STEM 현미경 | Talos F200i TEM | Thermo Fisher Scientific

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Talos F200i 투과 전자 현미경

Thermo Scientific Talos F200i (S)TEM은 광범위한 재료 과학 시료 및 응용 분야에서 성능과 생산성을 구현하도록 특별히 설계된 20~200kV 전계 방출(주사) 투과 전자 현미경입니다. 재현 기능이 있는 전자 컬럼과 결합된 표준 X-Twin pole-piece gap(응용 분야에서 최고의 유연성을 제공)으로, 고분해능 2D 및 3D 특성 분석, 현장(in situ) 동적 관찰 및 회절 응용 분야를 위한 기회를 제공합니다.

Talos F200i 투과 전자 현미경의 장점

다중 사용자 및 다중 분야 환경을 위해 설계된 Talos F200i (S)TEM은 초보 사용자에게도 적합합니다. 모든 Thermo Scientific TEM 플랫폼에서 공유되기 때문에 단기간에 친숙해질 수 있는 Thermo Scientific Velox 사용자 인터페이스가 장착되어 있습니다. 모든 일상적인 TEM 튜닝이 자동화되어 가장 재현성이 높은 최상의 설정을 제공합니다. Align Genie 자동화 소프트웨어는 초보 작업자의 학습 시간을 단축시키고 다중 사용자 환경에서의 긴장을 줄여주며, 숙련된 작업자에게는 데이터 확보 시간을 개선해 줍니다. 측면 입구 인입식 에너지 분산 X-선 분광학(EDS) 검출기를 구성에 추가하여 화학적 분석을 수행할 수 있습니다.

소형 설계

Talos F200i는 보다 작은 공간을 점유하는 크기이므로 좁은 공간에서도 이 장비를 사용할 수 있습니다. 또한 컴팩트한 설계로 서비스 요구 사항에 대한 액세스를 용이하게 해 주는 동시에 인프라 및 지원 비용을 줄여줍니다.

모든 사용자를 위한 생산성

특히 다중 사용자, 다중 소재 환경에서 생산성을 더욱 높이기 위해 정전력 대물렌즈, 저이력 설계 및 SmartCam 카메라를 사용한 원격 조작은 간편한 재생 모드와 고전압 변환을 가능하게 해줍니다. Talos F200i (S)TEM은 온라인 교육 지원을 제공합니다. 마우스를 제어판 위로 가져간 후 F1을 누르면 관련 정보가 신속히 열립니다.

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금-니켈 나노 입자의 대면적을 신속하게 획득

1분 이내에 획득한, 금-니켈 나노 입자를 Dual-X를 사용한 대면적, 고분해능 EDS 맵핑 사례. 샘플 제공: J. Bursik, Institute of Physics of Materials, Brno.

은 니켈 코어셸 나노 입자에 대한 세부 정보 제공

니트로 화합물(예: 4-니트로페놀, 4-니트로아닐린) 환원 및 유기 염료 분해를 위한 촉매제로써 효과적으로 사용되는 AgNi 나노 입자의 고분해능 EDS 맵핑 사례. 개별 EDS 맵은 시스템 Ag0.6Ni0.4이 니트로 화합물과 유기 염료의 환원 및 분해 반응에서 가장 높은 촉매 활성을 보인다는 것을 밝힙니다. AgNi 나노 입자는 수소 생성을 위한 촉매제로도 연구됩니다. 이 활용 사례에서는 AgNi 나노 입자의 수소 발생률이 유사한 크기의 Ag 및 Ni 나노 입자에 비해 훨씬 높은 것으로 나타났습니다. 또한 단일 맵은 셸 중 하나가 실제로 니켈이 아닌 황(Sulphur)이라는 것을 보여줍니다. 샘플 제공: J. Bursik, Institute of Physics of Materials, Brno.

Co-g-C3N4/Pt에 대한 빔 민감성 분석

광촉매 수소 방출을 위해 사용되는 빔에 민감한 물질의 고분해능 EDS 맵핑 사례. 작은 나노 입자(Pt)는 광촉매 반응을 위한 활성 부위의 역할을 합니다. 이러한 나노 입자는 Pt 나노 입자와 함께 로드되는 Co-g-C3N4의 구조를 관찰하고, Co 원자 위치와 Pt 나노 입자 사이의 관계를 찾아 이 시료의 광촉매 활성이 개선되는 이유를 분석하는 연구에 사용됩니다. 이 실험에서는 Co가 원자적으로 분산되거나 g-C3N4 표면에서 직경 1nm(단일 원자 분산) 미만에 위치하여야 하며, Pt 나노 입자는 Co-g-C3N4의 표면 위에 침전되어야 한다고 가정했습니다. 이는 원소 맵핑 데이터 결과에 의해 확인되었습니다. 샘플 제공: 중국, Xi’an Jiaotong University, ShengChun Yang 교수.

