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走査型電子顕微鏡(SEM)は、3D構造の高品質な表面および断面イメージングを提供します。消費者や産業界の要求に応えて半導体のフィーチャーサイズが縮小し続ける中、ナノスケールの計測はプロセスやデバイス設計の歩留まりに貢献する重要性を増しています。重要な寸法のナノスケールを正確かつ繰り返し測定するには、高解像度のSEM画像と極めて正確な倍率の較正が必要です。
サーモフィッシャーサイエンティフィックが提供する超高解像度自動SEM機能は、業界をリードするソフトウェアソリューションと組み合わせることで、メモリとロジックの主要顧客の課題を満たすために必要な自動化、精度、堅牢性を備えたイメージングと計測を行うことができます。NISTトレーサブルキャリブレーション標準、成熟したイメージングオートメーション(断面およびトップダウン両方)、および次世代機械学習対応計測を活用し、サーモサイエンティフィック自動SEMは、プロセスおよびデバイスを直接監視し、市場投入までの時間を短縮するコスト効率の高い3次元計測を提供します。
サーモフィッシャーサイエンティフィックは、Thermo Scientific Verios 5 SEMとThermo Scientific AutoSEMソフトウェアによるトップダウンSEM計測など、CD計測のためのSEM計測ツールを提供しています。詳細について知りたい場合、またはデモをご希望の場合は、以下の該当する製品ページをご覧ください。
高性能半導体デバイス製造を可能にするソリューションや設計へ導く高度な電子顕微鏡、集束イオンビーム、および関連する分析手法。
継続的な性能要求により、小型で高速、かつ安価な電子デバイス開発が促進されています。これらの製造には、多岐に渡る半導体およびディスプレイデバイスのイメージング、分析、解析を行う、生産性の高い装置とワークフローが重要な役割を果たします。
当社は、幅広い半導体アプリケーションやデバイスの生産性向上と歩留り改善に寄与する、欠陥分析、計測、およびプロセス制御のための高度な分析機能を提供しています。
半導体デバイスは益々構造が複雑化しているため、欠陥の原因と成り得る箇所が増えています。私たちの次世代ワークフローは、歩留り、性能、信頼性に影響を与える僅かな電気的不良の特定と解析に役立ちます。
電力用装置には、障害位置特定にかかわる特有の課題があります。これは主に、動力用装置のアーキテクチャとレイアウトを原因としています。当社のパワー半導体デバイス解析ツールとワークフローを使用すると、動作条件下の不良個所をすばやく特定し、材料、インターフェース、装置構造の高精度かつハイスループットの特性分析を行えます。
進化を続けるディスプレイテクノロジーではディスプレイの品質と光変換効率の向上を目的としており、さまざまな産業分野のアプリケーションをサポートしながら生産コストを削減します。当社が提供するプロセスの計測、不良解析、研究および開発ソリューションは、ディスプレイ企業がこうした課題を解決するのに役立ちます。
半導体デバイスが微細化し複雑になるにつれて、新しい設計と構造が必要になります。生産性の高い3D解析ワークフローはデバイス開発時間の短縮や、歩留まりの最大化を実現し、デバイスが業界の将来のニーズを確実に満たすようにします。