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第6世代の卓上SEM Thermo Scientific Phenom ProX G6は、光学顕微鏡とフロアーモデルSEM分析の間のギャップを埋め、研究設備の機能を拡張します。スピーディーで高分解能なイメージングに加え、一体型のエネルギー分散型X線分析(EDS)装置も備えており、堅牢性、操作性、迅速性に優れた元素分析を実現します。

主な特長

スピーディーで簡単操作

卓上SEM Phenom ProXを利用すると、フロアーモデルのSEMから日常的に行われる分析の負担を軽減できます。装置の構成や試料挿入メカニズムにより、実験毎の調整にかかる時間を最小限に抑えることができ、スピーディーに高画質な画像を得ることが可能です。

長寿命のCeB6電子銃

卓上SEM Phenom ProX G6を使えば、誰もが簡単にスピーディーに高画質な画像を得ることができます。コストを抑えながら、高い輝度を実現する長寿命のCeB6電子銃を備えています。

堅牢で小型の形状

この装置は高い安定性と小型の形状により、ほぼすべてのラボ環境で使用できます。さらに端的に言えば、特殊なインフラは必要なく誰でも簡単に使用できます。


仕様

Style Sheet for Products Table Specifications
光学ナビゲーション倍率
  • 27~160倍
電子顕微鏡倍率
  • 160~350,000倍
分解能
  • 6 nm以下(二次電子)、8 nm以下(反射電子)
デジタルズーム
  • 最大12倍
光学NavCam
  • カラー
加速電圧
  • デフォルト:5 kV、10 kV、15 kV
  • アドバンスモード:4.8 kV~20.5 kVの範囲で調整可能
真空モード
  • 高真空モード
  • オプションのチャージ軽減ホルダによる帯電軽減モード(低真空モード)
検出器
  • 反射電子検出器(標準)
  • エネルギー分散型X線検出器(標準)
  • 二次電子検出器(オプション)
試料サイズ
  • 最大直径25 mm(オプションで32 mm)
試料高さ
  • 最大35 mm(オプションで100 mm)

デスクトップSEMブログ

使いやすさを犠牲にすることなく、走査電子顕微鏡の優れた能力を活用できます。走査電子顕微鏡の詳細情報と、デスクトップSEMが最適な方法で研究を補助できる理由を、PhenomデスクトップSEMブログでご確認ください。

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リソース

製品開発エンジニアのLuigi Raspoliniが、Thermo Scientific Phenom ProX G6の新機能のすべてを説明します。デスクトップSEMに堅牢性と操作性に優れたEDS機能が組み込まれており、広範な用途での元素分析とSEM分析に適しています。

ケンブリッジ大学、Colin Humphreys教授による推薦。

Webセミナー:卓上SEM Phenom ProX G6

このWebセミナーでは、以下の内容について説明します。

  • 使いやすさ—優れた操作性と汎用性
  • より多くの研究を実施—画像取得と分析が 2 分未満で完了
  • 画像取得までの時間を迅速化—わずか30秒
  • ユーザーインターフェース— 24インチの全画面SEM画像、プリセット済み

Webセミナー:走査電子顕微鏡:お客様のニーズに合った適切な技術を選択します

このオンデマンドのWebセミナーは、お客様独自のニーズに最適なSEMを決定するのに役立つよう設計されています。当社は、マルチユーザー研究ラボ向けの サーモフィッシャーサイエンティフィックSEM技術の概要を説明し、これらの幅広いソリューションがどのように性能、汎用性、in situダイナミクスを提供し、結果を得るまでの時間を短縮するかに焦点を当てています。ご興味のある方は、以下のWebセミナーをご覧ください。

  • さまざまな微量分析モダリティ(EDS、EBSD、WDS、CLなど)のニーズを満たす方法。
  • 前処理を必要とせずに、試料を自然な状態で解析する方法。
  • 新しい高度な自動化により、研究者が時間を節約し、生産性を向上させる方法。

