高性能で、より複雑な材料の増加にともない、表面エンジニアリングが重要になっています。表面は他の材料と接する外部環境と相互作用をおよぼす場所であり、それゆえ表面や界面でおきる物理的、化学的相互作用を理解することで、最新の材料に関する多くの問題を解決することができます。表面は腐食速度、触媒活性、粘着特性、濡れ性、接触ポテンシャル、不良メカニズムなどに影響をおよぼします。 

表面改質は表面特性の改変や改善に利用されるため、表面分析は表面化学状態の理解や表面処理の有効性を理解するために使用されます。調理器具表目のノンスティック加工から、薄膜電極、生理活性物質表面まで幅広い分野においてX線光電子分光法（XPS）は表面特性を解析する標準的な分析手法の1つです。 

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最適なXPS装置を選択するのは簡単ではありません。XPSプロダクトセレクターの質問項目に入力するだけで、3分であなたにとって最適なXPS装置を発見できます。

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K-Alpha XPS

  • 高分解能XPS
  • 高速で効率的な自動ワークフロー
  • イオン源を用いたデプスプロファイリング

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Nexsa G2 XPS

  • マイクロフォーカスX線源
  • 独自の追加可能なオプション
  • 単原子およびクラスターイオンデプスプロファイリング用のデュアルモードイオン源

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ESCALAB Xi+ XPS

  • 高いスペクトル分解能
  • マルチテクニックによる表面分析
  • 試料作製および拡張のための豊富なオプション

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