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人工智能、联网汽车、IoT、移动设备和许多其他应用的数据需求推动了内存结构的创新。3D NAND、DRAM 和其他高级内存结构将更多的字节填充到更窄的空间中,具有更高的长宽比,以满足性能、延迟和容量需求。随着垂直堆栈和缩小至更小单元设计方面的增加,工艺复杂性、成本和上市时间成为影响扩量生产和盈利能力的极大挑战。

高级内存技术开发中的挑战

3D NAND 开发中的一些挑战包括通道电洞和字线配置文件差异性和缺陷率,以及连接触点和螺旋结构的短路。DRAM 中的挑战包括存储节点电容器配置文件差异性和缺陷率、位线缺陷和不断缩减的多重曝光覆盖误差预算。这些工艺挑战使得当前的计量和检查工作流程不充分。解决这些复杂堆栈中的工艺问题需要新的工具和工作流程,这些工具和工作流程在开发阶段可实现更快的产出时间,并为大批量生产提供支持。

内存分析工具和工作流程

内存分析工具和工作流程必须为生产商提供各种内存设备的高生产率表征,以在极短时间内尽可能提高良率。这包括用于逐层贯通堆栈计量、高级成像和分析、自动器件逆向处理、高效寻路和 ESD 合规性测试的设备。

Thermo Fisher Scientific 提供了多种高生产率内存分析工作流程的产品组合,可加速开发、尽可能提高良率并确保生产出满足当前和未来行业需求的高质量器件。浏览以下页面,了解我们的应用和工作流程如何满足您的特定需求。


相关资源

应用

半导体寻路

半导体探索和开发

先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。

半导体良率提升和计量

良率提升和计量

我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能,旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。

半导体故障分析

半导体故障分析

越来越复杂的半导体器件结构导致更多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。

物理和化学表征

物理和化学表征

持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程,可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。

ESD半导体鉴定

ESD 半导体鉴定

每个静电放电 (ESD) 控制计划都必须识别对 ESD 敏感的器件。我们提供一整套ESD测试系统,帮助满足您的器件鉴定要求。


技术

纳米探针

随着设备复杂性的增加,隐藏缺陷的位置数量也随之增加。纳米探针可提供电气故障的精确定位、这对于有效的透射电镜故障分析工作流程至关重要。

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光学故障隔离

半导体制造中越来越复杂的设计使故障和缺陷隔离变得越来越复杂。光学故障隔离技术使您可以分析电活性设备的性能,以定位导致设备故障的关键缺陷。

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热故障隔离

本地功率耗散分布不均匀可能导致较大的局部温度上升,从而导致设备故障。我们提供采用高灵敏度锁定红外热成像 (LIT) 技术进行热故障隔离的独特解决方案。

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半导体TEM成像和分析

Thermo Fisher Scientific 透射电镜可对半导体器件进行高分辨率成像和分析,使制造商能够校准工具集、诊断故障机制并优化整体流程产量。

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TEM计量

先进的自动化 TEM 计量程序的精确度比手动方法高得多。这样用户可以生成大量具有亚埃级特异性的统计相关数据、而不存在操作员偏差。

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半导体器件的TEM样品制备

Thermo Scientific DualBeam 系统为半导体器件的原子尺度分析提供了准确的 TEM 样品制备。自动化和先进的机器学习技术可以在正确的位置生成高质量的样品,并且单位样品成本低。

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SEM 计量

扫描电子显微镜可以纳米尺度提供准确可靠的计量数据。自动化的超高分辨率 SEM 计加快了内存、逻辑和数据存储应用的利润产出时间和上市时间。

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半导体扫描电子显微镜分析和成像

赛默飞世尔科技提供适合半导体实验室每个功能的扫描电子显微镜,从一般成像任务到高级故障分析技术,都需要精确的电压对比测量。

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器件扁平化

逐渐缩小的尺寸配以先进的设计和结构,导致半导体的故障分析变得越来越具有挑战性。器件无损扁平化是检测埋藏的电气故障和故障的关键技术。

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ESD 合规性测试

静电放电(ESD)会损坏半导体和集成电路中的小功能和结构。我们提供一套全面的测试设备,用以验证您的设备是否符合目标 ESD 合规标准。

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纳米探针

随着设备复杂性的增加,隐藏缺陷的位置数量也随之增加。纳米探针可提供电气故障的精确定位、这对于有效的透射电镜故障分析工作流程至关重要。

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光学故障隔离

半导体制造中越来越复杂的设计使故障和缺陷隔离变得越来越复杂。光学故障隔离技术使您可以分析电活性设备的性能,以定位导致设备故障的关键缺陷。

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热故障隔离

本地功率耗散分布不均匀可能导致较大的局部温度上升,从而导致设备故障。我们提供采用高灵敏度锁定红外热成像 (LIT) 技术进行热故障隔离的独特解决方案。

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半导体TEM成像和分析

Thermo Fisher Scientific 透射电镜可对半导体器件进行高分辨率成像和分析,使制造商能够校准工具集、诊断故障机制并优化整体流程产量。

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TEM计量

先进的自动化 TEM 计量程序的精确度比手动方法高得多。这样用户可以生成大量具有亚埃级特异性的统计相关数据、而不存在操作员偏差。

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Thermo Scientific DualBeam 系统为半导体器件的原子尺度分析提供了准确的 TEM 样品制备。自动化和先进的机器学习技术可以在正确的位置生成高质量的样品,并且单位样品成本低。

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SEM 计量

扫描电子显微镜可以纳米尺度提供准确可靠的计量数据。自动化的超高分辨率 SEM 计加快了内存、逻辑和数据存储应用的利润产出时间和上市时间。

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静电放电(ESD)会损坏半导体和集成电路中的小功能和结构。我们提供一套全面的测试设备,用以验证您的设备是否符合目标 ESD 合规标准。

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产品

仪器卡片原件样式表

Spectra Ultra

  • 适用于大多数电子束敏感材料的新成像和光谱分析功能
  • 利用 Ultra-X 进行 EDX 检测的飞跃
  • 色谱柱旨在保持样品完整性。

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Helios 5 PXL PFIB Wafer DualBeam

  • 1pA–2.6µA 的 PFIB 电子束电流
  • 更快速的成品率学习和更高的生产力
  • 使用 EFEM 自动处理 300 mm FOUP(符合 GEM300 标准)

Helios 5 EXL DualBeam

  • 可实现高样品制备质量的低电压性能
  • 超高分辨率油浸透镜场致发射 SEM 色谱柱
  • 使用 EFEM 自动处理 300 mm FOUP(符合 GEM300 标准)

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Metrios AX TEM

  • 支持质量、一致性、计量以及减少 OPEX 的自动化选项
  • 充分利用机器学习实现出色的自动功能和特征识别
  • 适用于原位非原位两种薄片制备的工作流程

ELITE 系统

  • 完全无损
  • 快速识别装配板上有缺陷的组件以进行准确的处置
  • 以千分尺准确度定位 x-y 缺陷,深度位置准确度高达 20 µm

nProber IV

  • 定位晶体管和 BEOL 故障
  • 热纳米探测(-40°C 至 150°C)
  • 半自动操作

Hyperion II 系统

  • 原子力探测
  • 定位晶体管故障
  • 集成式 PicoCurrent (CAFM)


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