製品開発エンジニアのLuigi Raspoliniが、Thermo Scientific Phenom ProX G6の新機能のすべてを説明します。デスクトップSEMに堅牢性と操作性に優れたEDS機能が組み込まれており、広範な用途での元素分析とSEM分析に適しています。

ケンブリッジ大学、Colin Humphreys教授による推薦。

Webセミナー:卓上SEM Phenom ProX G6

このWebセミナーでは、以下の内容について説明します。

  • 使いやすさ—優れた操作性と汎用性
  • より多くの研究を実施—画像取得と分析が 2 分未満で完了
  • 画像取得までの時間を迅速化—わずか30秒
  • ユーザーインターフェース— 24インチの全画面SEM画像、プリセット済み

Webセミナー:走査電子顕微鏡:お客様のニーズに合った適切な技術を選択します

このオンデマンドのWebセミナーは、お客様独自のニーズに最適なSEMを決定するのに役立つよう設計されています。当社は、マルチユーザー研究ラボ向けの サーモフィッシャーサイエンティフィックSEM技術の概要を説明し、これらの幅広いソリューションがどのように性能、汎用性、in situダイナミクスを提供し、結果を得るまでの時間を短縮するかに焦点を当てています。ご興味のある方は、以下のWebセミナーをご覧ください。

  • さまざまな微量分析モダリティ(EDS、EBSD、WDS、CLなど)のニーズを満たす方法。
  • 前処理を必要とせずに、試料を自然な状態で解析する方法。
  • 新しい高度な自動化により、研究者が時間を節約し、生産性を向上させる方法。

応用例

電子顕微鏡を使用したプロセス制御

電子顕微鏡を使用したプロセス制御

近年の産業では、確かなプロセス制御によって維持される優れた品質とスループットの両立が求められています。専用の自動化ソフトウェアを搭載したSEMおよびTEMツールは、プロセスモニタリングおよびプロセス改善のための迅速なマルチスケール情報を提供します。

 

電子顕微鏡を使用した品質管理と不良解析

品質管理と不良解析

近年の産業では、品質管理と品質保証が不可欠です。私たちは、欠陥をマルチスケールかつ多モードで分析可能なEMおよび分光ツールを提供しており、これらにより得られる信頼性の高い十分な情報によりプロセス制御および改善のための決定が可能となります。

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基礎材料研究

新材料開発では、その物理的および化学的特性を最大化するために、より小さなスケールでの研究がなされています。電子顕微鏡は、マイクロスケールからナノスケールのさまざまな材料特性について重要な情報を研究者に提供します。

 

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半導体のパスファインディングと開発

高性能半導体デバイス製造を可能にするソリューションや設計へ導く高度な電子顕微鏡、集束イオンビーム、および関連する分析手法。

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歩留り改善と計測

当社は、幅広い半導体アプリケーションやデバイスの生産性向上と歩留り改善に寄与する、欠陥分析、計測、およびプロセス制御のための高度な分析機能を提供しています。

半導体故障解析

半導体故障解析

半導体デバイスは益々構造が複雑化しているため、欠陥の原因と成り得る箇所が増えています。私たちの次世代ワークフローは、歩留り、性能、信頼性に影響を与える僅かな電気的不良の特定と解析に役立ちます。

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物理解析および化学分析

継続的な性能要求により、小型で高速、かつ安価な電子デバイス開発が促進されています。これらの製造には、多岐に渡る半導体およびディスプレイデバイスのイメージング、分析、解析を行う、生産性の高い装置とワークフローが重要な役割を果たします。


手法

EDS元素分析

EDSは、電子顕微鏡観察に不可欠な組成情報を提供します。特に、当社独自のSuper-XおよびDual-X検出器システムはSTEM-EDS分析の速度や感度を向上させるため、材料の研究に必要な元素分布情報が入手しやすくなります。

詳細はこちら ›

3D EDSトモグラフィー

現代の材料研究は、3次元のナノスケール分析にますます依存しています。3Dの電子顕微鏡解析およびエネルギー分散型X線分光法を使用することにより、全元素の組成情報を含む微細構造の3D解析が可能になります。

