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电子显微镜

3D 可视化、分析和 EM 系统软件

用于电子显微镜数据采集、分析和重建的软件。

技术

SEM扫描电镜

台式扫描电镜

TEM透射电镜

冷冻电镜 (Cryo-EM)

FIB-SEM DualBeam

EFA 系统

电路编辑

XPS仪器

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生命科学

 

材料科学

 

半导体

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冷冻透射电镜
Krios Rx Cryo-TEM

  • 业界领先的生产效率和易用性
  • SPA 专用固定 300 kV 电压
  • 用于确保可靠性的药物专用服务包

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100 kV冷冻透射电镜
Tundra Cryo-TEM

  • 生物学相关分辨率下的结构信息
  • 空间利用率高且经济划算
  • 轻松的迭代样品优化
  • 用于精简数据收集的独特 AI 算法

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300 kV冷冻透射电镜

300 kV冷冻透射电镜
Krios G4 Cryo-TEM

  • 改进的人体工程学
  • 可更轻松放进新建或现有的实验室
  • 极大提高生产率和自动化水平
  • 用于高分辨率 3D 重构的最佳成像质量

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透射电镜Spectra Ultra TEM

透射电镜
Spectra Ultra TEM

  • 适用于大多数电子束敏感材料的新成像和光谱分析功能
  • 利用 Ultra-X 进行 EDX 检测的飞跃
  • 色谱柱旨在保持样品完整性

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300 kV透射电镜

300 kV透射电镜
Spectra 300 TEM

  • 获得原子水平的最高分辨率结构和化学信息
  • 30-300 kV 的灵活高张力范围
  • 三个透镜冷凝器系统

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200 kV透射电镜

200 kV透射电镜
Spectra 200 TEM

  • 用于 30-200 kV 加速电压的高分辨率和对比度成像
  • 宽间隙极片设计为 5.4 mm 的对称 S-TWIN/X-TWIN 物镜
  • 60 kV-200 kV 范围的亚埃 STEM 成像分辨率

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200 kV冷冻透射电镜

200 kV冷冻透射电镜
Glacios 冷冻 TEM

  • 可变的加速电压 80-200 kV
  • 用于冷冻样品操作的行业领先的自动加载器
  • 占地面积小
  • 增强易用性：

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半导体计量透射电镜

半导体计量透射电镜
Metrios AX TEM

  • 支持质量、一致性、计量以及减少 OPEX 的自动化选项
  • 充分利用机器学习实现出色的自动功能和特征识别
  • 适用于原位和非原位两种薄片制备的工作流程

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120 kV透射电镜

120 kV透射电镜
Talos L120C TEM

  • 更高稳定性
  • 4k × 4K Ceta CMOS 相机
  • 25 – 650 k 倍 TEM 放大范围
  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息

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200 kV场发射透射电镜

200 kV场发射透射电镜
Talos F200i TEM

  • 高质量、高分辨率的 (S)TEM 成像和灵活的 EDS
  • 可使用高分辨率、高亮度（冷）场发射枪
  • 可提供双 EDS，以获得较高的分析通量

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最干净的能谱透射电镜

最干净的能谱透射电镜
Talos F200S TEM

  • 精确的化学成分数据
  • 为动态显微镜检查提供高性能的成像和精准的成分分析
  • 配有 Velox 软件、可实现快速、轻松的获取和分析多模态数据

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最深入的材料分析透射电镜

最深入的材料分析透射电镜
Talos F200X TEM

  • 高质量、高分辨率的 (S)TEM 成像和精确的 EDS
  • 可提供高分辨率、高亮度（冷）场发射枪
  • 可提供具有极佳清洁度的柱内 Super-X G2 EDS

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高称度冷冻透射电镜

高称度冷冻透射电镜
Talos F200C TEM

  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息
  • 高对比度、高质量 TEM 和 STEM 成像
  • Ceta 16 Mixel CMOS 相机提供了宽视野和高读取速度

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可以在完整晶片上制备直径高达 300 mm 的位点特异性 20 nm 厚薄片

ExSolve WTP DualBeam

  • 可以在完整晶片上制备直径高达 300 mm 的位点特异性 20 nm 厚薄片
  • 满足需要在先进技术节点上进行自动化高通量采样的需求

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Helios 5 EXL

Helios 5 EXL DualBeam

  • 可实现高样品制备质量的低电压性能
  • 超高分辨率油浸透镜场致发射 SEM 色谱柱
  • 使用 EFEM 自动处理 300 mm FOUP（符合 GEM300 标准）

