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新しい半導体デバイスの製造には、製造ワークフローの改善と最適化のために、高精度な画像処理と故障解析が必要です。このため、最先端の(走査型)透過電子顕微鏡(TEMおよびSTEM、または(S)TEM)装置は、すべての最先端ウェーハ製造プロセスにおいて不可欠な要素となっています。
ただし、TEMイメージングおよび解析は試料の品質に大きく依存します。そのため、生産設備や故障解析ラボでは、サンプルの前処理が重要な作業となっています。従来の超薄膜(S)TEM試料作製法は、熟練したユーザーによる手作業で何時間も、あるいは何日もかかるという困難さと時間を要するという問題点がありました。現在、デバイスの製造に使用される材料は多岐にわたり、さらに特定エリアの情報が必要なため、このプロセスはさらに複雑になっています。
サーモフィッシャーサイエンティフィックは、高度な半導体設計における(S)TEMイメージング用の迅速かつ正確で堅牢な試料調製ツールを提供しています。当社の試料調製装置一式を用いることで、原子レベルのデータをより早く、より簡単に、そして試料あたりのコストを最小限に抑えることができます。さらに、Thermo Scientific AutoTEM 5ソフトウェアは、DualBeamシステムを使用した完全自動In-situ試料調製をサポートします。これによりユーザーは(いかなる経験レベルでも)、迅速で信頼性が高く再現性のある結果を得ることができます。詳細については、以下の該当する製品ページをご覧ください。
高性能半導体デバイス製造を可能にするソリューションや設計へ導く高度な電子顕微鏡、集束イオンビーム、および関連する分析手法。
当社は、幅広い半導体アプリケーションやデバイスの生産性向上と歩留り改善に寄与する、欠陥分析、計測、およびプロセス制御のための高度な分析機能を提供しています。
半導体デバイスは益々構造が複雑化しているため、欠陥の原因と成り得る箇所が増えています。私たちの次世代ワークフローは、歩留り、性能、信頼性に影響を与える僅かな電気的不良の特定と解析に役立ちます。
継続的な性能要求により、小型で高速、かつ安価な電子デバイス開発が促進されています。これらの製造には、多岐に渡る半導体およびディスプレイデバイスのイメージング、分析、解析を行う、生産性の高い装置とワークフローが重要な役割を果たします。
電力用装置には、障害位置特定にかかわる特有の課題があります。これは主に、動力用装置のアーキテクチャとレイアウトを原因としています。当社のパワー半導体デバイス解析ツールとワークフローを使用すると、動作条件下の不良個所をすばやく特定し、材料、インターフェース、装置構造の高精度かつハイスループットの特性分析を行えます。
進化を続けるディスプレイテクノロジーではディスプレイの品質と光変換効率の向上を目的としており、さまざまな産業分野のアプリケーションをサポートしながら生産コストを削減します。当社が提供するプロセスの計測、不良解析、研究および開発ソリューションは、ディスプレイ企業がこうした課題を解決するのに役立ちます。
半導体デバイスが微細化し複雑になるにつれて、新しい設計と構造が必要になります。生産性の高い3D解析ワークフローはデバイス開発時間の短縮や、歩留まりの最大化を実現し、デバイスが業界の将来のニーズを確実に満たすようにします。