詳細はこちら ›

EDSによる原子分解能元素マッピング

原子分解能EDSでは、個々の原子のレベルで元素を識別できるため、優れた高分解能の組成情報が得られます。高分解能S/TEMイメージングとの組み合わせにより、試料中の原子構成を正確に観察できます。

詳細はこちら ›

高温試料のイメージング

実際の条件下で材料を研究するには、高温の試料を観察する必要もよくあります。高温下で材料が再結晶化、溶解、変形、反応する際の挙動は、走査電子顕微鏡またはDualBeamシステムを用いてin situで研究できます。

詳細はこちら ›

In situ試験

加熱、冷却、液中での再結晶化、グレイン成長、相変態などの動的プロセスの基本原理を理解するには、電子顕微鏡を用いて、微細構造変化を直接かつリアルタイムで観察する必要があります。

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マルチスケール分析

新しい材料の場合、その構造全体を把握しながら、高い分解能で分析する必要があります。マルチスケール分析では、X線マイクロCT、DualBeam、レーザーPFIB、SEM、TEMなどのさまざまなイメージング技術や方法の相関が可能です。

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SEM測長

走査電子顕微鏡により、ナノメートルスケールでの正確かつ信頼性の高いメトロロジーデータが得られます。自動化された超高分解能SEM測定により、メモリー、ロジック、およびデータストレージアプリケーションの歩留まりの向上と市場投入までの時間短縮を実現できます。

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半導体のイメージング・分析

サーモフィッシャーサイエンティフィックは、一般的なイメージング業務から、正確な電圧コントラスト測定を必要とする高度な故障解析技術まで、半導体ラボのあらゆる機能に対応する走査電子顕微鏡を提供します。

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EDS元素分析

EDSは、電子顕微鏡観察に不可欠な組成情報を提供します。特に、当社独自のSuper-XおよびDual-X検出器システムはSTEM-EDS分析の速度や感度を向上させるため、材料の研究に必要な元素分布情報が入手しやすくなります。

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3D EDSトモグラフィー

現代の材料研究は、3次元のナノスケール分析にますます依存しています。3Dの電子顕微鏡解析およびエネルギー分散型X線分光法を使用することにより、全元素の組成情報を含む微細構造の3D解析が可能になります。

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EDSによる原子分解能元素マッピング

原子分解能EDSでは、個々の原子のレベルで元素を識別できるため、優れた高分解能の組成情報が得られます。高分解能S/TEMイメージングとの組み合わせにより、試料中の原子構成を正確に観察できます。

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高温試料のイメージング

実際の条件下で材料を研究するには、高温の試料を観察する必要もよくあります。高温下で材料が再結晶化、溶解、変形、反応する際の挙動は、走査電子顕微鏡またはDualBeamシステムを用いてin situで研究できます。

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In situ試験

加熱、冷却、液中での再結晶化、グレイン成長、相変態などの動的プロセスの基本原理を理解するには、電子顕微鏡を用いて、微細構造変化を直接かつリアルタイムで観察する必要があります。

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マルチスケール分析

新しい材料の場合、その構造全体を把握しながら、高い分解能で分析する必要があります。マルチスケール分析では、X線マイクロCT、DualBeam、レーザーPFIB、SEM、TEMなどのさまざまなイメージング技術や方法の相関が可能です。

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SEM測長

走査電子顕微鏡により、ナノメートルスケールでの正確かつ信頼性の高いメトロロジーデータが得られます。自動化された超高分解能SEM測定により、メモリー、ロジック、およびデータストレージアプリケーションの歩留まりの向上と市場投入までの時間短縮を実現できます。

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半導体のイメージング・分析

サーモフィッシャーサイエンティフィックは、一般的なイメージング業務から、正確な電圧コントラスト測定を必要とする高度な故障解析技術まで、半導体ラボのあらゆる機能に対応する走査電子顕微鏡を提供します。

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