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Helios 5 DualBeam

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

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Helios 5 PFIB DualBeam

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

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Helios 5 激光 PFIB 系统

Helios 5 激光 PFIB 系统

  • 快速、毫米级交叉截面
  • 统计学相关的深度亚表面和 3D 数据分析
  • 共享 Helios 5 PFIB 平台的所有功能

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Helios Hydra DualBeam

Helios Hydra DualBeam

  • 4 个快速切换离子种类（Xe、Ar、O、N），用于对种类最丰富的材料进行优化 PFIB 处理
  • Ga-free TEM 样品制备
  • 极高分辨率 SEM 成像

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Aquilos 2 Cryo-FIB

Aquilos 2 Cryo-FIB

  • 可自动生成多个薄片
  • 利用提取纳米操纵器锁定并提取感兴趣的结构
  • 用于高分辨率断层扫描的 3D 可视化

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Scios 2 DualBeam

Scios 2 DualBeam

  • 完全支持磁性及不导电样品
  • 高通量亚表面和 3D 表征
  • 先进的易用性和自动化功能

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多功能实时能谱扫描电镜

多功能实时能谱扫描电镜
Axia ChemiSEM

  • 真正的实时定量元素分析
  • 低真空模式具有和高真空模式相同的分辨力，荷电样品轻松应对
  • 标配二次电子、电动伸缩背散射电子和能谱探头
  • 标配全彩导航相机和红外CCD相机

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多功能实时能谱扫描电镜

多功能实时能谱扫描电镜
Axia ChemiSEM

  • 真正的实时定量元素分析
  • 低真空模式具有和高真空模式相同的分辨力，荷电样品轻松应对
  • 标配二次电子、电动伸缩背散射电子和能谱探头
  • 标配全彩导航相机和红外CCD相机

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超高分辨场发射扫描电镜

超高分辨场发射扫描电镜
Verios 5 XHR SEM

  • 带有单色器的电子枪，无论高低电压均可轻松实现亚纳米级分辨率
  • 电子束着陆能量低至20 eV，对电子束敏感材料的表征非常友好
  • 标配压电陶瓷样品台，实现优良的精确度和稳定性

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环境场发射扫描电镜

环境场发射扫描电镜
Quattro ESEM

  • 具有独特环境能力的高分辨场发射扫描电镜
  • 可观察各种类型样品，并可在所有工作模式下都可实现SE和BSE同时成像
  • 可实现潮湿状态样品的扫描透射（STEM）观察

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环境扫描电镜

环境扫描电镜
PRISMA E SEM

  • 具有独特环境能力的钨灯丝扫描电镜
  • 简单且快速的样品装载能力并可对多个样品进行导航
  • 大样品仓，适用多种类型的样品

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多功能高分辨场发射扫描电镜

多功能高分辨场发射扫描电镜
Apreo 2 SEM

  • 具备优异性能的SEM，适用于纳米及亚纳米级别的空间分辨率应用
  • 纳秒级的T1闪烁体探测器，获取卓越的背散射电子衬度图像
  • 大工作距离（10mm)下具备出色的空间分辨率

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三维成像场发射扫描电镜

三维成像场发射扫描电镜
VolumeScope 2 SEM

  • 各向分辨率相同的大体积3D数据
  • 高真空与低真空模式下均能获取良好的衬度和高空间分辨率
  • 在常规SEM模式和连续切片成像之间轻松切换

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Phenom Pharos G2 Desktop FEG-SEM

Phenom Pharos G2 Desktop FEG-SEM

  • 1 至 20 kV 加速电压范围的 FEG 源
  • <2.0 nm (SE) 和 3.0 nm (BSE) 分辨率（20 kV 时）
  • 可选的完全集成 EDS 和 SE 检测器

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Phenom XL G2 Desktop SEM

Phenom XL G2 Desktop SEM

  • 适用于大样品 (100x100 mm) 并是自动化的理想选择
  • <10 nm 分辨率和高达 200,000 倍的放大率；4.8 kV 至 20 kV 加速电压
  • 可选的完全集成的 EDS 和 BSE 检测器

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Phenom ProX G6 Desktop SEM

Phenom ProX G6 Desktop SEM

  • 集成 EDS 检测器的高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE)；放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

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Phenom Pro G6 Desktop SEM

Phenom Pro G6 Desktop SEM

  • 高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE)；放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