재료 과학 분야용 Talos F200i

Thermo Scientific Talos F200i S/TEM은 광범위한 재료 과학 시료 및 응용 분야에서 성능과 생산성을 구현하도록 특별히 설계된 20~200kV 전계 방출(주사) 투과 전자 현미경입니다. 재현 기능이 있는 전자 컬럼과 결합된 표준 X-Twin pole-piece gap(응용 분야에서 최고의 유연성을 제공)으로, 고분해능 2D 및 3D 특성 분석, 현장(in situ) 동적 관찰 및 회절 응용 분야를 위한 기회를 제공합니다.

제품 정보

Dual-X 애플리케이션 예시

금-니켈 나노 입자의 대면적을 신속하게 획득

1분 이내에 획득한, 금-니켈 나노 입자를 Dual-X를 사용한 대면적, 고분해능 EDS 맵핑 사례. 샘플 제공: J. Bursik, Institute of Physics of Materials, Brno.

은 니켈 코어셸 나노 입자에 대한 세부 정보 제공

Co-g-C3N4/Pt에 대한 빔 민감성 분석

주요 제품

재료 과학 분야용 Talos F200i

제품 정보

주요 특징

다양한 고분해능 FEG(전계 방출 건)과 함께 사용 가능

S-FEG, 고휘도 X-FEG 또는 초고휘도 X-CFEG(콜드 전계 방출 건)을 선택하십시오. X-CFEG는 최고의 (S)TEM 이미징과 최고의 에너지 분해능을 결합합니다.

Dual EDS 기술과 함께 사용 가능

단일 30mm² 검출기에서 이중 100mm² 검출기에 이르는 다양한 요구 사항에 맞는 최적의 EDS 검출기를 선택하여 고처리량(또는 저선량) 분석을 수행할 수 있습니다.

고품질 STEM/TEM 이미지 및 정확한 EDS

혁신적이고 직관적인 Velox 소프트웨어 사용자 인터페이스를 통해 고품질 TEM 또는 STEM 이미지를 매우 용이하게 확보할 수 있습니다. Velox 소프트웨어의 고유한 EDS 흡수 보정 기능을 통해 가장 정확한 정량을 수행할 수 있습니다.

최상의 전방위적인 현장(in situ) 기능

단층 촬영 또는 현장(in situ) 시료 홀더를 추가할 수 있습니다. 고속 카메라, 스마트 소프트웨어 및 넓은 X-TWIN 대물 렌즈 간격을 통해 3D 이미지 생성이 가능하며, 분해능과 분석 기능의 성능 저하를 최소화하면서 현장 데이터를 수집할 수 있습니다.

생산성 증대

SmartCam 카메라와 스위프트 모드(swift mode) 및 고전압(HT) 전환을 위한 정전력 대물 렌즈로 매우 안정적인 컬럼 및 원격 작동을 구현합니다. 다중 사용자 환경을 위한 빠르고 쉬운 전환.

가장 재현성이 높은 데이터

초점, 유센트릭(eucentric) 높이, 빔 이동, 콘덴서 조리개, 빔 경사 피벗 지점(pivot point) 및 회전 중심과 같은 모든 일상적인 TEM 튜닝이 자동화되어 항상 최적의 이미징 조건에서 시작할 수 있습니다. 실험은 재현 가능하게 반복될 수 있으므로 도구가 아닌 연구에 더욱 집중할 수 있습니다.

고속으로 대형 관측시야 이미징

4k × 4k Ceta CMOS 카메라의 넓은 시야를 통해 전체 고전압 범위에서 높은 감도와 빠른 속도로 라이브 디지털 줌을 수행할 수 있습니다.

소형 설계

설치 공간과 크기가 작아 인프라 및 지원 비용을 줄이는 동시에 좁은 공간에서도 이 도구를 설치할 수 있습니다.

사양

재품 표 사항에 대한 스타일시트

TEM	라인 분해능: ≤0.10 nm
운영 체제 XX 장치	컨트롤러: Windows® 10 원격 제어 가능: 예
진공 시스템	에어락 펌핑: 오일 및 진동 없음 콜드 트랩: 표준 긴 지속 시간 Dewar: 옵션 - 최소 4일 대기 시간(재주입 간격)
STEM 이미징	STEM 분해능:   ≤0.16 nm (S-FEG/X-FEG) ≤0.14 nm 및 100pA (X-CFEG) 검출기: HAADF 및/또는 축상 Panther BF/DF
에너지 분산 X선 분광학(EDS)	검출기 크기(Bruker X-flash): 30, 100 또는 이중 100 mm² 인입식: 있음, 전동
전자 에너지 손실 분광법(EELS)	≤0.8 eV (S-FEG/X-FEG) ≤0.3 eV (X-CFEG)
건(gun) 휘도 200 kV	4×10⁸ A /cm² srad (S-FEG) 1.8×10⁹ A /cm² srad (X-FEG) 2.4×10⁹ A /cm² srad (X-CFEG)