务到高级故障分析技术,都需要精确的电压对比测量。

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光学故障隔离

半导体制造中越来越复杂的设计使故障和缺陷隔离变得越来越复杂。光学故障隔离技术使您可以分析电活性设备的性能,以定位导致设备故障的关键缺陷。

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热故障隔离

本地功率耗散分布不均匀可能导致较大的局部温度上升,从而导致设备故障。我们提供采用高灵敏度锁定红外热成像 (LIT) 技术进行热故障隔离的独特解决方案。

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半导体器件的TEM样品制备

Thermo Scientific DualBeam 系统为半导体器件的原子尺度分析提供了准确的 TEM 样品制备。自动化和先进的机器学习技术可以在正确的位置生成高质量的样品,并且单位样品成本低。

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纳米探针

随着设备复杂性的增加,隐藏缺陷的位置数量也随之增加。纳米探针可提供电气故障的精确定位、这对于有效的透射电镜故障分析工作流程至关重要。

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半导体激光烧蚀

激光烧蚀可为半导体器件提供高通量减薄,以便在保持样品完整性的同时使用电子显微镜进行成像和分析。访问大容量3D数据并优化减薄条件,从而完美匹配您的样品类型。

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器件扁平化

逐渐缩小的尺寸配以先进的设计和结构,导致半导体的故障分析变得越来越具有挑战性。器件无损扁平化是检测埋藏的电气故障和故障的关键技术。

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ESD 合规性测试

静电放电(ESD)会损坏半导体和集成电路中的小功能和结构。我们提供一套全面的测试设备,用以验证您的设备是否符合目标 ESD 合规标准。

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用于将 H2 样式更改为具有 em-h2-header 类 p 的样式表

产品

仪器卡片原件样式表

Spectra 300

  • 获得原子水平的最高分辨率结构和化学信息
  • 30-300 kV 的灵活高张力范围
  • 三个透镜冷凝器系统

Spectra Ultra

  • 适用于大多数电子束敏感材料的新成像和光谱分析功能
  • 利用 Ultra-X 进行 EDX 检测的飞跃
  • 色谱柱旨在保持样品完整性。

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Helios 5 EXL DualBeam

  • 可实现高样品制备质量的低电压性能
  • 超高分辨率油浸透镜场致发射 SEM 色谱柱
  • 使用 EFEM 自动处理 300 mm FOUP(符合 GEM300 标准)

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Talos F200E TEM

  • 半导体和微电子装置的高质量 (S)TEM 成像
  • 使用 EDS 进行精确、高速的化学表征
  • 专用半导体相关应用

Metrios AX TEM

  • 支持质量、一致性、计量以及减少 OPEX 的自动化选项
  • 充分利用机器学习实现出色的自动功能和特征识别
  • 适用于原位非原位两种薄片制备的工作流程

Scios 2 DualBeam

  • 完全支持磁性及不导电样品
  • 高通量亚表面和 3D 表征
  • 先进的易用性和自动化功能

ExSolve WTP DualBeam

  • 可以在完整晶片上制备直径高达 300 mm 的位点特异性 20 nm 厚薄片
  • 满足需要在先进技术节点上进行自动化高通量采样的需求

Verios 5 XHR SEM

  • 在 1 keV - 30 keV 全能量范围内可实现亚纳米分辨率的单色化 SEM
  • 可轻松访问低至 20 eV 的射束降落能量
  • 优良的稳定性、压电陶瓷样品台作为标准配置

Quattro ESEM

  • 超高通用性高分辨率 FEG SEM 、具有独特的环境能力( ESEM )
  • 在各种操作模式下均可通过同时进行 SE 和 BSE 成像观察所有样品的所有信息

Phenom ProX G6 Desktop SEM

  • 集成 EDS 检测器的高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Taipan G2+ 电路编辑系统