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Phenom Pure G6 Desktop SEM

Phenom Pure G6 Desktop SEM

  • 入门级桌面 SEM
  • 分辨率 <15 nm；放大率高达 175,000 倍
  • 耐用的 CeB6 放射源

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Phenom 认知 GSR 台式扫描电镜

Phenom 认知 GSR 台式扫描电镜

  • 专用的自动化 GSR 桌面 SEM
  • 分辨率 <10 nm；放大率高达 200,000 倍
  • 耐用的 CeB6 放射源

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Phenom 微粒 X AM 台式扫描电镜

Phenom 微粒 X AM 台式扫描电镜

  • 多用途桌面 SEM 、同时使用自动化软件进行添加剂制造
  • 分辨率 <10 nm；放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

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Phenom 微粒 X TC 台式扫描电镜

Phenom 微粒 X TC 台式扫描电镜

  • 功能多样的桌面 SEM ，带有自动化软件，可用于技术清洁
  • 分辨率 <10 nm；放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

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Phenom ParticleX Steel Desktop SEM

Phenom ParticleX Steel Desktop SEM

  • 集成 SEM 和 EDS
  • 易于使用
  • 亚微米级夹杂物

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ELITE 系统

ELITE 系统

  • 完全无损
  • 快速识别装配板上有缺陷的组件以进行准确的处置
  • 以千分尺准确度定位 x-y 缺陷，深度位置准确度高达 20 µm

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Hyperion II 系统

Hyperion II 系统

  • 原子力探测
  • 定位晶体管故障
  • 集成式 PicoCurrent (CAFM)

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nProber IV 系统

nProber IV 系统

  • 定位晶体管和 BEOL 故障
  • 热纳米探测（-40°C 至 150°C）
  • 半自动操作

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Meridian S 系统

Meridian S 系统

  • 使用主动探针技术的故障诊断
  • 静态激光刺激 (SLS/OBIRCH) 和光子发射选项
  • 支持微探测和探针卡设备两种刺激

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Meridian WS-DP 系统

Meridian WS-DP 系统

  • 使用宽频 DBX 或 InGaAs 相机系统实现高灵敏度、低噪音的低电压光子发射检测
  • 用于扫描链分析、频率映射、晶体管探测和故障隔离的多波长激光扫描显微镜

