ナノスケールの試作

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技術の小型化が進むにつれ、ナノスケールのデバイスや構造に対する需要はますます高まっています。最新のアイデアや設計を貴重な資産に変えていくという課題は、増大し続ける一方であり、ナノスケールデバイスの試作を成功させるためには、重要な技術的および財務的な壁を克服していく必要があります。

標準的なナノ製作バッチプロセスでは、パターン層ごとに異なる機械を組み合わせて使用します。これらの装置には、レジストアプリケーション用のスピンコーター、リソグラフィーツール、レジスト開発用の湿式化学、プラズマクリーナー、パターン転写用の蒸着装置またはエッチング装置などがあります。これほど多くの別個のツールを使用するため、コストと時間のかかる試作プロセスになってしまいます。研究者はナノテクノロジーをより小さな次元に押し込めようとしますので、これらの確立された手順や製法は、もはや急速な発展の要求に対応きれなくなることがよく起こります。

信頼性の高いナノ試作技術においては、パターン設計の実行に特化した戦略が特徴となります。このことには、パターン形成プロセスをライブで観察し、結果として生じた構造を高分解能で即座にイメージングする機能が含まれており、パターン形成プロセス全体にわたる独自の制御が実現できます。また、観察者にフィードバックループが即時に提供されるので、開発プロセスが加速されます。以上のことから、DualBeam（集束イオンビームー走査電子顕微鏡、またはFIB-SEM）技術は、ナノ試作のアプリケーションに最適と言えます。本SEMは、FIBがミリングまたは化学蒸着を介してナノメートルスケールで正確に材料を追加または除去するのと同時に、高分解能イメージングが実現するものです。

サーモフィッシャーサイエンティフィックは、ナノスケールの設計を現実のものにする、スマートで効率的な方法を提供しています。当社のDualBeam装置は独自の精密ステージを備えており、最先端のソフトウェアおよびパターン形成機能が組み合わされています。これらを一緒に組み合わせることで、マイクロスケールおよびナノスケールの機能的試作デバイスを迅速に設計、作製、および検査できる安定した試作ワークフローが実現します。