  • 符合 10nm 节点规格的成像和减薄分辨率
  • 对导体和绝缘体具有极佳的蚀刻选择性和沉积控制
  • 出色的导航和离子束放置准确度

Centrios CE

  • 卓越的图像/减薄分辨率
  • 增强的减薄精度和控制
  • 基于 Thermo Scientific Helios DualBeam 平台构建

MK.4TE ESD 和闩锁测试系统

  • 基于快速继电器的操作—多达 2304 个通道
  • 通过 6 个独立的矢量激励电平实现高级设备预处理
  • 完全符合标准的闩锁激发源和器件偏压

ELITE 系统

  • 完全无损
  • 快速识别装配板上有缺陷的组件以进行准确的处置
  • 以千分尺准确度定位 x-y 缺陷,深度位置准确度高达 20 µm

nProber IV

  • 定位晶体管和 BEOL 故障
  • 热纳米探测(-40°C 至 150°C)
  • 半自动操作

Hyperion II 系统

  • 原子力探测
  • 定位晶体管故障
  • 集成式 PicoCurrent (CAFM)

Meridian S 系统

  • 使用主动探针技术的故障诊断
  • 静态激光刺激 (SLS/OBIRCH) 和光子发射选项
  • 支持微探测和探针卡设备两种刺激

Meridian WS-DP 系统

  • 使用宽频 DBX 或 InGaAs 相机系统实现高灵敏度、低噪音的低电压光子发射检测
  • 用于扫描链分析、频率映射、晶体管探测和故障隔离的多波长激光扫描显微镜

Meridian 7 系统

  • 适用于 10nm 及以下节点的动态光学故障隔离
  • 高分辨率可见光和红外光
  • 可大范围提供精确到 5μm 的高成品率样品制备

Meridian IV 系统

  • 高灵敏度扩展波长 DBX 光子发射检测
  • 标准 InGaAs 光子发射检测
  • 具有多种波长选项的激光扫描显微镜

Celestron 测试系统

  • 硅片和封装级 TLP 测试
  • 高电流 TLP 脉冲发生器
  • 可与半自动探针台连接
  • 直观的控制和报告生成软件

Orion3 测试系统

  • 带电器件模型测试
  • 双高分辨率彩色相机
  • 低至小于 0.4mm 节距的测试密度

Pegasus

  • 按照最新行业标准进行测试
  • 真正的系统级 ESD 150pF/330Ω 网络
  • 通过晶圆探针与任何装置进行 2 引脚连接

AutoTEM 5

  • 全自动原位 S/TEM 样品制备
  • 支持上下、平面和翻转几何结构
  • 高度可配置的工作流程
  • 易于使用、直观的用户界面

Auto Slice 和 View 4.0 软件

  • DualBeam 自动连续切片
  • 多模式数据采集(SEM、EDS、EBSD)
  • 实时编辑功能
  • 基于边缘的剪切放置

Maps 软件

  • 获得大面积的高分辨率图像
  • 轻松发现感兴趣区
  • 自动化图像采集过程
  • 关联不同来源的数据

Avizo 软件
材料科学

  • 支持多数据/多视图、多通道、时间序列、超大数据
  • 先进的多模式 2D/3D 自动配准
  • 伪影消除算法

iFast 软件

  • 可加快配方创建速度的宏记录器
  • 可实现无人值守夜间操作的运行器
  • 对齐工具:图像识别和边缘查找

Inspect 3D 软件

  • 用于交叉关联的图像处理工具和过滤器
  • 用于图像对齐的特征跟踪
  • 用于迭代投影比较的代数重建技术

NEXS 软件

  • NEXS 与电路编辑系统之间可自动同步位置/放大倍数以实现更无缝的用户体验
  • 连接到大多数用于 EFA、PFA 和电路编辑空间的 Thermo Scientific 工具

AutoScript 4

  • 更高的重现性和回收率
  • 无人值守的高通量成像和模式
  • 支持 Python 3.5 脚本环境

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用于材料科学的
半导体

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