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Meridian 7 系统

Meridian 7 系统

  • 适用于 10nm 及以下节点的动态光学故障隔离
  • 高分辨率可见光和红外光
  • 可大范围提供精确到 5μm 的高成品率样品制备

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Meridian IV 系统

Meridian IV 系统

  • 高灵敏度扩展波长 DBX 光子发射检测
  • 标准 InGaAs 光子发射检测
  • 具有多种波长选项的激光扫描显微镜

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Centrios 电路编辑系统

Centrios 电路编辑系统

  • 卓越的图像/减薄分辨率
  • 增强的减薄精度和控制
  • 基于 Thermo Scientific Helios DualBeam 平台构建

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Centrios HX 电路编辑系统

Centrios HX 电路编辑系统

  • 采用较新 FIB 技术的高级半导体节点先进电路编辑
  • 无以伦比的铣削精度和控制以及低着陆能量，以保护敏感电路
  • 出色的导航和离子束放置准确度

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MK.4TE ESD 和闩锁测试系统

MK.4TE ESD 和闩锁测试系统

  • 基于快速继电器的操作—多达 2304 个通道
  • 通过 6 个独立的矢量激励电平实现高级设备预处理
  • 完全符合标准的闩锁激发源和器件偏压

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Orion3 静电放电测试仪

Orion3 静电放电测试仪

  • 带电器件模型测试
  • 双高分辨率彩色相机
  • 低至小于 0.4mm 节距的测试密度

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Celestron 测试系统

Celestron 测试系统

  • 硅片和封装级 TLP 测试
  • 高电流 TLP 脉冲发生器
  • 可与半自动探针台连接
  • 直观的控制和报告生成软件

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Pegasus ESD 测试系统

Pegasus ESD 测试系统

  • 按照最新行业标准进行测试
  • 真正的系统级 ESD 150pF/330Ω 网络
  • 通过晶圆探针与任何装置进行 2 引脚连接

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Nexsa

Nexsa

  • 微焦点 X 射线源
  • 独特的多技术选项
  • 用于单原子和簇离子深度剖析的双模式离子源

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K-阿尔法

K-阿尔法

  • 高分辨率 XPS
  • 快速、高效、自动化的工作流程
  • 用于深度剖析的离子源

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ESCALAB QXi XPS

ESCALAB QXi XPS

  • 高光谱分辨率
  • 多技术表面分析
  • 丰富的样品制备和扩展选项

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Vitrobot 系统

Vitrobot 系统

  • 全自动样品玻璃化
  • 滤纸夹吸装置
  • 半自动化载网转移
  • 高样品通量

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Amira 软件

Amira 软件

  • 支持多数据/视图/通道
  • 交互式高质量可视化
  • 基于机器学习的分割
  • 直观的方法创建

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Athena 软件

Athena 软件

  • 确保图像、数据、元数据和实验工作流程的可追溯性
  • 简化您的成像工作流程
  • 促进协作
  • 保护和管理数据访问

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Arctis Cryo-Plasma-FIB

Arctis Cryo-Plasma-FIB

  • Correlation to light microscopy and relocation in TEM
  • High-quality lamellae with consistent thickness
  • Automated high throughput and connectivity for cryo-tomography

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Auto Slice 和 View 4.0 软件

Auto Slice 和 View 4.0 软件

  • DualBeam 自动连续切片
  • 多模式数据采集（SEM、EDS、EBSD）
  • 实时编辑功能
  • 基于边缘的剪切放置

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AutoScript 4 软件

AutoScript 4 软件

  • 更高的重现性和回收率
  • 无人值守的高通量成像和模式
  • 支持 Python 3.5 脚本环境

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AutoTEM 5 软件

AutoTEM 5 软件

  • 全自动原位 S/TEM 样品制备
  • 支持上下、平面和翻转几何结构
  • 高度可配置的工作流程
  • 易于使用、直观的用户界面

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Avizo 软件

Avizo 软件

  • 支持多数据/多视图、多通道、时间序列、超大数据
  • 先进的多模式 2D/3D 自动配准
  • 伪影消除算法

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EPU 2 软件

EPU 2 软件

  • 用于单颗粒采集的显微镜内嵌式解决方案
  • 适用于高通量颗粒收集
  • 兼容胶片、CCD 相机和直接电子相机

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iFast 软件

iFast 软件

  • 可加快配方创建速度的宏记录器
  • 可实现无人值守夜间操作的运行器
  • 对齐工具：图像识别和边缘查找

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Inspect 3D 软件

Inspect 3D 软件

  • 用于交叉关联的图像处理工具和过滤器
  • 用于图像对齐的特征跟踪
  • 用于迭代投影比较的代数重建技术

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Maps 软件

Maps 软件

  • 大面积采集高分辨率图像
  • 轻松发现感兴趣区
  • 自动化图像采集过程

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NEXS 软件

NEXS 软件

  • NEXS 与电路编辑系统之间可自动同步位置/放大倍数以实现更无缝的用户体验
  • 连接到大多数用于 EFA、PFA 和电路编辑空间的 Thermo Scientific 工具

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Pergeos 软件

Pergeos 软件
岩石和矿物质

  • 可视化、处理和分析岩石图像数据
  • 从孔隙到岩心执行多尺度成像分析
  • 计算地质和岩石物理性质

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Tomography 5 软件

Tomography 5 软件

  • 自动化多位点批量断层扫描
  • 自动盒式映射
  • 可达到最佳电子剂量的剂量对称倾斜方案
  • 与 Selectris 成像过滤器完全集成

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Velox 软件

Velox 软件

  • 处理窗口左侧的实验面板。
  • 活细胞定量分析
  • 交互式检测器布局界面，用于可重现的实验控制和设置

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3D 重构

3D 重构

  • 直观的用户界面、可最大限度提高用户使用能力
  • 直观的全自动用户界面
  • 基于 " 阴影形状 " 技术、无需阶段倾斜

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AsbestoMetric

AsbestoMetric

  • 用于图像采集、纤维检测和报告的自动化工具
  • 纤维再访问有助于 EDX 分析
  • 石棉分析的 ISO 标准报告

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EDS 绘图

  • 快速可靠的样品或所选线中元素分布信息
  • 容易导出和报告结果

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纤维公制

纤维公制

  • 通过自动测量节省时间
  • 快速、自动收集所有统计数据
  • 以无与伦比的准确度查看和测量微纤维和纳米纤维

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NanoBuilder

NanoBuilder

  • 基于 CAD 的原型设计
  • 全自动作业执行、阶段导航、减薄和沉积
  • 自动对准和漂移控制

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分区公制

分区公制

  • ProSuite 中的集成软件可用于在线和离线分析
  • 将颗粒特征相关联、比如直径、圆度、长径比和会议度
  • 使用自动图像映射创建图像数据集

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Phenom 编程接口

Phenom 编程接口

  • 定制您的 SEM 以满足您的工作流程
  • 利用自动化流程提高效率、节省时间
  • 控制成像设置和阶段导航

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公制端口

公制端口

  • 根据孔隙特征相关联、如面积、长径比、主要和次要轴
  • 直接从桌面 SEM 采集图像
  • 使用高质量图像的统计数据

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自动采集图像

ProSuite

  • 自动采集图像
  • 实时远程控制
  • 标准应用包括：自动图像映射 + 远程用户界面

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石英 PCI/CFR

石英 PCI/CFR

  • 符合 21 CFR 第 11 部分要求的 SEM 成像可追溯性
  • 与 Phenom XL 和 Phenom Pro 台式 SEM 兼容
  • 支持 Windows 10 64 位操作系统

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μHeater

μHeater

  • 用于原位高分辨率成像的超快速加热解决方案
  • 全集成：
  • 温度最高可达 1200 °C

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μPolisher

μPolisher

  • 有可能实现大量新的、未经探索的应用
  • 非常低的能量减薄
  • 小光斑尺寸、适用于精确的局部表面处理

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Selectris 和 Selectris X 成像过滤器

Selectris 和 Selectris X 成像过滤器

  • 专用于高稳定性和原子分辨率成像
  • 操作简便
  • 与最新一代 Thermo Scientific Falcon 4 直接电子检测器配对使用

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Ceta D 相机

Ceta D 相机

  • 在任何高电压 (20–300 kV) 下均具有极佳性能
  • 兼容镜筒后过滤器和光谱仪
  • 用于动态研究的视频采集

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Falcon 4i 检测器

Falcon 4i 检测器

  • 高吞吐量，每小时可获得更多图像
  • 无与伦比的成像质量和高 DQE
  • 使用 EER 进行无损数据压缩

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电荷减少样品支架

电荷减少样品支架

  • 放大倍数高达 8 倍
  • 更快的样品制备
  • 非导电样品可以在自然状态下成像

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电式给料机样品架

电式给料机样品架

  • 将电极连接至样品、以便于原位测量
  • 可在 0–25 mm 范围手动调节样品高度
  • 探头电流测量

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Eucentric样品支架

Eucentric样品支架

  • 在桌面 SEM 上进行共焦倾斜和同轴旋转
  • 快速成像，上样 < 1 分钟即可完成
  • 实时 3D 样品可视化模块

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过滤器插件

过滤器插件

  • 过滤残留分析和石棉分析
  • 提供支持 47 mm（1.85 英寸）和 25 mm（1 英寸）过滤器的两种型号
  • 用于 Phenom 台式扫描电镜

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Metallurgical样品支架

Metallurgical样品支架

  • 旨在支持树脂安装样品
  • 用于冶金和与刀片配合使用时的首选解决方案
  • 样品尺寸最大至 32 mm 直径和 30 mm 高度

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微工具样品支架

微工具样品支架

  • 快速夹紧
  • 可倾斜和旋转、便于定位样品
  • 样品加载无需额外工具

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电动倾斜旋转样品杆

电动倾斜&旋转样品杆

  • 翻转角度 -10° 至 +45°
  • 连续 360° 压实旋转
  • 由专用运动控制 ProSuite 应用程序控制

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内布罗微粒分散剂

内布罗微粒分散剂

  • 干粉均匀分散的标准方法
  • 避免粒子簇
  • 配合 Phenom 台式扫描电镜使用

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树脂安装插件

树脂安装插件

  • 独特的样品持有人概念
  • 提供适用于支持 25 mm（约 1 英寸）、32 mm （约 1 ¼ 英寸）和 40 mm（约 1 ½ 英寸）直径的标准尺寸样品的 3 种型号

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Standard 样品支架

Standard 样品支架

  • 可分析样品量多达 100 mm x 100 mm 的紧凑型样品台
  • 可以使用 3 种树脂或冶金安装插件进行扩展
  • 配合 Phenom 台式扫描电镜使用

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样品架插件

样品架插件

  • 更快速的涂层和多层样品的交叉成像
  • 无需螺钉或额外工具即可轻松夹紧
  • 无需螺钉和工具即可夹紧样品

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Tensile 样品支架

Tensile 样品支架

  • 确定批次质量
  • 确定生产一致性
  • 帮助设计流程

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温控样品架

温控样品架

  • 温度范围 -25 °C 至 +50 °C
  • 控温准确度： ±1.5 °C
  • 温度显示分辨率为 0.1 °C

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用于将 H2 样式更改为具有 em-h2-header 类 p 的样式表

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